本發(fā)明涉及一種專門用于制造或處理固體器件的設(shè)備,特別是一種承載裝置及離子注入設(shè)備。
背景技術(shù):
離子注入技術(shù)是近30年來在國際上蓬勃發(fā)展和廣泛應(yīng)用的一種材料表面改性技術(shù)。離子注入的基本原理是:用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去,離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學(xué)的相互作用,入射離子逐漸損失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、結(jié)構(gòu)和性能發(fā)生變化,從而優(yōu)化材料表面性能或獲得某些新的優(yōu)異性能。
在離子注入(Implant)過程中,玻璃基板首先會被水平放置于基板承載裝置的承載臺(Platen)上,而后由承載臺垂直立起進(jìn)行掃描。在此過程中,承載臺上的支撐部件(Pin)會與玻璃基板的背部接觸,由于現(xiàn)有的承載臺上的支撐部件的頂部呈球形,與玻璃基板背部接觸面積小,且支撐部件是固定于承載臺上,隨著使用次數(shù)的增加,支撐部件的表面磨損,在承載臺翻動過程中容易產(chǎn)生靜電,尤其是,當(dāng)支撐部件的支撐位置在顯示面板的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),玻璃基板背部靜電釋放,會對TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管)產(chǎn)生影響,引起亮暗點(diǎn)、白Mura等不良。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種承載裝置及離子注入設(shè)備,能夠減少由于支撐部件與基板接觸所引起的亮暗點(diǎn)、白Mura等不良產(chǎn)生。
本發(fā)明所提供的技術(shù)方案如下:
一種承載裝置,包括:
用于承托基板的承托臺;
以及,用于支撐基板的多個支撐部件,各支撐部件以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺上,以使各支撐部件在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。
進(jìn)一步的,在所述承托臺上設(shè)置有導(dǎo)軌,在所述導(dǎo)軌上設(shè)置有能夠沿所述導(dǎo)軌移動的多個滑動塊,其中在每一所述滑動塊上連接有至少一個所述支撐部件。
進(jìn)一步的,所述導(dǎo)軌為凸出于所述承托臺側(cè)面外的長條形凸塊結(jié)構(gòu),所述滑動塊中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述長條形凸塊結(jié)構(gòu),以使所述滑動塊環(huán)套在所述長條形凸塊結(jié)構(gòu)上。
進(jìn)一步的,在所述凹槽的內(nèi)壁與所述導(dǎo)軌的外周面之間設(shè)置有多個滾珠,多個所述滾珠排列成至少一排,且所述滾珠的排列方向與所述導(dǎo)軌的延伸方向一致。
進(jìn)一步的,所述滑動塊包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分別形成所述凹槽的兩側(cè)壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地連接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分別設(shè)置所述滾珠。
進(jìn)一步的,所述凹槽為槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)軌為與所述凹槽結(jié)構(gòu)相匹配的、橫截面呈梯形的長條形凸塊結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步的,所述承托臺包括相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊、及相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊,在所述第一側(cè)邊設(shè)置有能夠使得所述承托臺由水平狀態(tài)翻轉(zhuǎn)成豎直狀態(tài)的翻轉(zhuǎn)軸,所述導(dǎo)軌沿所述承托臺的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的延伸方向設(shè)置。
進(jìn)一步的,所述承載裝置還包括能夠驅(qū)動各滑動塊在所述導(dǎo)軌上移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括:
橫桿,多個支撐部件呈陣列排布,同一行的多個支撐部件中各支撐部件所對應(yīng)的滑動塊通過同一根橫桿連接一起,以使同一行的多個支撐部件能夠同步移動;
設(shè)置在所述承托臺的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的至少一個側(cè)邊上的驅(qū)動軌道,所述橫桿的一端設(shè)置在所述驅(qū)動軌道上,并能夠沿所述驅(qū)動軌道移動;
以及,用于驅(qū)動所述橫桿沿所述驅(qū)動軌道往復(fù)移動的驅(qū)動部。
進(jìn)一步的,所述驅(qū)動部包括:
驅(qū)動馬達(dá),所述驅(qū)動馬達(dá)包括輸出軸;
以及能夠在所述輸出軸驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)齒輪,所述橫桿的一端連接在所述旋轉(zhuǎn)齒輪的中心,且所述旋轉(zhuǎn)齒輪與所述橫桿之間能夠相對轉(zhuǎn)動;
其中在所述驅(qū)動軌道上設(shè)置有齒條,所述齒條與所述旋轉(zhuǎn)齒輪嚙合。
進(jìn)一步的,所述承托臺呈階梯狀結(jié)構(gòu),所述承托臺的厚度從靠近所述第一側(cè)邊的一側(cè)向靠近所述第二側(cè)邊的一側(cè)呈階梯狀逐漸減小。
進(jìn)一步的,所述支撐部件包括用于與基板接觸的接觸端、及與所述接觸端相對的連接端,其中,所述支撐部件的接觸端端面為具有預(yù)定面積的平面結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步的,所述支撐部件為一圓柱形結(jié)構(gòu),且所述接觸端的邊緣為經(jīng)圓滑化處理的圓滑倒角結(jié)構(gòu)。
一種離子注入設(shè)備,包括如上所述的承載裝置。
本發(fā)明所帶來的有益效果如下:
本發(fā)明所提供的承載裝置,其在承托臺上設(shè)置可移動的支撐部件,從而可以根據(jù)不同型號的基板,調(diào)節(jié)各支撐部件在基板上的支撐位置,以避讓開基板上的預(yù)定區(qū)域,例如:避讓開液晶屏的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),防止支撐部件與基板之間產(chǎn)生的靜電對液晶屏的薄膜晶體管產(chǎn)生影響,從而減少不良產(chǎn)生。
附圖說明
圖1表示本發(fā)明實施例中提供的承載裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2表示本發(fā)明實施例中提供的承載裝置的導(dǎo)軌與滑動塊的配合結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3表示本發(fā)明實施例中提供的承載裝置的滑動塊及支撐部件的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4表示本發(fā)明實施例中提供的承載裝置的承托臺的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述,所舉實例只用于解釋本發(fā)明,并非用于限定本發(fā)明的范圍。
針對現(xiàn)有技術(shù)中基板承載裝置上的支撐部件與液晶屏等基板之間接觸產(chǎn)生靜電,會導(dǎo)致產(chǎn)生不良的問題,本發(fā)明提高了一種承載裝置,能夠減少由于支撐部件與基板接觸所引起的亮暗點(diǎn)、白Mura等不良產(chǎn)生。
如圖1所示,本發(fā)明實施例中所提供的承載裝置,包括:
用于承托基板的承托臺100;
以及,用于支撐基板的多個支撐部件200,各支撐部件200以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺100上,以使各支撐部件200在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。
本發(fā)明所提供的承載裝置,其在承托臺100上設(shè)置的多個支撐部件200可以移動,從而可以根據(jù)不同型號的基板,調(diào)節(jié)各支撐部件200在基板上的支撐位置,以避讓開基板上的預(yù)定區(qū)域,例如:避讓開液晶屏的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),防止支撐部件200與基板之間產(chǎn)生的靜電對液晶屏的薄膜晶體管產(chǎn)生影響,從而減少不良產(chǎn)生。
如圖1和圖2所示,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,在所述承托臺100上設(shè)置有導(dǎo)軌300,在所述導(dǎo)軌300上設(shè)置有能夠沿所述導(dǎo)軌300移動的多個滑動塊400,其中在每一所述滑動塊400上連接有至少一個所述支撐部件200。
采用上述方案,通過在所述承托臺100上設(shè)置導(dǎo)軌300,并在導(dǎo)軌300上設(shè)置可移動的滑動塊400,通過將支撐部件200與滑動塊400連接,在導(dǎo)軌300上移動滑動塊400,來實現(xiàn)支撐部件200的移動,這種利用滑動塊400和導(dǎo)軌300配合實現(xiàn)支撐部件200移動的方式,結(jié)構(gòu)簡單,操作方便。
應(yīng)當(dāng)理解的是,在實際應(yīng)用中,所述支撐部件200在所述承托臺100上的可移動方式并不僅局限于此,還可以采用其他方式來實現(xiàn),對此不再一一列舉。
以下提供一種所述導(dǎo)軌300與所述滑動塊400配合的優(yōu)選實施方式。
如圖2和圖3所示,優(yōu)選的,所述導(dǎo)軌300為凸出于所述承托臺100側(cè)面外的長條形凸塊結(jié)構(gòu),所述滑動塊400中部形成有凹槽401,所述凹槽401的槽口朝向所述長條形凸塊結(jié)構(gòu),以使所述滑動塊400環(huán)套在所述長條形凸塊結(jié)構(gòu)上。
采用上述方案,所述導(dǎo)軌300可以設(shè)置在所述承托臺100的側(cè)面,其設(shè)計為一凸起的長條形凸塊結(jié)構(gòu),而所述滑動塊400的中部形成有凹槽401,而呈半殼狀,套設(shè)在所述導(dǎo)軌300上,這種配合結(jié)構(gòu)很簡單。當(dāng)然可以理解的是,在其他實施例中,所述導(dǎo)軌300與所述滑動塊400的結(jié)構(gòu)并不僅局限于此,可以有多種配合方式。
進(jìn)一步優(yōu)選的,如圖3所示,在所述滑動塊400的凹槽401的內(nèi)壁與所述導(dǎo)軌300的外周面之間設(shè)置有多個滾珠500,多個所述滾珠500排列成至少一排,且所述滾珠500的排列方向與所述導(dǎo)軌300的延伸方向一致。
采用上述方案,通過在所述滑動塊400與所述導(dǎo)軌300之間設(shè)置滾珠500,可以使得滑動塊400在導(dǎo)軌300上移動順滑、平穩(wěn)。
并且,優(yōu)選的,如圖2和圖3所示,所述導(dǎo)軌300的上、下側(cè)面與所述滑動塊400的凹槽401的兩側(cè)壁之間分別設(shè)置有所述滾珠500,且優(yōu)選的,凹槽401的每一側(cè)壁與所述導(dǎo)軌300的側(cè)面之間設(shè)置有兩排滾珠500,以使得滑動塊400的移動更為順滑、平穩(wěn)。
當(dāng)然可以理解的是,對于所述導(dǎo)軌300與所述滑動塊400之間設(shè)置所述滾珠500的方式等并不進(jìn)行限定,可以根據(jù)實際情況進(jìn)行調(diào)整。
此外,如圖2和圖3所示,優(yōu)選的,所述滑動塊400包括一用于形成所述凹槽401的槽底的410、以及用于分別形成所述凹槽401的兩側(cè)壁的第二部分420和第三部分430,其中,所述第二部分420和所述第三部分430均可拆卸地連接在所述第一部分410上,且所述第二部分和所述第三部分上分別設(shè)置所述滾珠500,以形成所述滾珠500的保護(hù)殼。
采用上述方案,設(shè)置有所述滾珠500的第二部分和所述第三部分均可拆卸地連接在所述第一部分上,便于拆卸、更換,當(dāng)滾珠500出現(xiàn)問題時,可直接將相應(yīng)的第二部分或第三部分拆卸下來更換即可。
此外,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,如圖2所示,所述凹槽401為槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)軌300為與所述凹槽401結(jié)構(gòu)相匹配的、橫截面呈梯形的長條形凸塊結(jié)構(gòu)。
采用上述方案,所述導(dǎo)軌300設(shè)計為橫截面呈梯形,其由外向內(nèi)逐漸減小,與所述滑動塊400的凹槽401結(jié)構(gòu)相互配合,可以防止所述滑動塊400從所述導(dǎo)軌300上脫落。
此外,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,如圖1所示,所述承托臺100包括相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊、及相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊,在所述第一側(cè)邊設(shè)置有能夠使得所述承托臺100由水平狀態(tài)翻轉(zhuǎn)成豎直狀態(tài)的翻轉(zhuǎn)軸600,所述導(dǎo)軌300沿所述承托臺100的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的延伸方向設(shè)置。
采用上述方案,在所述第一側(cè)邊設(shè)置有翻轉(zhuǎn)軸600,在承載基板時,使得所述承托臺100承載基板在水平狀態(tài)與豎直狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換,并且所述導(dǎo)軌300在第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的延伸方向上設(shè)置,以使得所述支撐部件200能夠沿著所述第三側(cè)邊或所述第四側(cè)邊的延伸方向移動。
在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,如圖1所示,所述承托臺100包括多個承托部110,在每一所述承托部110的側(cè)邊設(shè)置有所述導(dǎo)軌300,在每一所述導(dǎo)軌300上設(shè)置有多個所述滑動塊400;
所述承載裝置還包括能夠驅(qū)動各滑動塊400在所述導(dǎo)軌上移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括:
橫桿700,多個支撐部件200呈陣列排布,同一行的多個支撐部件200中各支撐部件200所對應(yīng)的滑動塊400通過同一根橫桿700連接一起,以使同一行的多個支撐部件能夠同步移動;
驅(qū)動軌道800,所述驅(qū)動軌道800設(shè)置在所述承托臺100的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的至少一個側(cè)邊上(即,最靠外側(cè)的承托部110的外側(cè)面上),所述橫桿700的一端設(shè)置在所述驅(qū)動軌道800上,并能夠沿所述驅(qū)動軌道800移動;
以及,用于驅(qū)動所述橫桿700沿所述驅(qū)動軌道800往復(fù)移動的驅(qū)動部。
采用上述方案,將每行的移動支撐部件200所對應(yīng)的滑動塊400可以通過同一根橫桿700進(jìn)行連接,由所述橫桿700驅(qū)動同一行的各滑動塊400在所述導(dǎo)軌300上移動時,可以實現(xiàn)同一行的各支撐部件200在所述導(dǎo)軌300的延伸方向上的同步移動,以根據(jù)不同型號,更換支撐部件200的不同位置,這種結(jié)構(gòu)更為簡化,且可同步控制同一行的多個支撐部件200的移動,控制簡單。
并且,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,所述驅(qū)動部包括:
驅(qū)動馬達(dá)(圖中未示意出),所述驅(qū)動馬達(dá)包括輸出軸;
以及能夠在所述輸出軸驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)齒輪900,所述橫桿700的一端連接在所述旋轉(zhuǎn)齒輪900的中心,且所述旋轉(zhuǎn)齒輪900與所述橫桿700之間能夠相對轉(zhuǎn)動;
其中在所述驅(qū)動軌道800上設(shè)置有齒條,所述齒條與所述旋轉(zhuǎn)齒輪900嚙合。
采用上述方案,通過所述驅(qū)動馬達(dá)來驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)齒輪900旋轉(zhuǎn),由于旋轉(zhuǎn)齒輪900與所述驅(qū)動軌道800的齒條嚙合,在旋轉(zhuǎn)齒輪900轉(zhuǎn)動時,可以帶動所述橫桿700在所述驅(qū)動軌道800的延伸方向上往復(fù)運(yùn)動,進(jìn)而帶動所述橫桿700上連接的滑動塊400往復(fù)運(yùn)動,實現(xiàn)同步移動同一行各支撐部件200的目的。
當(dāng)然可以理解的是,在本發(fā)明其他實施例中,所述多個支撐部件200與所述滑動塊400及所述導(dǎo)軌300的設(shè)置位置及連接關(guān)系等并不僅局限于此,例如:所述支撐部件200還可以是各支撐部件200單獨(dú)移動,這種單獨(dú)控制各支撐部件200移動的方式與上述控制同一行支撐部件200同步移動的方式相比,優(yōu)點(diǎn)是,可以優(yōu)化移動范圍,使得各支撐部件200根據(jù)實際情況來單獨(dú)移動,缺點(diǎn)是,控制復(fù)雜,實現(xiàn)困難。
此外,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,如圖4所示,所述承托臺100的厚度從靠近所述第一側(cè)邊的一側(cè)向靠近所述第二側(cè)邊的一側(cè)逐漸減小。
采用上述方案,采用階梯狀的承托臺100設(shè)計方式,縮短承托臺100的整體重心與翻轉(zhuǎn)軸600距離,使得承托臺100的重心向翻轉(zhuǎn)軸600所在方向偏移,有利于承托臺100旋轉(zhuǎn)的機(jī)械運(yùn)動穩(wěn)定性。
優(yōu)選的,如圖4所示,所述承托臺100呈階梯狀結(jié)構(gòu),所述承托臺100的厚度從靠近所述第一側(cè)邊的一側(cè)向靠近所述第二側(cè)邊的一側(cè)呈階梯狀逐漸減小。
需要說明的是,在上述方案中,將所述承托臺100通過設(shè)計為階梯狀結(jié)構(gòu),來使得承托臺100的重心與翻轉(zhuǎn)軸600距離縮短,承托臺100的厚度過渡比較平穩(wěn),制造也簡單。需要理解的是,在實際應(yīng)用中,對于所述承托臺100的具體結(jié)構(gòu)可以不僅局限于此,只要使得所述承托臺100從靠近所述第一側(cè)邊的一側(cè)向靠近所述第二側(cè)邊的一側(cè)逐漸減小即可。
此外,現(xiàn)有技術(shù)中,所述承托臺100上的支撐部件200隨著壽命的增加,表面磨損,在承托臺100的翻動過程中容易產(chǎn)生靜電,且支撐部件200的頂部呈球形,與基板背部接觸面積小,靜電容易積累并突然釋放,對于OLED顯示基板而言,引起亮暗點(diǎn)、白Mura等不良。
如圖3所示,在本發(fā)明所提供的實施例中,優(yōu)選的,所述支撐部件200包括用于與基板接觸的接觸端201、及與所述接觸端相對的連接端202,其中,所述支撐部件200的接觸端201端面為具有預(yù)定面積的平面結(jié)構(gòu)。
采用上述方案,改進(jìn)了現(xiàn)有的支撐部件200的結(jié)構(gòu),將現(xiàn)有的頂部球形結(jié)構(gòu)的支撐部件200改進(jìn)為使得支撐部件200的接觸端端面為平面,增加了與基板的接觸面積,減少靜電釋放。
優(yōu)選的,如圖3所示,所述支撐部件200為一圓柱形結(jié)構(gòu),且所述接觸端201的邊緣為經(jīng)圓滑化處理的圓滑倒角結(jié)構(gòu)。
采用上述方案,可移動的支撐部件200采用圓柱形結(jié)構(gòu),同時對頂部邊緣進(jìn)行圓滑化處理,防止放置基板時劃傷基板。
此外,本發(fā)明實施例中還提供了一種離子注入設(shè)備,包括本發(fā)明實施例中所提供的承載裝置。
以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下,還可以作出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。