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晶圓級帶TSV通孔的薄晶圓清洗裝置及清洗方法與流程

文檔序號:12916802閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種晶圓清洗裝置,包括:清洗臺,所述清洗臺包括用于支撐待清洗的晶圓的支撐面、與所述支撐面連通的廢液收集腔體,所述廢液收集腔體用于收集并容納清洗廢液,所述廢液收集腔體具有廢液出口,用于將所述廢液收集腔內(nèi)的廢液排出;晶圓固定裝置,所述晶圓固定裝置將待清洗的晶圓固定在所述清洗臺的支撐面上,其中所述晶圓固定裝置包括載片,所述載片具有多個孔,所述待清洗的晶圓與載片層疊在一起,使得待清洗的晶圓上TSV通孔與載片上的孔連通,形成清洗液的流動通道;清洗液釋放裝置,所述清洗液噴嘴朝向待清洗的晶圓;以及廢液排出裝置,用于迫使清洗液從待清洗的晶圓上的TSV通孔內(nèi)流過。

技術(shù)研發(fā)人員:戴風(fēng)偉;張文奇
受保護(hù)的技術(shù)使用者:華進(jìn)半導(dǎo)體封裝先導(dǎo)技術(shù)研發(fā)中心有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.06.29
技術(shù)公布日:2017.11.14
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