技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種掩膜板及顯示面板蒸鍍用對位檢測系統，所述掩膜板包括基板；對位標記，設置于基板一側，所述對位標記對光線的反射率大于所述基板對所述光線的反射率；反射率與反射強度成正比，通過所述基板和所述對位標記對所述光線的反射強度差異來識別所述對位標記，進而確定所述掩膜板的位置。通過上述方式，本發(fā)明所提供的實施方式能夠判斷出掩膜板的位置。

技術研發(fā)人員：喬小平;李金川
受保護的技術使用者：深圳市華星光電技術有限公司
技術研發(fā)日：2017.05.22
技術公布日：2017.10.17