本發(fā)明涉及太陽能硅片檢測技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置。

背景技術(shù)：

太陽能板的主要構(gòu)成部件為太陽能硅片，太陽能硅片的光電轉(zhuǎn)換功能效率不斷提升，在民用、國防、航空、航天等諸方面都有極為重要的應(yīng)用，已成為清凈能源中不可或缺的成員之一，業(yè)界對太陽能硅片需求殷切，而太陽能硅片的外觀品質(zhì)會(huì)直接影響到后續(xù)的太陽能電池片的制作和轉(zhuǎn)換效率等，同時(shí)太陽能硅片很輕薄，在自動(dòng)化制造與檢測過程中，稍有不慎，即可能造成破損、缺角甚至肉眼無法觀察的微細(xì)裂縫，降低生產(chǎn)效率，增加生產(chǎn)成本，因此為提升太陽能硅片的質(zhì)量，需要對太陽能硅片進(jìn)行檢測分級。

在對硅片進(jìn)行外形尺寸、外觀缺陷等檢測時(shí)，需要分別拍攝硅片的上下表面，現(xiàn)有技術(shù)在拍照時(shí)，常采用先拍攝硅片的一面，然后將硅片進(jìn)行翻面后再拍攝另一面，該過程時(shí)間較長，效率低下，容易造成硅片破損，增加次品率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的發(fā)明目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)在對硅片進(jìn)行外觀檢測的過程時(shí)間長效率低，機(jī)械損耗大，容易造成硅片破損等上述不足，提供一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，縮短機(jī)械行程，提高工作效率，減少機(jī)械損耗，提高外觀質(zhì)量。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：

一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，包括：

抓取部件，包含至少一個(gè)吸盤，所有所述吸盤位于同一平面；

環(huán)形軌道，所有所述吸盤均滑動(dòng)連接于所述環(huán)形軌道上；

檢測部件，包含拍照部件一和拍照部件二，所述拍照部件一設(shè)于所述吸盤的下方，所述拍照部件一的位置適配所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡，所述拍照部件一用于拍攝硅片的底面，所述拍照部件二用于拍攝所述硅片的頂面；

驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，驅(qū)動(dòng)所述抓取部件和檢測部件；

控制系統(tǒng)，控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。

采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，由所述控制系統(tǒng)控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所有所述吸盤沿所述環(huán)形軌道移動(dòng)，所有所述吸盤位于同一平面，且均連接于所述旋轉(zhuǎn)部件上，每個(gè)所述吸盤連接有負(fù)壓源，當(dāng)所述吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)至硅片上方時(shí)，所述硅片位于所述吸盤的吸附范圍，所述吸盤形成負(fù)壓在原位吸取所述硅片，然后所述控制系統(tǒng)控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所述吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)至下一工位，當(dāng)所述控制系統(tǒng)關(guān)閉負(fù)壓時(shí)，所述吸盤放下所述硅片實(shí)現(xiàn)下料，當(dāng)所述吸盤吸附所述硅片的頂面，此時(shí)采用設(shè)于所述吸盤下方的所述拍照部件一對所述硅片的底面進(jìn)行拍攝以便檢測，當(dāng)所述吸盤未吸附所述硅片時(shí)，即在所述硅片吸取之前或放下之后，采用所述拍照部件二對所述硅片的頂面進(jìn)行拍攝以便檢測，采用本裝置能夠通過所述吸盤對所述硅片只需一次取放及旋轉(zhuǎn)即可實(shí)現(xiàn)對所述硅片正、反面的拍攝，采用檢測部件發(fā)現(xiàn)在初期肉眼無法觀察，但在后道工序中很容易導(dǎo)致碎片的裂紋缺陷，以便提高所述硅片進(jìn)行外觀尺寸及瑕疵檢測的精確性，同時(shí)無需將所述硅片進(jìn)行翻面即可檢測，簡化抓取機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，操作過程短，效率高，檢測方便，減少機(jī)械損耗，減少對硅片的接觸次數(shù)，避免對外觀造成損傷，提高外觀質(zhì)量，降低成本，配置有多個(gè)所述吸盤時(shí)，每次轉(zhuǎn)動(dòng)均可對一張硅片進(jìn)行抓取、放置及拍攝的動(dòng)作，進(jìn)一步提高工作效率，減少機(jī)械損耗，當(dāng)不同吸盤所需操作時(shí)間不同時(shí)，每個(gè)所述吸盤獨(dú)立操作，便于控制，同時(shí)能夠根據(jù)工位的位置調(diào)節(jié)所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)角度。

優(yōu)選的，還包含顯示部件。

優(yōu)選的，還包含上料裝置和下料裝置，所述上料裝置和下料裝置的位置適配所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡，以使每個(gè)所述吸盤旋轉(zhuǎn)到所述上料裝置和下料裝置工位上方時(shí)分別實(shí)現(xiàn)上料和下料。

所有所述吸盤位于同一平面內(nèi)，所述吸盤旋轉(zhuǎn)至所述上料裝置處抓取所述硅片，待旋轉(zhuǎn)至下料裝置處放下所述硅片，所述上料裝置和下料裝置布置于所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡上，適配所述吸盤的高度以及轉(zhuǎn)動(dòng)的角度，以使每個(gè)所述吸盤旋轉(zhuǎn)到所述上料裝置和下料裝置工位上方時(shí)分別實(shí)現(xiàn)上料和下料，采用多個(gè)所述吸盤時(shí)能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)上料和下料操作，提高機(jī)械效率，便于機(jī)械控制。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述上料裝置包含頂升部件和吹氣部件。

由于所述吸盤的高度固定，而硅片極易破碎，待吸取的硅片與所述吸盤之間達(dá)到一定距離時(shí)所述吸盤的負(fù)壓才能將所述硅片吸起，所述控制系統(tǒng)控制所述頂升部件將所述硅片頂升至適配所述吸盤吸取的位置，保障抓取環(huán)節(jié)持續(xù)不間斷，提高工作效率，避免當(dāng)所述吸盤到達(dá)上料位置時(shí)無法吸取所述硅片；由于硅片較輕較薄，采用所述吹氣部件將待吸取的所述硅片吹散分離，便于所述吸盤吸取，避免一次吸取兩張以上的所述硅片。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述上料裝置還包含光電傳感器。

所述光電傳感器用于感應(yīng)所述硅片距離所述吸盤所在平面的距離，也能用于感應(yīng)所述吸盤上是否有所述硅片，所述控制系統(tǒng)根據(jù)所述光電傳感器控制所述頂升部件頂升所述硅片至適配位置，并確認(rèn)是否吸取硅片，保證抓取工作順利進(jìn)行。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述拍照部件一位于所述上料裝置和下料裝置之間，所述下料裝置為傳輸帶，所述傳輸帶的高度適配所述吸盤。

在所述上料裝置和下料裝置之間，所述硅片被所述吸盤吸附，便于所述拍照部件一拍攝所述硅片的底面。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述拍照部件二位于所述傳輸帶的正上方。

當(dāng)所述吸盤將所述硅片放置于所述傳輸帶上，所述拍照部件二能夠?qū)λ龉杵捻斆孢M(jìn)行拍攝。

優(yōu)選的，所述環(huán)形軌道上滑動(dòng)連接有豎向的連接板，每個(gè)所述吸盤螺栓連接一個(gè)所述連接板。

所述環(huán)形軌道上滑動(dòng)連接有豎向的連接板，所述連接板上設(shè)有滑槽，所述吸盤螺栓連接與所述滑槽上，便于調(diào)節(jié)所述吸盤的高度，方便更換所述吸盤，同時(shí)有利于提高強(qiáng)度，避免在旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生晃動(dòng)。

優(yōu)選的，還包含一個(gè)分氣組件，所述分氣組件包含導(dǎo)氣管和套筒，所述導(dǎo)氣管為中空結(jié)構(gòu)，所述套筒設(shè)有內(nèi)孔，所述導(dǎo)氣管的下端與所述內(nèi)孔相連通，所述導(dǎo)氣管的上端設(shè)有一個(gè)開口一，所述套筒的下端設(shè)有至少兩個(gè)開口二，每個(gè)所述開口二均連通所述內(nèi)孔，每個(gè)所述開口二連接有氣管一，所述氣管一連通所述吸盤，所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)所述分氣組件旋轉(zhuǎn)。

所述導(dǎo)氣管的上端設(shè)有一個(gè)開口一，所述套筒的下端設(shè)有至少兩個(gè)開口二，每個(gè)所述開口二連接有氣管一，每個(gè)所述氣管一用于連通一個(gè)吸盤，每個(gè)所述開口二均連通所述內(nèi)孔，使得每個(gè)所述氣管一與所述開口一相連通，所述開口一連接負(fù)壓源，所述氣管一通過所述導(dǎo)氣管與套筒配合實(shí)現(xiàn)分氣，所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)連接所述套筒，帶動(dòng)所述套筒旋轉(zhuǎn)，所述吸盤旋轉(zhuǎn)過程中，所述氣管一與套筒同步旋轉(zhuǎn)，每個(gè)氣管一之間相對于所述套筒的位置固定，避免氣管一在一直同向旋轉(zhuǎn)的過程中出現(xiàn)纏繞，保障一直沿同向旋轉(zhuǎn)的所述吸盤能夠持續(xù)產(chǎn)生負(fù)壓，減少負(fù)壓源數(shù)量，降低成本，有利于提高工作效率，不間斷的旋轉(zhuǎn)至不同工位進(jìn)行取放，避免機(jī)械故障，結(jié)構(gòu)簡單，加工方便。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述開口一通過旋轉(zhuǎn)接頭連接氣管二。

即所述旋轉(zhuǎn)接頭一端連接所述導(dǎo)氣管、另一端連接氣管二，工作時(shí)，所述旋轉(zhuǎn)接頭連接氣管二的一端保持不動(dòng)、連接所述導(dǎo)氣管的一端隨所述導(dǎo)氣管一起轉(zhuǎn)動(dòng)，避免所述氣管二因旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致扭轉(zhuǎn)，影響負(fù)壓形成。

進(jìn)一步優(yōu)選的，每個(gè)所述氣管一連接有至少一個(gè)分氣管，每個(gè)所述分氣管連接有電磁閥。

當(dāng)設(shè)有多個(gè)所述吸盤時(shí)，每個(gè)所述分氣管連通一個(gè)所述吸盤，每個(gè)所述分氣管上連接有電磁閥，所述電磁閥連接有電氣線，所述電氣線通過集電環(huán)分流，避免在旋轉(zhuǎn)時(shí)發(fā)生纏繞，便于控制旋轉(zhuǎn)至不同工位的所述吸盤吸取或放下所述硅片。

優(yōu)選的，相鄰兩個(gè)所述吸盤之間的距離相等，所述吸盤每次轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。

采用上述方式，即所述吸盤旋轉(zhuǎn)至不同工位時(shí)，每次轉(zhuǎn)動(dòng)角度相同，便于系統(tǒng)控制及工位布置，每轉(zhuǎn)動(dòng)一次，每個(gè)工位上均對應(yīng)有所述吸盤，因此可以同時(shí)進(jìn)行上料、檢測及下料操作，提高工作效率。

綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明的有益效果是：

1、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，能夠通過所述吸盤對所述硅片只需一次取放及旋轉(zhuǎn)即可實(shí)現(xiàn)對所述硅片正、反面的拍攝，采用檢測部件能夠發(fā)現(xiàn)在初期肉眼無法觀察，但在后道工序中很容易導(dǎo)致碎片的裂紋缺陷，以便提高所述硅片進(jìn)行外觀尺寸及瑕疵檢測的精確性，同時(shí)無需將所述硅片進(jìn)行翻面即可檢測，簡化抓取機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，操作過程短，效率高，檢測方便，減少機(jī)械損耗，減少對硅片的接觸次數(shù)，避免對外觀造成損傷，提高外觀質(zhì)量，降低成本，配置有多個(gè)所述吸盤時(shí)，每次轉(zhuǎn)動(dòng)均可對一張硅片進(jìn)行抓取、放置及拍攝的動(dòng)作，進(jìn)一步提高工作效率，減少機(jī)械損耗，當(dāng)不同吸盤所需操作時(shí)間不同時(shí)，每個(gè)所述吸盤獨(dú)立操作，便于控制，同時(shí)能夠根據(jù)工位的位置調(diào)節(jié)所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)角度。

2、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，所述上料裝置和下料裝置布置于所述吸盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡上，適配所述吸盤的高度以及轉(zhuǎn)動(dòng)的角度，以使每個(gè)所述吸盤旋轉(zhuǎn)到所述上料裝置和下料裝置工位上方時(shí)分別實(shí)現(xiàn)上料和下料，采用多個(gè)所述吸盤時(shí)能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)上料和下料操作，提高機(jī)械效率，便于機(jī)械控制。

3、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，所述控制系統(tǒng)控制所述頂升部件將所述硅片頂升至適配所述吸盤吸取的位置，保障抓取環(huán)節(jié)持續(xù)不間斷，提高工作效率，避免當(dāng)所述吸盤到達(dá)上料位置時(shí)無法吸取所述硅片；所述吹氣部件將待吸取的所述硅片吹散分離，便于所述吸盤吸取，避免一次吸取兩張以上的所述硅片。

4、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，所述拍照部件一在所述上料裝置和下料裝置之間，所述硅片被所述吸盤吸附，便于拍攝所述硅片的底面，所述拍照部件二位于所述傳輸帶的正上方，便于對所述硅片的頂面進(jìn)行拍攝。

5、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，通過所述氣管一連接所述導(dǎo)氣管與套筒配合實(shí)現(xiàn)分氣，在所述吸盤旋轉(zhuǎn)過程中，所述氣管一與套筒同步旋轉(zhuǎn)，每個(gè)氣管一之間相對于所述套筒的位置固定，避免氣管一在一直同向旋轉(zhuǎn)的過程中出現(xiàn)纏繞，保障一直沿同向旋轉(zhuǎn)的所述吸盤能夠持續(xù)產(chǎn)生負(fù)壓，減少負(fù)壓源數(shù)量，降低成本，有利于提高工作效率，不間斷的旋轉(zhuǎn)至不同工位進(jìn)行取放，避免機(jī)械故障，結(jié)構(gòu)簡單，加工方便。

6、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，采用旋轉(zhuǎn)接頭避免所述氣管二因旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致扭轉(zhuǎn)，影響負(fù)壓形成。

7、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，所述吸盤旋轉(zhuǎn)至不同工位時(shí)，每次轉(zhuǎn)動(dòng)角度相同，便于系統(tǒng)控制及工位布置，每轉(zhuǎn)動(dòng)一次，每個(gè)工位上均對應(yīng)有所述吸盤，因此可以同時(shí)進(jìn)行上料、檢測及下料操作，提高工作效率。

8、采用本發(fā)明的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，所述環(huán)形軌道上滑動(dòng)連接有豎向的連接板，所述連接板上設(shè)有滑槽，所述吸盤螺栓連接與所述滑槽上，便于調(diào)節(jié)所述吸盤的高度，方便更換所述吸盤，同時(shí)有利于提高強(qiáng)度，避免在旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生晃動(dòng)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明中一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明中一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置的結(jié)構(gòu)俯視圖。

圖3為本發(fā)明中的分氣組件的結(jié)構(gòu)截面圖。

圖中標(biāo)記：1-吸盤，2-導(dǎo)氣管，3-套筒，31-內(nèi)孔，4-氣管一，51-頂升部件，52-吹氣部件，6-旋轉(zhuǎn)接頭，7-氣管二，8-環(huán)形軌道，9-傳輸帶，10-拍照部件一，11-拍照部件二，12-硅片。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明作詳細(xì)的說明。

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

實(shí)施例1

如圖1-3，本發(fā)明所述的一種太陽能硅片的表面缺陷檢測裝置，包含抓取部件、、環(huán)形軌道8、檢測部件、分氣部件、顯示部件、上料裝置、下料裝置、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)所述抓取部件、檢測部件、顯示部件、上料裝置和下料裝置，所述控制系統(tǒng)包含處理模塊，所述抓取部件包含四個(gè)吸盤1，所述分氣組件包含導(dǎo)氣管2和套筒3，所述導(dǎo)氣管2為中空結(jié)構(gòu)的銅管，所述套筒3設(shè)有內(nèi)孔31，所述導(dǎo)氣管2的下端與所述內(nèi)孔31相連通，所述導(dǎo)氣管2的上端設(shè)有一個(gè)開口一，所述開口一通過旋轉(zhuǎn)接頭6連接氣管二7，所述氣管二7連接負(fù)壓源，所述環(huán)形軌道8上滑動(dòng)連接有四塊豎向的連接板，每個(gè)所述吸盤1螺栓連接一個(gè)所述連接板，四個(gè)所述吸盤1沿所述環(huán)形軌道8的圓周均勻分布，所有所述吸盤1位于同一水平面，所述套筒3的下端設(shè)有兩個(gè)開口二，兩個(gè)所述開口二對稱布置，每個(gè)所述開口二均連通所述內(nèi)孔31，每個(gè)所述開口二連接有一個(gè)氣管一4，每個(gè)所述氣管一4連接有兩個(gè)分氣管，每個(gè)所述分氣管連通一個(gè)所述吸盤1，每個(gè)所述分氣管上連接有電磁閥，所述上料裝置包含頂升部件51、吹氣部件52和光電傳感器，所述上料裝置和下料裝置的位置適配所述吸盤1的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡和轉(zhuǎn)動(dòng)角度，所述頂升部件51位于所述吸盤1的下方，適配所述吸盤1的轉(zhuǎn)動(dòng)角度，所述吹氣部件52設(shè)于所述頂升部件51兩側(cè)，其高度適配所述吸盤1，所述下料裝置為傳輸帶9，所述傳輸帶9的位置適配所述吸盤1的高度，所述檢測部件包含拍照部件一10和拍照部件二11，所述拍照部件一10位于所述上料裝置和下料裝置之間，所述拍照部件一10設(shè)于所述吸盤1的下方，所述拍照部件一10的位置適配所述吸盤1的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡和轉(zhuǎn)動(dòng)角度，所述拍照部件二11位于所述傳輸帶9的正上方。

所述控制系統(tǒng)控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所有所述吸盤1沿逆時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng)，每個(gè)所述吸盤1每次分別轉(zhuǎn)動(dòng)90°，當(dāng)所述吸盤1轉(zhuǎn)動(dòng)至所述上料裝置處時(shí)，所述控制系統(tǒng)根據(jù)所述光電傳感器的信號控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所述頂升部件51將硅片12頂升至適配的高度，所述吹氣部件52將頂部的所述硅片吹散，所述控制系統(tǒng)控制對應(yīng)的所述吸盤1的所述電磁閥開啟，所述吸盤1吸取所述硅片12，所有所述吸盤1繼續(xù)同時(shí)分別沿逆時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng)90°，此時(shí)位于所述上料裝置處的所述吸盤1繼續(xù)吸取所述硅片12，所述控制系統(tǒng)控制所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所有所述吸盤1繼續(xù)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°至所述拍照部件一10位置時(shí)，所述拍照部件一10拍攝所述硅片12的底面，拍攝完畢后，所述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng)所有所述吸盤1繼續(xù)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°至所述傳輸帶9，所述控制系統(tǒng)控制對應(yīng)的所述吸盤1的所述電磁閥關(guān)閉，所述硅片12放置于傳輸帶9上，此時(shí)所述上料裝置處和拍照部件一10處同時(shí)進(jìn)行吸取和拍照操作，所述硅片12在傳輸帶9上移動(dòng)，當(dāng)所述硅片12位于所述拍照部件二11的拍攝范圍時(shí)，所述拍照部件二11拍攝所述硅片12的頂面，所述處理模塊對所述拍攝部件一10和拍攝部件二11的拍攝內(nèi)容進(jìn)行處理，處理結(jié)果成像于所述顯示部件，以此檢測所述硅片12的正反面的外觀質(zhì)量，采用本裝置能夠通過所述吸盤1對所述硅片12的一次取放及旋轉(zhuǎn)即可實(shí)現(xiàn)對所述硅片12正、反面的拍攝，所述檢測結(jié)果成像于所述顯示部件，以便對所述硅片12進(jìn)行外觀尺寸及瑕疵的進(jìn)行檢測，同時(shí)避免了抓取部件下降、上升及循環(huán)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，無需將所述硅片12進(jìn)行翻面，簡化抓取機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，操作過程短，效率高，檢測方便，減少機(jī)械損耗，避免硅片產(chǎn)品額外損失，提高外觀質(zhì)量，降低成本，配置有多個(gè)所述吸盤時(shí)，每次轉(zhuǎn)動(dòng)均可對一張硅片進(jìn)行抓取、放置及拍攝的動(dòng)作，進(jìn)一步提高工作效率，減少機(jī)械損耗。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。