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基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:12726924

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本發(fā)明涉及基片集成波導領域,具體涉及一種基于集總參數(shù)電感加載的慢波基片集成波導。背景技術(shù)基片集成波導即SubstrateIntegratedWaveguide,簡稱SIW?;刹▽Ъ夹g(shù),是指通過在上下底面為金屬面的低損耗介質(zhì)基片兩側(cè),利用PCB工藝加工出金屬化通孔陣列來實現(xiàn)的一種導波結(jié)構(gòu),金屬面一般為敷銅。SIW可以等效于傳統(tǒng)的介質(zhì)填充波導。介質(zhì)基片的上下底面可以看作是傳統(tǒng)金屬矩形波導的上下寬邊;當兩相鄰金屬化通孔之間的距離S小于傳導波長的五分之一且S<4d時,d為通孔直徑,可以忽略孔間輻射...
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