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基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo)的制作方法

文檔序號:12726924閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),包括介質(zhì)基板(1),所述介質(zhì)基板(1)的上下兩個面為金屬層(2)且兩側(cè)設(shè)置有金屬化通孔(3),其特征在于:所述介質(zhì)基板(1)上表面的金屬層上設(shè)置有孔結(jié)構(gòu),所述孔結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有連接金屬層的電感網(wǎng)絡(luò)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述電感網(wǎng)絡(luò)包括多排橫向電感網(wǎng)絡(luò)和/或多排縱向電感網(wǎng)絡(luò),每排橫向電感網(wǎng)絡(luò)和每排縱向電感網(wǎng)絡(luò)均包含多個電感(4),每排橫向電感網(wǎng)絡(luò)的兩個相鄰電感(4)之間、每排縱向電感網(wǎng)絡(luò)的兩個相連電感(4)之間通過微帶節(jié)點(5)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述電感(4)為集總參數(shù)貼片電感。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述微帶節(jié)點(5)包括橫向連接層和與橫向連接層相交的縱向連接層。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述微帶節(jié)點(5)為一字形。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述微帶節(jié)點(5)上連接有接地電容。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導(dǎo),其特征在于:所述金屬層(2)的厚度為35μm。

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