亚洲成年人黄色一级片,日本香港三级亚洲三级,黄色成人小视频,国产青草视频,国产一区二区久久精品,91在线免费公开视频,成年轻人网站色直接看

有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法

文檔序號(hào):8341458閱讀:250來(lái)源:國(guó)知局
有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光原理是基于在外加電場(chǎng)的作用下,電子從陰極注入到有機(jī)物的最低未占有分子軌道(LUMO),而空穴從陽(yáng)極注入到有機(jī)物的最高占有軌道(HOMO)。電子和空穴在發(fā)光層相遇、復(fù)合、形成激子,激子在電場(chǎng)作用下遷移,將能量傳遞給發(fā)光材料,并激發(fā)電子從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)能量通過(guò)輻射失活,產(chǎn)生光子,釋放光能。
[0003]在傳統(tǒng)的發(fā)光器件中,器件內(nèi)部的光只有18%左右是可以發(fā)射到外部去的,而其他的部分會(huì)以其他形式消耗在器件外部,界面之間存在折射率的差(如玻璃與ITO之間的折射率之差,玻璃折射率為1.5,ITO為1.8,光從ITO到達(dá)玻璃,就會(huì)發(fā)生全反射),引起了全反射的損失,從而導(dǎo)致整體出光性能較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于此,有必要提供一種出光效率較高的有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。
[0005]一種有機(jī)電致發(fā)光器件,包括依次層疊的玻璃基底、散射層、陽(yáng)極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層及陰極,所述散射層由第一發(fā)光材料層、金屬氧化物摻雜層和第二發(fā)光材料層組成,所述第一發(fā)光材料層和所述第二發(fā)光材料層材料相同選自4- (二腈甲基)-2-丁基-6- (1,1,7,7_四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9,10-二-β-亞萘基蒽、4,4'-雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,Γ -聯(lián)苯及8-羥基喹啉鋁中至少一種,所述金屬氧化物摻雜層包括第一金屬氧化物及摻雜在所述第一金屬氧化物中的所述第二金屬氧化物,所述第一金屬氧化物的HOMO能級(jí)為-5.2eV?-6.0eV,所述第二金屬氧化物折射率為1.8?2.0。
[0006]所述第一金屬氧化物材料選自三氧化鑰、三氧化鎢及五氧化二釩中至少一種,所述第二金屬氧化物層材料選自氧化鋯、氧化鎂及氧化鈣中至少一種。
[0007]所述第一發(fā)光材料層的厚度為20nm?60nm,所述金屬氧化物摻雜層的厚度為10nm?300nm,所述第二發(fā)光材料層的厚度為2nm?10nm。
[0008]所述金屬氧化物摻雜層中所述第一金屬氧化物與所述第二金屬氧化物的質(zhì)量比為 10:1 ?15:1。
[0009]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法,包括以下步驟:
[0010]在玻璃基底表面蒸鍍制備散射層,所述散射層由第一發(fā)光材料層、金屬氧化物摻雜層和第二發(fā)光材料層組成,在所述玻璃基底表面采用熱阻蒸鍍制備第一發(fā)光材料層,在所述第一發(fā)光材料層表面通過(guò)電子束蒸鍍制備所述金屬氧化物摻雜層,所述金屬氧化物摻雜層包括第一金屬氧化物及摻雜在所述第一金屬氧化物中的所述第二金屬氧化物,所述第一金屬氧化物的HOMO能級(jí)為-5.2eV?-6.0eV,所述第二金屬氧化物折射率為1.8?2.0,接著在所述金屬氧化物摻雜層表面通過(guò)熱阻蒸鍍制備第二發(fā)光材料層,所述第一發(fā)光材料層和所述第二發(fā)光材料層材料相同選自4- (二腈甲基)-2-丁基-6- (1,1,7,7_四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9,10- 二 - β -亞萘基蒽、4,4'-雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,Ρ -聯(lián)苯及8-羥基喹啉鋁中至少一種;
[0011]在所述散射層表面磁控濺射制備陽(yáng)極,所述陽(yáng)極的材料為銦錫氧化物、鋁鋅氧化物或銦鋅氧化物 '及
[0012]在所述陽(yáng)極的表面依次蒸鍍制備穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層及陰極。
[0013]所述第一金屬氧化物材料選自三氧化鑰、三氧化鎢及五氧化二釩中至少一種,所述第二金屬氧化物層材料選自氧化鋯、氧化鎂及氧化鈣中至少一種。
[0014]所述第一發(fā)光材料層的厚度為20nm?60nm,所述金屬氧化物摻雜層的厚度為10nm?300nm,所述第二發(fā)光材料層的厚度為2nm?10nm。
[0015]所述金屬氧化物摻雜層中所述第一金屬氧化物與所述第二金屬氧化物的質(zhì)量比為 10:1 ?15:1。
[0016]所述熱阻蒸鍍方式的工藝具體為:工作壓強(qiáng)為2X10_3?5X10_5Pa,工作電流為IA?5A,有機(jī)材料的蒸鍍速率為0.1?lnm/s,金屬及金屬化合物的蒸鍍速率為lnm/s?lOnm/s,所述電子束蒸鍍方式的工藝具體為:工作壓強(qiáng)為2X10_3?5X10_5Pa,電子束蒸鍍的能量密度為lOW/cm2?lOOW/cm2,有機(jī)材料的蒸鍍速率為0.1?lnm/s,金屬及金屬化合物的蒸鍍速率為lnm/s?10nm/s。
[0017]上述有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法,在陽(yáng)極與玻璃基底之間制備散射層,散射層由第一發(fā)光材料層、金屬氧化物摻雜層和第二發(fā)光材料層組成,第一發(fā)光材料層的發(fā)光材料為熒光發(fā)光材料,且與發(fā)光層的材料一致,可對(duì)發(fā)光光色進(jìn)行補(bǔ)充,提高光色純度,有效提高發(fā)光效率,使發(fā)光顏色穩(wěn)定,衰減速度降低,而金屬氧化物摻雜層由具有空穴注入能力的第一金屬氧化物和具有高折射率的第二金屬氧化物組成,可提高空穴注入效率,高折射率的第二金屬氧化物可降低散射層與陽(yáng)極之間的折射率差,從而有效避免全反射的產(chǎn)生,提高出光效率,第二發(fā)光材料層可以阻擋金屬氧化物摻雜層中的金屬離子向有機(jī)材料處進(jìn)行擴(kuò)散,避免發(fā)生淬滅,進(jìn)一步補(bǔ)充光色,提高發(fā)光效率,從而有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命較長(zhǎng)。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖2為一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)中散射層結(jié)構(gòu)不意圖;
[0020]圖3為實(shí)施例1制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的電流密度與流明效率關(guān)系圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法進(jìn)一步闡明。
[0022]請(qǐng)參閱圖1,一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件100包括依次層疊的玻璃基底10、散射層20、陽(yáng)極30、空穴注入層40、空穴傳輸層50、發(fā)光層60、電子傳輸層70、電子注入層80及陰極90。
[0023]玻璃基底10為折射率為1.8?2.2的玻璃,在400nm透過(guò)率高于90%。玻璃基底10 優(yōu)選為牌號(hào)為 N-LAF36、N-LASF31A、N-LASF41A 或 N-LASF44 的玻璃。
[0024]參考圖2所不散射層20形成于玻璃基底10的一側(cè)表面。散射層20由第一發(fā)光材料層201、金屬氧化物摻雜層202和第二發(fā)光材料層203組成,所述第一發(fā)光材料層201和所述第二發(fā)光材料層203材料相同選自4- (二腈甲基)-2-丁基-6- (1,1,7,7_四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(0(:1^)、9,10-二-3-亞萘基蒽(40幻、4,4'-雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)_1,I'-聯(lián)苯(BCzVBi)、8_羥基喹啉鋁(Alq3)中至少一種,所述金屬氧化物摻雜層202包括第一金屬氧化物及摻雜在所述第一金屬氧化物中的所述第二金屬氧化物,所述第一金屬氧化物的HOMO能級(jí)為-5.2eV?-6.0eV,所述第二金屬氧化物折射率為 1.8 ?2.0。
[0025]所述第一金屬氧化物材料選自三氧化鎢(WO3)及五氧化二釩(V2O5)中至少一種,所述第二金屬氧化物層材料選自氧化鋯(Zr02)、氧化鎂(MgO)及氧化鈣(CaO)中至少一種。
[0026]所述第一發(fā)光材料層201的厚度為20nm?60nm,所述金屬氧化物摻雜層202的厚度為10nm?300nm,所述第二發(fā)光材料層203的厚度為2nm?10nm。
[0027]所述金屬氧化物摻雜層202中所述第一金屬氧化物與所述第二金屬氧化物的質(zhì)量比為10:1?15:1。
[0028]陽(yáng)極30形成于散射層20的表面。陽(yáng)極30的材料為銦錫氧化物(ΙΤ0)、鋁鋅氧化物(AZO)或銦鋅氧化物(ΙΖ0),優(yōu)選為ΙΤ0。陽(yáng)極30的厚度為80nm?300nm,厚度優(yōu)選為10nm0
[0029]空穴注入層40形成于陽(yáng)極30的表面??昭ㄗ⑷雽?0的材料選自三氧化鑰(Mo03)、三氧化鎢(WO3)及五氧化二釩(V2O5)中的至少一種,優(yōu)選為Mo03??昭ㄗ⑷雽?0的厚度為20nm ?80nm,優(yōu)選為 40nm。
[003
當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 4 
網(wǎng)友詢(xún)問(wèn)留言 已有0條留言
  • 還沒(méi)有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
1