本發(fā)明涉及模型生成方法、計(jì)算機(jī)程序以及信息處理裝置。

背景技術(shù)：

1、在現(xiàn)有的半導(dǎo)體處理裝置中，按照每個(gè)步驟來描述針對(duì)構(gòu)成半導(dǎo)體處理裝置的各種控制部件的控制值來創(chuàng)建工藝配方，并按照所創(chuàng)建的工藝配方的各步驟來實(shí)施各種工藝。

2、在專利文獻(xiàn)1中公開一種方法，生成預(yù)測模型，以探索為了加工成目標(biāo)加工形狀而對(duì)半導(dǎo)體處理裝置設(shè)定的輸入?yún)?shù)值，該預(yù)測模型表示輸入?yún)?shù)值與加工結(jié)果中實(shí)測值即輸出值的關(guān)系。

3、專利文獻(xiàn)1：日本特開2019-165123號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開的目的在于提供能夠根據(jù)被處理體的當(dāng)前形狀來提示推薦給工藝配方的變量組的模型的生成方法、計(jì)算機(jī)程序以及信息處理裝置。

2、在本公開的模型生成方法中，由計(jì)算機(jī)來執(zhí)行如下的處理：獲取用于構(gòu)建工藝配方的多個(gè)變量組、表示執(zhí)行上述工藝配方的特定步驟之前的被處理體的狀態(tài)的狀態(tài)數(shù)據(jù)、以及表示上述被處理體的目標(biāo)狀態(tài)的目標(biāo)數(shù)據(jù)；從上述多個(gè)變量組選擇一個(gè)變量組，對(duì)通過執(zhí)行由所選擇的一個(gè)變量組表征的一個(gè)步驟而得到的上述被處理體的狀態(tài)進(jìn)行評(píng)價(jià)；以及通過使用獲取到的狀態(tài)數(shù)據(jù)及目標(biāo)數(shù)據(jù)、以及根據(jù)所評(píng)價(jià)的上述被處理體的狀態(tài)而決定的報(bào)酬的強(qiáng)化學(xué)習(xí)，生成用于工藝配方構(gòu)建的模型。

3、根據(jù)本公開，能夠根據(jù)被處理體的當(dāng)前形狀來提示推薦給工藝配方的變量組。

技術(shù)特征：

1.一種模型生成方法，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型生成方法，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的模型生成方法，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型生成方法，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型生成方法，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的模型生成方法，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型生成方法，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的模型生成方法，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型生成方法，其中，

10.一種計(jì)算機(jī)程序，用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行如下的處理：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的計(jì)算機(jī)程序，其中，

12.一種計(jì)算機(jī)程序，用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行如下的處理：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算機(jī)程序，其中，

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算機(jī)程序，其中，

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算機(jī)程序，其中，

16.一種信息處理裝置，具備：

17.一種信息處理裝置，具備：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供模型生成方法、計(jì)算機(jī)程序以及信息處理裝置。由計(jì)算機(jī)執(zhí)行如下的處理：獲取用于構(gòu)建工藝配方的多個(gè)變量組、表示執(zhí)行工藝配方的特定步驟之前的被處理體的狀態(tài)的狀態(tài)數(shù)據(jù)、以及表示被處理體的目標(biāo)狀態(tài)的目標(biāo)數(shù)據(jù)；從多個(gè)變量組選擇一個(gè)變量組，對(duì)通過執(zhí)行由所選擇的一個(gè)變量組表征的一個(gè)步驟而得到的上述被處理體的狀態(tài)進(jìn)行評(píng)價(jià)；以及通過使用獲取到的狀態(tài)數(shù)據(jù)及目標(biāo)數(shù)據(jù)、以及根據(jù)所評(píng)價(jià)的上述被處理體的狀態(tài)而決定的報(bào)酬的強(qiáng)化學(xué)習(xí)，生成用于工藝配方構(gòu)建的模型。

技術(shù)研發(fā)人員：中村隆央,小川裕亮,加藤隆彥,茂木弘典
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19