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形成觸頭的方法和裝置的制作方法

文檔序號:6802488閱讀:275來源:國知局
專利名稱:形成觸頭的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電太陽電池,特別涉及在電池的前輻射接收面上觸頭(電極)的形成。
光電太陽電池主要包括一種導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底,在靠近其前表面處形成了一淺P-N結(jié)。電池的前面和后面要有電觸頭(也稱為“電極”),當它們曝露在太陽輻射下時就能從電池獲取電流。太陽電池前面的觸頭通常是網(wǎng)格形式的,包含多個單向延伸的窄的、細長的平行指狀物和至少一個以直角和指狀物相交的細長匯流排。指狀物的寬度、數(shù)目和間隔被這樣設(shè)置以便將電池前表面的最佳區(qū)域曝露在入射的太陽輻射之下。
為了改善電池的轉(zhuǎn)換效率,在電池的前面設(shè)置了由諸如氮化硅或硅和鈦的氧化物組成的薄的抗反射層??狗瓷鋵涌稍谛纬呻姌O之前或之后再加上去。
希望廣泛地使用太陽電池,但卻受到了成本、可靠性和效率的制約。襯底的特性和各個處理步驟和參數(shù)的相互關(guān)系使以能被接受的價格提供具有長可靠性的有效率電池的各種努力復(fù)雜化了。例如,為了努力降低太陽電池的成本,認為需要使用相對低廉的多晶帶狀物或薄片材料,不用單晶硅。因此就致力于發(fā)展利用多晶的EFG生長的硅襯底就可以生產(chǎn)有效率和可靠的太陽電池的加工技術(shù)。然而,EFG襯底往往具有表面不均勻性,在其表面上還可能有碳化硅顆粒。因此,為了提高電池的容量和效率,生產(chǎn)對表面不均勻性不敏感的電觸頭的方法是很重要的。形成前后觸頭的步驟是制造過程中關(guān)鍵的一部分。觸頭必須能被相對便宜地形成而不造成易碎的EFG襯底的外觀損傷以及P-N結(jié)或電池性能的損壞。
使用了各種材料作為光電太陽電池的電觸頭,最常用的是鋁、銀和鎳。硅太陽電池的通常結(jié)構(gòu)是后觸頭使用鋁而前觸頭使用銀。
形成網(wǎng)格電極的一種現(xiàn)有技術(shù)是將一種導(dǎo)電金屬糊以一種明確規(guī)定的網(wǎng)格圖形加到襯底的前表面,燒制該金屬糊以便形成粘接式歐姆電觸頭,然后將抗反射層涂到太陽電池的前表面。另一通用過程是首先形成前表面的抗反射層,然后腐蝕掉該層的一部分以便露出網(wǎng)格電極圖形的襯底前表面部分,此后在前表面的已經(jīng)腐蝕掉抗反射層的區(qū)域內(nèi)沉積或另外形成前觸頭。
另一種稱為“燒穿”(“fired through”)的方法由以下步驟組成(1)在太陽電池的前表面形成抗反射層,(2)將金屬/玻璃的熔融印劑或糊劑以相應(yīng)于所需網(wǎng)格電極結(jié)構(gòu)的預(yù)定圖形涂到抗反射層上,以及(3)用一定的溫度燒制糊劑足夠的時間以便使金屬/玻璃混合物熔化抗反射層、與在下面的襯底的前表面形成歐姆觸頭。形成觸頭的“燒穿”法見1989年12月14日公開的PCT專利申請WO-89/12321,上述專利申請是以杰克·漢諾克(Jack·Hanoka)于1988年6月10日的美國專利申請205,304、名稱為“制造太陽電池觸頭的改進的方法”(代理記錄號為MTA-69)為基礎(chǔ)的。利用抗反射介質(zhì)層燒制金屬觸頭的概念在由Y·那格哈勒(Y·Nagahara)等人獲得的名為“具有金屬糊觸頭的太陽電池”的美國專利4,737,197中也已披露。
薄膜和厚膜技術(shù)均已被用來形成太陽電池的電觸頭。薄膜制造技術(shù)包括汽相淀積、濺射和無電噴鍍。薄膜制造技術(shù)允許形成純金屬觸頭,結(jié)果是這些觸頭顯示出良好的電特性。然而,薄膜制造技術(shù)成本高或具有環(huán)境問題。
厚膜技術(shù)涉及使用合適的糊劑或粘性印劑在襯底上形成相對厚的含金屬膜,然后燒制該膜以便制造出被牢固地粘接到襯底的導(dǎo)電層。網(wǎng)板印刷、填充印刷以及被稱為“直接寫”的技術(shù)都是在半導(dǎo)體襯底上形成厚膜元件的方法。
在本發(fā)明以前商業(yè)上已使用的“直接寫”系統(tǒng)的代表是由美國紐約的匹茨福德(pittsford)公司以商標Micropen銷售的“Micropen”機床,它顯然是根據(jù)1984年11月27日頒發(fā)給卡爾·E·德姆赫勒(Carl E.Drumheller)的名為“生產(chǎn)電路圖形的印制系統(tǒng)”的美國專利4,485,387所描述的寫設(shè)備而制成的。雖然這種系統(tǒng)能夠在彎曲和不規(guī)則的襯底上寫網(wǎng)格圖形,但由于各種原因,它們不能很好地在生產(chǎn)線基礎(chǔ)上形成太陽電池的網(wǎng)格觸頭,包括不能使指狀物的高寬比(高寬比是指指狀物的高度與指狀物的寬度之比)最佳,不能有效地降低制造太陽電池的成本和由于設(shè)備的復(fù)雜性而帶來的高基建設(shè)備費用,這些設(shè)備包括計算機控制和用于提高實時動態(tài)筆尖位置控制的軟件。另外,當在具有由于碳化硅顆粒引起的諸如波紋及傷痕的表面不均勻性的多晶襯底、例如EFG生長的硅襯底上形成觸頭時,還存在其它的一些限制。
主要應(yīng)考慮發(fā)展一種形成觸頭的技術(shù),這種技術(shù)能在成批生產(chǎn)過程中被采用。理想的形成觸頭的過程應(yīng)是連續(xù)的而不是間歇式的。
太陽電池工作者的長期目標是獲取形成具有高和窄指狀物的前網(wǎng)格型觸頭的能力。制造窄的指狀物是想使光的陰影部分減至最小(即使太陽電池的前表面盡可能多地面對太陽輻射)。希望增加指狀物的高度而不相應(yīng)地增加其寬度,這樣就可使指狀物的載流能力最大。另外一個長期目標就是減少制造網(wǎng)格觸頭的成本。該目標包括增大形成觸頭的速度這樣一項任務(wù)。當可利用一次操作來形成觸頭時,匯流排和指狀物元件寬度和性能方面的差異使得可以用兩個獨立的操作形成匯流排和指狀物。利用諸如網(wǎng)板印刷或填充印刷的各種技術(shù)能夠令人滿意地形成合適的匯流排。由于不降低電極質(zhì)量或可靠性而使指狀物具有窄而最佳的寬度是重要的,因此指狀物元件的形成就是限制網(wǎng)格觸頭形成速度的主要因素。
本發(fā)明的主要目的就是提供一種用于在太陽電池上形成網(wǎng)格觸頭的改進的方法和裝置。
本發(fā)明的另一個主要目的就是為半導(dǎo)體器件提供一種形成網(wǎng)格形電觸頭的窄指狀物元件的改進的方法和裝置。
本發(fā)明再一個主要目的就是提供一種用于生產(chǎn)太陽電池的改進的方法和裝置。
另一個目的是提供一種用于在半導(dǎo)體襯底上直接寫電子電路的改進的裝置,特別是在太陽電池襯底上直接寫網(wǎng)格電極的改進的裝置。
再一個目的就是提供一種利用粘性印劑在諸如太陽電池坯料的襯底上直接寫窄線電路元件的改進的方法和裝置,該方法和裝置不必使用可垂直移動的印劑分送筆,在美國專利4,485,387中,可垂直移動的涂料分送筆相對襯底的垂直位置受到作用在印劑上的粘滯力的影響。
更專門的目的就是提供一種用于在諸如太陽電池坯料的襯底上直接寫粘性含金屬的印劑的窄線的改進的方法和裝置,其特征是隨著筆和襯底之間的距離大大地超過將要被寫在襯底上的印劑線的高度時,使用安裝在襯底上方固定高度處的印劑分送筆。
另一個目的就是提供一種利用粘性印劑在太陽電池坯料上直接寫觸頭的改進的方法和裝置,在該方法和裝置中,當坯料和筆的相對運動平行于襯底平面時,在筆和坯料之間形成粘性印劑的懸垂線。
另一個重要目的就是提供具有網(wǎng)格觸頭的太陽電池,該網(wǎng)格觸頭含有具有高的高寬比的指狀物元件。
以后將會清楚的這些和其它的目的都是通過下面將要敘述到以及權(quán)利要求中的方法和裝置來實現(xiàn)的,該方法和裝置主要利用一個分送筆尖將粘性印劑分送給一個被選擇的水平方向排列的半導(dǎo)體襯底上,這樣,排放的印劑就在襯底上形成了一條帶狀物或線,由于筆尖離襯底足夠遠,它就不與所堆積的條狀物或線接觸。


圖1A-1F表示了現(xiàn)有技術(shù)直接寫系統(tǒng)的工作方式。
圖2是X-Y平移工作臺的簡單透視圖,它包含了本發(fā)明的裝置的一部分。
圖3是與根據(jù)本發(fā)明而設(shè)置的印劑分送系統(tǒng)相關(guān)的圖2的X-Y平移工作臺的側(cè)視圖。
圖4是表示兩行太陽電池坯料是如何安放在圖2所示的X-Y平移工作臺上的平面圖。
圖5表示利用圖2和圖3所示裝置印刷了網(wǎng)格電極指狀物元件后的相同的太陽電池坯料。
圖6是表示利用本發(fā)明制造的網(wǎng)格電極的太陽電池坯料的平面圖。
圖7是表示根據(jù)本發(fā)明印劑是如何被分送給襯底的側(cè)視圖。
圖8是本發(fā)明一改進的簡略透視圖。
圖9是類似于圖8的簡略透視圖,它表示了在圖9系統(tǒng)中印劑筆是如何在一定角度上取向的,以便能便利地在襯底上寫網(wǎng)格電極元件。
這里所用的術(shù)語“太陽電池坯料”表示具有一個在靠近其一個表面處形成的淺P-N結(jié)的半導(dǎo)體襯底,該表面不被覆蓋或被覆蓋一絕緣層、例如由氮化硅或硅和鈦的氧化物等材料制成的抗反射層所覆蓋。舉一個不限制本發(fā)明范圍的例子,一個太陽電池坯料可以由一個P型導(dǎo)電性的EFG生長的硅襯底組成,該襯底具有設(shè)置于距其前表面約5微米處的P-N結(jié),該前表面涂覆有厚約800埃的氮化硅。
另外,這里所使用的術(shù)語“帶狀物”和“線”被用來對裝入太陽電池坯料的印劑和被傳送給筆尖并由筆尖分送出的印劑束進行區(qū)分的。
本發(fā)明基于以下一種設(shè)想,即利用直接寫原理和可燒制的金屬/玻璃熔融糊劑或印劑在太陽電池坯料上形成網(wǎng)格電極。但是,雖然本發(fā)明主要是用來形成網(wǎng)格型前太陽電池觸頭薄的細長的指狀物元件,但應(yīng)當理解也可以被用來形成用于其它半導(dǎo)體器件的網(wǎng)格觸頭或電路元件的相對寬的匯流排元件。
由美國專利4,485,387披露的直接寫系統(tǒng)包括一個具有預(yù)定外直徑(“O.d.”)的筆尖的印劑分送器(“筆”)和預(yù)定直徑的寫排放筆(通常是O.d.的一半),它被安裝成通過電磁轉(zhuǎn)換器能夠進行相互垂直的運動。在其上將被印制電路或電路元件的襯底或其它樣片被水平地安放在位于印劑分送器下方的X-Y平移工作臺上。X-Y工作臺使襯底或其它樣片水平運動,這樣一來,筆尖就可以在X或Y方向上有選擇地進行寫。該筆可在系統(tǒng)的計算機、電磁轉(zhuǎn)換器和其它機件的控制下沿垂直(Z)軸運動。印劑在泵的壓力作用下進行分送,它的流變特性如下當它接觸襯底時將形成一條窄的條狀物或線。在寫操作期間,筆懸浮在分送的印劑條狀物或線上而移動。由于襯底和筆在X-Y方向上作相對運動,筆就根據(jù)襯底的不平度向上和向下運動。這種運動被傳送給一紅外檢測器,該紅外檢測器接下來就要產(chǎn)生一個將要施加給電磁轉(zhuǎn)換器的電信號,以便使它向筆提供一個更強或更弱的力,以達到保持印劑中筆的壓力和排放到襯底上的印劑的厚度恒定的目的。
圖1A-1F示出了諸如采用了在美國專利4,485,387中所披露的發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)的直接寫設(shè)備的工作方式。圖1A中,筆2位于安放在X-Y定位工作臺(未示出)上的襯底4的上方,通過印劑泵壓系統(tǒng)(也未示出)將印劑排放給筆,這樣,它將不滴漏。在圖1B中,筆下降到與襯底非常接近的位置,筆的位置由系統(tǒng)指出。與此同時,印劑分送泵(未示出)工作以便分送印劑。在圖1C中,印劑從筆中流出,從而使筆上升。反饋控制筆定位系統(tǒng)指出筆的上升位置,然后將一個預(yù)定的垂直方向的力施加到筆上。在圖1D中,根據(jù)需要,X-Y工作臺沿X或Y軸開始運動,調(diào)節(jié)泵速使筆寫一條線或條狀物10。當寫完成時(圖1E),工作臺停止運動,關(guān)閉泵。此后,如圖1F所示,筆抬起,印劑被吸入筆尖以便避免印劑的任何滴漏。
在前面的過程中,除了在開始寫(圖1B)之前,筆不直接接觸襯底。然而,一旦寫開始了,筆就懸浮在擠出的印劑的條狀物或線10的表面之上。
對于用圖1A-1F舉例的通常的直接寫系統(tǒng),由于筆尖與在襯底上形成的印劑條狀物是直接接觸的,所以設(shè)置在襯底上的條狀物或線的寬度(水平尺寸)至少部分是由(1)筆尖的外直徑(O.d.)和(2)由筆尖施加給那條條狀物的壓力而決定的。印刷出的條狀物或線的高度一部分是由印劑粘度決定的,一部分是由筆尖懸浮在印劑的印刷出的條狀物或線的上方這一事實決定的。
雖然筆尖可以由諸如礬土的陶瓷或金屬或諸如碳化鈦、碳化鎢和不銹鋼的金屬合金來制造,但商業(yè)上使用的直接寫系統(tǒng)一般使用由諸如礬土的陶瓷制成的中空筆尖,這是由于其成本低并能經(jīng)受印劑分送過程中的磨損。筆尖被磨成一個尖端,然后它的端點被磨平以便得到所需要的O.d.。為了形成具有指狀物寬度在0.003-0.010英寸范圍內(nèi)的網(wǎng)格觸頭的薄的指狀物元件,筆的O.d.應(yīng)為3-10密耳(0.003-0.010英寸),在這種情況下,排放孔的直徑一般為2.0-6密耳的量級。這些小直徑筆尖很容易損壞。因此,假如當陶瓷筆尖或管咀在硅襯底上寫網(wǎng)格線時遇到了一個碳化硅顆粒,那么,碳化硅極強的硬度將使筆尖部分折斷,結(jié)果,是使筆尖的效果減少甚至報廢。此外,盡管這種機床可以以相對高的速度、即每秒4英寸的速度去寫窄的指狀物,但如果在坯料上已經(jīng)預(yù)先印刷了匯流排的話,問題就出現(xiàn)了。在這種情況下,為了避免下述的“線跳躍”,就必須把寫的速度減少到每秒0.5英寸或更小。
使用圖1A-1F所示的工作方式的直接寫系統(tǒng)在EFG硅太陽電池坯料上形成網(wǎng)格電極元件的主要問題在于當寫速度為每秒1.0英寸或更高時,由諸如在坯料上的碳化硅尖峰形成的波紋和表面的凹凸不平可能引起筆的跳動。當筆跳動時,它可以引起印劑束截面的收縮,使印劑束短暫斷裂,筆就在該坯料上寫了一條不連續(xù)的線,這就是“線跳躍”。另外,筆的跳動可以使得印劑截面收縮,使包括線寬度在內(nèi)的條狀物的橫截面積減少。
圖1A-1F所示類型的直接寫系統(tǒng)受到上述缺陷的影響,每次只能寫一條線也是它的缺陷之一。
以圖1A-1F所示方式工作的直接寫系統(tǒng)的另外一個問題是每當對機床的設(shè)置作出任何改變、例如印劑或筆尖的改變時,必須對當筆尖在印劑表面上運行時控制對筆尖的作用力的電磁轉(zhuǎn)換器進行校正。
圖2簡略示出了適用于本發(fā)明的通常的X-Y轉(zhuǎn)換工作臺。該X-Y轉(zhuǎn)換工作臺包括安放在支撐件12上作直線運動以便在所稱的Y軸方向上平移的底盤或第一工作臺件14。工作臺件14和支撐件12間的連接使得在允許沿Y軸移動時禁止沿X軸的任何相對運動。底盤14由一個合適的轉(zhuǎn)換機構(gòu)控制,該機構(gòu)被簡單表示為傳動機構(gòu)16,它具有一個連接到工作臺件14的操作軸或聯(lián)接桿18。安裝并連接到底盤14的是上工作臺件20,它帶有一個工件支撐板22,該板上放置用于直接寫操作的太陽電池坯料(襯底)50(圖4)。對支撐板22提供合適的鉸鏈裝置(未示出)以便在沿其X軸和Y軸的預(yù)定位置上可釋放地固定一個或多個太陽電池坯料。這樣安裝上工作臺件20以便能夠被固定而不作沿Y軸的任何相對運動時,能沿X軸作相對于底盤14的直線運動。上工作臺件20的運動由簡單表示為傳動機構(gòu)24的合適的平移機構(gòu)來實現(xiàn),該傳動機構(gòu)24具有連接到上工作臺件20的連接桿或操作軸26。根據(jù)它們是如何連接到上和下工作臺件20和14,傳動機構(gòu)16和24可以采取各種形式。因此,例如,傳動機構(gòu)16和24可以是電馬達,這些電馬達借助這樣設(shè)置的螺旋機構(gòu)連接到上和下工作臺件上,當馬達軸沿一個或另一方向旋轉(zhuǎn)時,軸或桿18和26也將運動,從而使工作臺件14或20分別沿X軸和Y軸往復(fù)運動。由于X-Y轉(zhuǎn)換工作臺是國際貿(mào)易的老產(chǎn)品,所以,用于有選擇地使工作臺件14和18運動的其它合適的機構(gòu)對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是熟知的。
圖3示出了該裝置的基本配置,它構(gòu)成了本發(fā)明的一部分并在本發(fā)明的實施中得到了使用。所示裝置包括一個正位移泵30,該泵30被以機械方式連接到一個注射型印劑進料機構(gòu),該機構(gòu)包括一個與用作印劑供給庫的注射筒或缸34中成嵌套關(guān)系而設(shè)置的注射滑閥或活塞32。缸34中充滿印劑,這些印劑包括被選擇的金屬例如銀和半熔的玻璃原料的微小顆粒以及液體載體,金屬和半熔的玻璃原料的顆粒浸布在該液體載體中。缸34是通過導(dǎo)管36連接到微型過濾器38上的,微型過濾器38又連接到通一斷閥門40。后者又通過合適的導(dǎo)管連接到空心筆尖42上。微型過濾器38和筆尖42之間的距離應(yīng)保持相對短,最好不超過2-3英寸。上述裝置被安置在如44簡略所示的合適的支撐件上。上述支撐件44夾緊筆尖以防止沿X、Y和Z軸的自由運動。然而,該支撐件可以包含調(diào)節(jié)機構(gòu)(未示出)以便允許筆的位置至少沿Z軸(垂直軸)作有選擇的調(diào)節(jié),由此,根據(jù)需要可改變筆尖和在X-Y工作臺部件上放置的太陽電池坯料之間的距離。支撐件最好還包含其它的調(diào)節(jié)機構(gòu)(未示出),以便允許筆的位置相對X-Y工作臺部件作沿X和Y軸的水平調(diào)節(jié)以達到初始定位的目的。筆尖42的排放端安放在襯底上方預(yù)定距離處,而襯底由工件支撐板22支撐。最好這樣安放筆使其排放端和在工件支撐板22上的太陽電池坯料之間有0.25英寸到0.75英寸的間距。但是,筆尖可以設(shè)置離太陽電池坯料0.10英寸那么近,也可離1.0英寸那么遠。
已知為了寫具有非常小的線寬、例如線寬小于0.010英寸的指狀物,必須使用最大顆粒尺寸為10-20微米同時具有所需的電特性的印劑。然而,當使用最大顆粒尺寸約為10-20微米的導(dǎo)電印劑(諸如銀或鎳印劑)去寫0.003-0.010英寸寬的指狀物時,就有可能使印劑堵塞筆的排放孔。
主要的堵塞似乎是由于印劑中顆粒的集結(jié)并形成尺寸或超過筆尖排放孔直徑的顆粒串所造成的。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)堵塞問題可以通過使用合適的微型過濾器38來減少或基本上得到消除。
各種商業(yè)上可用的過濾器均可用作過濾器38。例如,過濾器38可以是包括燒結(jié)金屬過濾器元件或金屬篩網(wǎng)的過濾器。為了生產(chǎn)如圖6所示的具有0.010英寸或更小線寬度的微線網(wǎng)格觸頭指狀物元件,過濾器應(yīng)有微孔,使其能夠濾除超過40-140微米的顆粒。這種過濾器的優(yōu)點是它引起粘性印劑的剪切修磨,而這種剪切修磨能夠減少印劑的堵塞頻率。
雖然可以每次使用一支筆在單個的太陽電池坯料上進行寫操作來實施本發(fā)明,但是希望可以用兩支或更多的筆在兩個太陽電池坯料上同時寫網(wǎng)格觸頭指狀物元件,在這種情況下,工作臺就必須大到能支撐兩列或多列太陽電池坯料(如圖4所示)以便能夠同時在每列太陽電池坯料上印刷網(wǎng)格電極指狀物元件。因此,可以通過提供包括泵30A、活塞32A、缸34A、導(dǎo)管36A、過濾器38A、通一斷閥門40A和筆尖42A的第二套類似的印刷印劑分送裝置來對該裝置進行改進(如圖3虛線所示)。
在4表示了在支撐板22上沿X-Y工作臺X軸方向以兩個單獨行形式設(shè)置的兩行硅太陽電池坯料50A-D和50E-H。當使用如圖4所示的兩行電池坯料和如42及42A所示的兩支筆時,筆和電池坯料被隔開,這樣就可以同時在兩個電池的相同位置處印刷指狀物。
在本發(fā)明的實施中,希望印劑分送系統(tǒng)可以持續(xù)地分送印劑,不要在一個指狀物元件印刷完后和開始印刷下一個指狀物元件之間有中斷。在這樣的結(jié)構(gòu)中,當網(wǎng)格印刷操作暫停或結(jié)束時,通一斷閥門40和40A僅僅被用于終止印劑的流動。每一行中的太陽電池坯料可以設(shè)置成彼此靠近(如圖4所示),也可以彼此分隔開來。在后一種情況下,雖然未示出,但可以認為合適的印劑阻礙掩膜可以相對于太陽電池坯料進行安放,以便將寫操作限制在坯料中,并避免持續(xù)流動的印劑流到坯料支撐件22或X-Y工作臺上。
就圖2-5而言,配置了兩支筆42和42A,這樣,利用位于預(yù)定的“起始”位置的X-Y工作臺,筆42和42A發(fā)送的印劑就分別在相應(yīng)于第一和第二行50A-D和50E-H內(nèi)的太陽電池坯料上同時形成指狀物。當Y工作臺件14被安置在它的可能移動通路中的一個末端而X工作臺件20被安置在它的可能移動通路中的一個末端時,X-Y工作臺被認為位于“起始”位置。當從兩支筆尖42和42A發(fā)放印劑時,X工作臺件20沿X軸向第一方向運動,由于其運動足夠大使得由筆在四個電池坯料50A-50D中的每一個上面印刷指狀物元件23,并由筆42A在電池坯料50E-50H中的每一個上面印刷類似的指狀物元件23。最好如圖5所示,指狀物延伸到太陽電池坯料的全長(應(yīng)當指出,如果指狀物在不到坯料的一個或兩個邊緣處就結(jié)束了,那么就應(yīng)當使用掩膜去避免印劑在那些邊緣區(qū)域的排放)。當X工作臺件20到達所述第一方向行程的終點并在開始其第二相反方向的返回行程以前,Y工作臺件14沿Y軸方向轉(zhuǎn)移一個等于指狀物間所需間隔的距離,然后,X工作臺件20以第二相反方向返回到它的最初起始位置,使兩支筆在電池50A-H中的每一個上面形成第二個指狀物元件。當X工作臺件已經(jīng)返回到它的原始位置并在開始重復(fù)其第一方向行程以前,Y工作臺件第二次沿Y軸轉(zhuǎn)移一個等于指狀物間所需間隔的距離,然后,X工作臺件再次開始其第二相反方向的行程以便遠離起始位置,從而使筆在電池坯料50A-H的每一個上面形成第三指狀物元件。如圖5所示,在沿太陽電池坯料的整個寬度(Y維)上預(yù)定數(shù)目的指狀物被形成以前將重復(fù)上述過程。
如圖6所示,太陽電池坯料50上還具有一對匯流排27,其寬度要遠比指狀物元件23寬得多。在與寫指狀物操作獨立的操作中形成匯流排??梢杂酶鞣N方式,例如直接寫方法、絲網(wǎng)印刷法或填充印刷法來形成匯流排。
雖然在指狀物形成之后去印刷匯流排是可能的,但根據(jù)本發(fā)明,最好是在形成指狀物以前進行匯流排的印刷。若使用例如美國專利4,485,387所披露的那種機床來形成匯流排,那么在指狀物以前形成匯流排是危險的。那程機床可以編程,從而寫多個相互重疊的窄的平行印劑線,最終形成相對較寬的匯流排。但是,由于那種機床對襯底表面高度的不平度很敏感,所以,除非在指狀物形成之前寫匯流排,利用它來形成匯流排是不實際的。其原因在于若首先形成指狀物,系統(tǒng)將不得不以相對緩慢的速度進行工作,以便使筆尖控制系統(tǒng)有足夠的時間檢測由于指狀物的出現(xiàn)所引起的高度變化,使當它經(jīng)過每一指狀物時允許它將筆尖提升和降低,避免筆尖對指狀物的損壞。
盡管對于某些用途而言,大于0.010英寸的指狀物寬度是可以接受的,但最好匯流排的寬度在0.030-0.050英寸范圍內(nèi),指狀物的寬度范圍在0.003-0.010英寸之間。這樣選擇指狀物的間隔以便在指狀物的遮蔽效果和它們的載流能力之間提供最佳的折衷。
現(xiàn)在參見圖7,本發(fā)明的一個主要方面就是能夠用前所未有的大得多的高寬比寫電路元件。如上所述,在利用例如美國專利4,485,387中披露的那種機床進行印刷時,沉積到襯底的印劑的高度受到筆尖是與襯底上的印劑條狀物接觸并對該印劑條狀施加了一個向下的力這一事實的影響。因此,當印劑條狀物從筆下流出時,反之亦然,該條狀物呈現(xiàn)的形狀是由印劑的表面張力、筆尖的O.d.、印劑與襯底或太陽電池坯料之間的接觸角以及在擠壓過程期間由筆尖施加的壓力引起的印劑指狀物的變形來確定的。本發(fā)明涉及了不同的施加印劑現(xiàn)象。就本發(fā)明而言,筆尖42位于太陽電池坯料50上方的一固定高度上,該固定高度大大地超過了被排放在襯底上以便形成指狀物23的條狀物10A的高度,這樣,筆尖就不會對印劑條狀物施加任何類型的向下的力。相反,由于筆尖與襯底被隔開來,在筆尖42和條狀物10A之間產(chǎn)生了一定形狀的印劑懸垂線80。
印劑懸垂線80的形狀由下述因素確定(a)脫離筆尖的印劑的速度,(b)襯底相對筆運動的速度,(c)筆尖相對襯底的高度和(d)印劑的粘彈性能。
在筆尖和襯底之間延伸的被擠出的印劑束具有類似于懸垂線的形狀這一事實的意義在于它允許印刷的線或條狀物的橫截面主要由接觸角和印劑的粘彈性能來確定,結(jié)果就是本發(fā)明使形成的指狀物23的高一寬比最大。
作為比較,若使用Ferro公司商業(yè)上可用的產(chǎn)品號為3349的銀印劑并使用“麥肯羅奔”(Micropen)機床和圖2、3和7所示的裝置寫寬度為0.0075英寸的指狀物,由于筆尖42被安放在距太陽電池坯料上方0.25-0.75英寸范圍的距離處,所以,由“麥肯羅奔”(Micropen)機床所產(chǎn)生的指狀物(條狀物10)的高度約為12微米,而由筆42所產(chǎn)生的指狀物(條狀物10A)將具有約18-20微米的高度(注意,如下面將要敘述的,上述高度是在指狀物被燒制之后的值)。由于較厚(“高度”方向)的指狀物具有較大的載流能力,因此,由本發(fā)明形成的指狀物的較大的高度比是很有益的。
上述比較是根據(jù)使用室溫狀態(tài)下的印劑進行的。但是,已經(jīng)發(fā)現(xiàn),如果銀印劑被加熱,那么還可以相當大地增大高寬比。加熱可以通過使用電加熱器(未示出)加熱缸34或?qū)Ч?6中的印劑來完成。加熱器可以采用環(huán)繞缸34或?qū)Ч?6的電加熱線圈或中空電加熱器的形式。例如,如果相同的Ferro的3349號銀印劑在從筆尖42排放出來以前被加熱到約45-50℃,那么燒制以后的指狀物的高度比將會增加,這樣,指狀物的高度將約是50微米或更高。由于印劑的有機載體的特性顯示的原因,加熱印劑最好不要高于50-60攝氏度。但是,可以相信,根據(jù)印劑的成份,也可以使用超過60℃的溫度。
圖8簡單示出了本發(fā)明采用連續(xù)生產(chǎn)的概念的改進。在這一特定實施例中,在直接寫指狀物操作期間用傳送帶型輸送機傳送太陽電池坯料50。輸送機包括滾軸82,其上繞有由適當材料制成的延伸輸送帶84,該輸送帶被輸送并繞到第二滾軸86上。另外,該輸送帶可以由合適材料的環(huán)形帶來取代,這條環(huán)形帶由一對相當于滾軸82和86的滾軸支撐。在上述任一情況下,輸送帶或環(huán)形帶都可以寬到只支撐一行太陽電池坯料;另外,它也可以造得寬到容納沿縱向延伸的兩行或多行太陽電池坯料,就象圖4所示的雙行一樣。滾軸86被連接到合適的單向驅(qū)動系統(tǒng)90,該系統(tǒng)使?jié)L軸86以可控速度旋轉(zhuǎn)。如果需要,滾軸82可由與驅(qū)動系統(tǒng)90同步工作的第二驅(qū)動系統(tǒng)(未示出)驅(qū)動。
在該特定實施例中,在橫跨輸送機的寬度上、即太陽電池坯料的“Y”維上設(shè)置了多個印劑寫分送器或筆92,每個坯料都經(jīng)過預(yù)處理使其具有如圖6或圖8所示的兩個匯流排27。每支筆92都被連接到一個合適的印劑供給系統(tǒng),例如如圖3所示的系統(tǒng)。假設(shè)向每個太陽電池坯料提供包括由圖6所示的一對交叉匯流排27連接的“N”個指狀物23(這里“N”是整數(shù))的網(wǎng)格電極,那么,當該電池在筆尖下由輸送帶使其向前移動時,圖8所示裝置應(yīng)具有“N”個設(shè)置在輸送帶上方的印劑分送機構(gòu)以便在每個太陽電池坯料50上形成等間距指狀物。若該輸送帶寬到足以容納兩行太陽電池坯料,那么就要提供兩列相同的印劑分送筆92,這樣就可以在橫跨該輸送帶寬度上逐個安放的電池坯料上同時寫“N”個指狀物。
在圖8所示裝置中,可以設(shè)想輸送帶將以一預(yù)定的恒速運轉(zhuǎn),由于在Y方向上印劑的分送受到筆尖的固定位置的限制,所以不需要任何掩膜就可以完成印刷。當輸送帶被傳送時,印劑將沿與X軸平行的直線連續(xù)地被分送,形成平行指狀物元件。如果太陽電池坯料如所示那樣彼此分開,那么一些印劑就會落在相鄰坯料間縫隙處的輸送帶上。但若太陽電池坯料彼此緊靠,實際上就不會有印劑接觸輸送帶??梢栽O(shè)想輸送機84是一種開放的網(wǎng)格材料,這樣多余的印劑可以經(jīng)由輸送機落入印劑收集系統(tǒng)(未示出)以達到廢料收集的目的。
很明顯,在印刷匯流排元件前印刷指狀物時可以使用圖8所示的裝置。但是,如圖8所示,為了處理的方便以及上述的其它原因,最好是先印刷匯流排。應(yīng)當指出在這一順序中,在印刷其它元件前可以對先印刷的元件(匯流排27或指狀物23)進行干燥。但是,由于濕的指狀物更容易受到由誤操作引起的致命損傷,所以處理帶有濕匯流排的太陽電池坯料比處理帶有濕指狀物的坯料要容易。因此,假如先印刷匯流排,那么在匯流排被干燥前可以寫指狀物,以便節(jié)省時間和成本。
圖8所示裝置具有可以分批或連續(xù)完成網(wǎng)格電極指狀物元件的印刷的優(yōu)點。
圖9示出了圖8所示裝置的改進。在這一場合中,印劑分送筆92是傾斜的,這樣一來,當太陽電池坯料被輸送機的輸送帶或環(huán)形帶84沿X軸傳送時,它們的底部印劑排放端就沿著太陽電池坯料運動的方向引導(dǎo)它們的頂端。如所示的那樣,在仍然保持印劑懸垂線的同時,將筆傾斜使其更靠近太陽電池坯料。
如上所述,太陽電池在其前面可以具有抗反射層,而印劑可被施加到這一層以便此后燒穿這一層,與在下面的硅襯底形成歐姆觸頭。
用于形成前網(wǎng)格觸頭的印劑可以是商業(yè)上可得到的產(chǎn)品。在實施本發(fā)明中被認為是有用的印刷印劑包含預(yù)定濃度的所需金屬例如銀或鎳的顆粒、半熔的玻璃原料和載體,載體含有有機熱分解粘合劑和最好是具有相對低的沸點的有機溶劑,這樣它就可以在例如70℃的相對低的溫度下被蒸發(fā)??梢允褂矛F(xiàn)有技術(shù)領(lǐng)域中技術(shù)人員公知的各種粘合劑,包括聚合材料。例如,粘合劑可以是乙基纖維素。各種材料都可用作溶劑,包括但不限于萜品醇或二甘醇(二甘醇單乙基醚)。
本發(fā)明最好使用包含重量百分率(Wt.%)在約50和75之間的金屬顆粒和重量百分率(Wt.%)在約4和約15之間的半熔玻璃原料的印劑或糊劑,印劑的其余部分由有機載體組成。在室溫下,印劑可以具有800-10000泊范圍的粘度。這種性質(zhì)的印劑有時被稱之為融變粘膠或偽塑性材料。
印劑中使用了鉛硼硅化玻璃或鉛硅化玻璃制品。在鉛硅化玻璃的情況下,玻璃制品包含5-80重量百分率的鉛和高達40重量百分率的二氧化硅,而在鉛硼硅玻璃的情況下,包含5-80重量百分率的鉛、1-40重量百分率的二氧化硅和1-30重量百分率的氧化硼。所用的玻璃制品最好是鉛硼硅化玻璃。
除了影響印劑粘彈性能外,粘合劑和溶劑的性質(zhì)對本發(fā)明不是關(guān)鍵的。重要的是溶劑必須能在相對低溫的情況下通過蒸發(fā)被去除并且在溶劑被部分或全部地蒸發(fā)以后和印劑的殘留部分被燒制以前,粘合劑必須能夠形成基體以便固定金屬顆粒。
舉一個不作為限制的例子本發(fā)明采用由Ferro生產(chǎn)的產(chǎn)品號為3349的通常的銀網(wǎng)板印刷印劑在硅太陽電池坯料上寫銀網(wǎng)格觸頭,據(jù)信該特定印劑包含重量百分率約為75的銀顆粒和重量百分率約為5的鉛硼硅化玻璃制品,印劑的剩余部分包含由熱分解有機粘合劑和易揮發(fā)的溶劑組成的有機載體。它的粘度約為1000泊。
根據(jù)本發(fā)明,使用Ferror的3349號的銀印劑、在0.002-0.010英寸范圍內(nèi)的筆尖孔徑、在0.00001-0.00013立方英寸/秒范圍內(nèi)的印劑流量、約25℃的印劑溫度、微孔尺寸為40-140微米的過濾器38、在0.5-10英寸/秒范圍內(nèi)的寫速度(即X-Y工作臺或輸送機84沿X軸方向運動的相對速度)已成功地形成了寬度為0.003英寸那么小的網(wǎng)格觸頭指狀物元件23。在這種條件下,經(jīng)燒制以后,能夠產(chǎn)生高度約為21微米的指狀物元件23。若上述處理的限制保持不變,但印劑的溫度被加熱到約50℃,在燒制以后指狀物的高度(厚度)約為45-50微米。
在印劑被直接施加給襯底的情況下,燒制被用來蒸發(fā)任何剩余的溶劑,熱分解有機粘合劑和將印劑中的金屬化合物熔化到襯底上,以便形成良好的歐姆觸頭。在將印劑直接分送給諸如氮化硅抗反射層的絕緣層的情況下,燒制也被用來使印劑溶解在下面的氮化硅并流到襯底的前表面,在前表面,它的金屬成份、例如銀與硅襯底形成了歐姆觸頭。燒制處理的特定參數(shù)根據(jù)包括印劑在內(nèi)的許多因素而改變。
以下是使圖2和圖3所示的X-Y工作臺支撐硅太陽電池坯料來實施本發(fā)明的最佳方式的一個特定實例。
例如圖2和圖3所示的本發(fā)明的裝置被用來在具有多晶EFG生長的硅襯底的太陽電池坯料的前表面形成網(wǎng)格型觸頭,該襯底為P型導(dǎo)電體,大小為長約(X維)3.78英寸、寬約(Y維)3.78英寸。太陽電池坯料具有在其前表面下約0.5微米深度處形成的一個淺P-N結(jié)。太陽電池前表面還覆蓋一層厚度約為800埃的氮化硅抗反射層,另外,在其后表面還有一個由鉛制成的觸頭。
這樣一種太陽電池坯料每次被置于“麥肯羅奔”直接寫機床上,后者進行工作以便在襯底前表面的氮化硅層上寫如圖6中27所示的兩個匯流排。寫是利用Ferro第3349號銀印劑完成的,在寫狀態(tài)所形成的匯流排的寬度約為0.045英寸。
這樣,不需要采用任何干燥步驟就可以在與如圖實線所示的單筆寫裝置相應(yīng)的X-Y工作臺支撐板22上安放預(yù)定數(shù)量的這種坯料。太陽電池坯料沿X-Y工作臺的X軸彼此成一直線安放,然后,如圖2和圖3所示的裝置進行工作以便形成如圖6所示與兩個匯流排交叉的指狀物元件23。筆尖是由儲如礬土的陶瓷制成的。在45-50℃情況下使用同樣的Ferro第3349號銀印劑寫指狀物。筆尖的排放孔徑為0.003英寸,筆42被設(shè)置在太陽電池坯料上方約0.35英寸處。印劑的排放速度約為0.000075立方英寸/秒。X工作臺件20沿X軸運動以便產(chǎn)生3.5英寸/秒的寫速度。在寫狀態(tài)形成的指狀物元件的寬度約為0.0035英寸。
然后,太陽電池坯料從支撐板22取出,在20℃-25℃的空氣中進行干燥。在這之后,坯料被放入位于通常大氣壓下的紅外爐中燒制3分鐘。在燒制過程中,溫度從200℃加溫到峰值800℃,然后再降溫到200℃。坯料在約800℃的峰值溫度下保持5秒鐘。燒制使確定匯流排27和指狀物元件23的銀印劑溶解在下面的氮化硅層,使銀成份與硅襯底形成歐姆觸頭。燒制成的指狀物寬度約為0.003英寸,高度約為30-40微米。在燒制之后,襯底在空氣中被冷卻到室溫。在這之后可以在襯底上進行另外幾個通常的制作步驟,以便產(chǎn)生一個準備好連接到其它太陽電池上的工作太陽電池。
很明顯,本發(fā)明允許許多變化。諸如印劑成份、流變性,筆尖成份、形狀和結(jié)構(gòu),印劑流速、印劑壓力和寫速度等諸因素都可以改變而不脫離本發(fā)明的基本特征。例如,使用含鎳而不是銀的印劑可能需要不同的工作參數(shù)。單個印劑供給和輸送系統(tǒng)可以用來將印劑供給兩個或更多的筆,過濾器可以設(shè)置在通一斷閥門40和筆尖42之間。同樣地,本發(fā)明還可以用于其它形式的電路元件,在其上實施寫的襯底可以由不是硅的材料制成。另外,形成后觸頭的時間也可以改變。例如,后觸頭可以在網(wǎng)格電極元件被寫完并干燥之后、但在被燒制之前形成,或者在進行了前觸頭燒制以后形成。本發(fā)明還可以通過使用一個以上的筆在單個太陽電池坯料上寫指狀物來實施。太陽電池坯料不必是EFG生長的襯底,它們可以是由其它晶體生長方法形成的多晶硅材料,甚至是單晶硅材料。另外,由于本發(fā)明在于方法和裝置而不在于襯底的成份,所以也可以使用襯底材料不是硅的太陽電池坯料。還有一些對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是很顯然的修改。
本發(fā)明具有很多優(yōu)點,首先它可以用比美國專利4,485,387所披露的那種直接寫系統(tǒng)所可能有的更大的高寬比去寫寬0.003-0.010英寸的指狀物元件,其次是可以同時寫多個窄的指狀物。本發(fā)明還允許利用比在此之前作用的直接寫、網(wǎng)板印刷和填充印劑技術(shù)更少的花費去制造網(wǎng)格電極。特別就如圖8所示的實施例而言,本發(fā)明更進一步的優(yōu)點在于它能夠在相對大的太陽電池坯料、例如約4.0×12.0英寸的太陽電池坯料上寫多個窄的指狀物。另外的優(yōu)點是可以使用具有約14%有效系數(shù)的EFG襯底來生產(chǎn)硅太陽電池。
權(quán)利要求
1.一種在平面半導(dǎo)體襯底上繪制薄膜電路的裝置,包括襯底支撐裝置,用于在水平面內(nèi)支撐所述半導(dǎo)體襯底;印劑分送筆,在其一端具有排放孔;用于把所述筆支撐在所述襯底上方并與所述襯底隔開的裝置;含金屬印劑的儲存庫;包括用于使印劑從所述儲存庫移出和通過所述排放孔將被移出的印劑分送給所述襯底的泵的裝置;以及驅(qū)動裝置,用于沿與所述襯底平面平行的兩個相互垂直軸中的一個產(chǎn)生所述筆和所述襯底支撐裝置的相對運動;所述筆設(shè)置在所述襯底上方0.10和1.00英寸間的距離處。
2.權(quán)利要求1所述的裝置還包括連接在所述筆和所述儲存庫之間的過濾器,所述過濾器被用來去除顆粒大小為40微米或更大的顆粒。
3.權(quán)利要求1所述的裝置還包括在印劑由所述排放孔排放以前將其加熱的裝置。
4.權(quán)利要求1所述的裝置中的所述驅(qū)動裝置被用來以0.5-10英寸/秒的速度移動所述襯底。
5.權(quán)利要求1所述的裝置中的所述印劑分送筆是由陶瓷材料制作的。
6.權(quán)利要求1所述的裝置中的所述襯底支撐裝置包括一個X-Y轉(zhuǎn)換工作臺。
7.權(quán)利要求1所述的裝置中的所述襯底支撐裝置包括一輸送機和一個用來使輸送機以預(yù)定的速度運動的裝置。
8.權(quán)利要求7所述的裝置中的所述輸送機包括一環(huán)形帶。
9.一種用于在平面半導(dǎo)體襯底上繪制薄膜電路的裝置,包括襯底支撐裝置,用于在水平面內(nèi)支撐所述半導(dǎo)體襯底;多個印劑分送筆,每個在其一端具有排放孔;用于支撐在所述襯底上方并與所述襯底隔開的所述筆的裝置;用于在一定壓力下將含金屬的印劑提供給所述筆并由此通過所述排放孔將印劑排放到所述襯底上的裝置;以及驅(qū)動裝置,用于沿與所述襯底平面平行的兩個相互垂直軸中的一個產(chǎn)生所述筆和所述襯底支撐裝置的相對運動,由此利用從所述筆排放的印劑在所述襯底上寫多條平行線;每個所述筆設(shè)置在所述襯底上方0.10和1.00英寸間的固定距離處。
10.權(quán)利要求9所述的裝置中的所述襯底支撐裝置包括一個傳送帶型輸送機和一個用來使所述輸送機以預(yù)定的速度運動的裝置。
11.權(quán)利要求10所述的裝置中的所述輸送機包括一環(huán)形帶。
12.一種利用具有排放孔的分送筆在襯底上沉積粘性導(dǎo)電糊劑而在該襯底上形成薄膜電路的方法,所述方法包括以下步驟(a)設(shè)置筆使其排放孔指向下方;(b)安放太陽電池坯料,使其一個表面位于一水平面內(nèi),該水平面接近所述排放孔,但與所述排放孔相隔的距離超過所述薄膜電路所需的厚度;(c)通過所述排放孔分送粘性導(dǎo)電含金屬的印劑到所述太陽電池坯料上;以及(d)至少在一個水平方向上選擇性地提供所述太陽電池坯料和所述筆之間的相對運動以便使所述印劑以預(yù)定的電路圖形被沉積到所述太陽電池坯料上;在執(zhí)行步驟(c)和(d)時,所述筆被設(shè)置在所述太陽電池坯料上方的一固定高度處,所述固定高度大體上超過在所述太陽電池坯料上沉積的印劑厚度。
13.權(quán)利要求12所述的方法中,所述太陽電池坯料被安放在沿正交的X和Y水平延伸軸運動的X-Y工作臺上,所述X-Y工作臺沿所述X和Y軸運動以便使所說糊劑以預(yù)定的包含多條平行的相互隔開的線的網(wǎng)格圖形被沉積到所述太陽電池坯料上。
14.權(quán)利要求12所述的方法中,這樣安放所述筆,使得它的排放孔與所述太陽電池坯料間的垂直間隔在0.10-1.00英寸范圍的距離內(nèi)。
15.權(quán)利要求12所述的方法中,所述太陽電池坯料在所述一個方向上的相對運動速度在0.5到10.0英寸/秒的范圍內(nèi)。
16.權(quán)利要求12所述的方法中,所述太陽電池坯料包括具有第一和第二相對表面、在靠近所述第一表面處形成一淺P-N結(jié)的硅襯底,所述太陽電池坯料是以所述第一表面面向所述排放孔而安放的,所述印劑包含分散在有機載體中的金屬和半熔玻璃原料的顆粒,該方法還包括燒制所述坯料和沉積在所述坯料上的印劑以便使所述沉積的印劑在所述第一表面上形成歐姆觸頭的步驟。
17.權(quán)利要求12所述的方法中,所述第一表面被覆蓋上電絕緣材料的連續(xù)涂層,所述印劑被沉積到所述連續(xù)涂層上。
18.權(quán)利要求17所述的方法中,所述連續(xù)涂層是氮化硅。
19.權(quán)利要求18所述的方法還包括燒制所述坯料和沉積到所述坯料上的糊劑以便使所說糊劑燒穿所述連續(xù)涂層和在所述第一表面上形成歐姆觸頭的步驟。
20.權(quán)利要求12所述的方法中,所述印劑在25℃時具有800-10000泊范圍的粘度。
21.權(quán)利要求12所述的方法中,所述印劑處于20到60攝氏度的溫度中。
22.太陽電池包括一種導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底,該襯底在靠近其前表面處形成了一淺P-N結(jié),在所述前表面上的銀網(wǎng)格觸頭具有寬度為0.010英寸和高度超過20微米的指狀物元件。
全文摘要
提供了一種用來形成太陽電池的網(wǎng)格電極的方法和裝置。該方法和裝置主要涉及到利用中空筆尖將粘性印劑分送到所選擇的水平取向的太陽電池坯料上,使所排放的印劑在坯料上形成條狀物或線,由于筆尖被安放在太陽電池坯料上方足夠遠處,所以它就不會懸浮在所排放的條狀物或線上。這樣,所寫條狀物或線的寬度和高度就不被筆尖的O.d.或筆尖施加的任何壓力所確定。
文檔編號H01L31/18GK1065551SQ9210197
公開日1992年10月21日 申請日期1992年2月21日 優(yōu)先權(quán)日1991年3月7日
發(fā)明者J·I·漢諾卡, S·E·丹尼爾森 申請人:無比太陽能公司
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