技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提出了一種制作陣列基板的方法，包括以下步驟：步驟S10：在透明基板上沉積緩沖介質(zhì)；步驟S20：在緩沖介質(zhì)上設(shè)置薄膜晶體管，并在薄膜晶體管上沉積層間介質(zhì)，在沉積層間介質(zhì)的過程中向?qū)娱g介質(zhì)內(nèi)滲入H2；步驟S30：對陣列基板加熱。采用這種方法制作陣列基板可以降低薄膜晶體管的關(guān)態(tài)電流，避免不必要的漏電流，同時，提升柵極控制能力。

技術(shù)研發(fā)人員：黃奔
受保護的技術(shù)使用者：武漢華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.05
技術(shù)公布日：2017.07.18