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一種用于鉭電容器的有序孔陣列陽極鉭箔及其制備方法與流程

文檔序號:12787975閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種用于鉭電容器的有序孔陣列陽極鉭箔,其特征在于:包括片狀結(jié)構(gòu)的鉭片層,在所述鉭片層的至少一個表面一體化形成有有序孔陣列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有序孔陣列陽極鉭箔,其特征在于:所述有序孔陣列的面積小于或等于鉭片層的表面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有序孔陣列陽極鉭箔,其特征在于:所述鉭片層的厚度為5μm~2mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有序孔陣列陽極鉭箔,其特征在于:所述有序孔陣列中各孔的深度為1μm~50μm,孔直徑為10~80μm。

5.一種權(quán)利要求1~4中任意一項所述的有序孔陣列陽極鉭箔的制備方法,其特征在于:取鉭片,用酒精清洗去除鉭片表面的油污和灰塵;然后將鉭片放在光學(xué)平臺上,并用夾具定位、夾緊;最后調(diào)整激光器參數(shù)和光斑直徑,控制激光束對鉭片表面進行點掃描處理,即在鉭片層表面一體化形成有序孔陣列。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的有序孔陣列陽極鉭箔的制備方法,其特征在于:對鉭片表面進行點掃描處理時,調(diào)整所述激光器的能量范圍為20~30w、掃描速度范圍為500~1000mm/s、光斑直徑為30~80μm、點間距30-100μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的有序孔陣列陽極鉭箔的制備方法,其特征在于:對鉭片表面進行點掃描處理的處理區(qū)域為任意形狀。

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