本發(fā)明涉及濕法刻蝕工藝技術領域，具體為一種刻蝕裝置。

背景技術：

濕法刻蝕工藝主要是指采用液態(tài)化學藥品對刻蝕物進行去除的刻蝕技術，具體為通過刻蝕液與刻蝕物進行化學反應，改變刻蝕物的結(jié)構，使無光刻膠覆蓋的刻蝕物部分脫離基板表面，而把有光刻膠覆蓋的刻蝕物區(qū)域保存下來，這樣在基板上得到了所需要的刻蝕物圖形。

濕法刻蝕設備一般是在濕法刻蝕槽內(nèi)利用酸性液體通過噴嘴對待刻蝕基板進行噴淋，從而達到刻蝕目的。隨著平板顯示行業(yè)中基板尺寸的增大，在濕法刻蝕過程中，基板表面積聚的藥液越來越多從而使得基板表面的藥液置換性變差，從而導致設置在基板上的刻蝕物刻蝕的均一性變差，嚴重影響產(chǎn)品的良率。

太陽能電池作為一種綠色能源，在全球能源戰(zhàn)略中的扮演的角色愈來愈重要，有關太陽能電池的研究也越來越廣泛。目前的太陽能電池以晶體硅電池為主。常規(guī)的晶體硅電池的制備工藝包括按順序進行的硅片制絨 ；擴散，形成擴散表面 ；單邊刻蝕，形成刻蝕區(qū) ；鍍膜 ；絲網(wǎng)印刷及燒結(jié)。

目前，單邊刻蝕中經(jīng)常采用濕法刻蝕?，F(xiàn)有的濕法刻蝕裝置主要包括上料槽體 10’和刻蝕槽體 20’。其中上料槽體 10’中設有導輪 120’，刻蝕槽體 20’中設有導輪 220’。采用上述濕法刻蝕機進行濕法刻蝕的過程主要是對已完成擴散的硅片 30’進行藥液刻蝕，用以在硅片中除擴散表面以外的表面（待刻蝕面）形成刻蝕區(qū)。具體地，將擴散后的硅片在導輪 220’的輸送下經(jīng)過刻蝕槽 20’中的藥液表面，使硅片的待刻蝕面與藥液接觸，以完成刻蝕。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種刻蝕裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種刻蝕裝置,包括刻蝕裝置本體、硅基體和氣壓腔，所述刻蝕裝置本體的側(cè)面頂部設有報警指示燈，所述刻蝕裝置本體的下方設有控制箱，控制箱的內(nèi)部設有內(nèi)置電路，所述控制箱的內(nèi)部設有刻蝕倉，刻蝕倉的頂部設有多個噴嘴，所述噴嘴的正下方設有硅基體。

優(yōu)選的，所述硅基體上設有刻蝕開口，所述刻蝕開口上設有紅外吸收區(qū)，紅外吸收區(qū)四周設有熱電堆，所述熱電堆的一側(cè)設有支撐臂，所述支撐臂垂直于紅外吸收區(qū)的四條邊。

優(yōu)選的，所述噴嘴的頂部設有氣壓腔，所述氣壓腔的下方設有酸液腔，所述酸液腔的側(cè)壁設有導液管，所述導液管焊接在酸液腔的側(cè)壁上，所述酸液腔的下方中央設有噴頭，所述噴頭為倒置狀，所述噴頭的側(cè)面設有定位器。

優(yōu)選的，所述氣壓腔與酸液腔之間設有導管連通。

優(yōu)選的，所述內(nèi)置電路上設有電源模塊，所述電源模塊的另一端設有主控電路，所述主控電路的一側(cè)設有無線網(wǎng)模塊、存儲模塊，所述無線網(wǎng)模塊、存儲模塊相互并聯(lián)，所述主控電路的另一端設有智能控制模塊，所述電源模塊、主控電路、智能控制模塊相互串聯(lián)。

優(yōu)選的，所述智能控制模塊的一端設有報警電路，所述報警電路的一側(cè)設有氣泵控制模塊，所述氣泵控制模塊的一側(cè)設有驅(qū)動電路，所述驅(qū)動電路的一端設有檢測電路，所述驅(qū)動電路的一側(cè)設有噴嘴控制模塊，所述噴嘴控制模塊的另一端設有定位模塊，所述報警電路、氣泵控制模塊與驅(qū)動電路、檢測電路相互與噴嘴控制模塊、定位模塊相互并聯(lián)。

優(yōu)選的，其使用方法包括以下步驟：

A、在刻蝕裝置本體的刻蝕箱內(nèi)部放有硅基體，在每一個硅基體的正上方設有噴嘴，每一個噴嘴側(cè)面的導液管連通；

B、氣壓腔的下方都有一個噴頭，噴頭側(cè)面的定位器給噴頭對準硅基體上需要清除的部分進行噴酸，酸液與硅基體上要清除的部分進行酸液化學反應清除；

C、內(nèi)置電路上的驅(qū)動電路驅(qū)動刻蝕裝置本體上的刻蝕開口后，酸液腔進行反應酸液的定點噴灑；

D、在噴灑過程中如果出現(xiàn)意外，那么內(nèi)置電路上的報警電路將自動報警提示，在報警提示的過程中報警指示燈將不斷閃爍，從而提示人們。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：

（1）本發(fā)明中，在刻蝕裝置本體的右上方側(cè)面裝有報警指示燈，當內(nèi)置電路上的檢測電路檢測到濕法刻蝕過程中出現(xiàn)異常，報警電路將會使報警電路不斷閃爍出相應的顏色來提示人們具體的異常點是什么；

（2）本發(fā)明中，在刻蝕裝置本體的刻蝕倉上設有防護玻璃，避免在進行化學反應的時候，酸溶液監(jiān)處傷人，也能避免有害氣體跑出；

（3）本發(fā)明設計合理、結(jié)構簡單，能夠方便在濕法刻蝕裝置的過程中得到品質(zhì)良好的產(chǎn)品，同時還能準確定位需要進行化學反應去除的部分，通過本發(fā)明生產(chǎn)的產(chǎn)品，不僅質(zhì)量好而且生產(chǎn)效率高，實現(xiàn)現(xiàn)代化安全生產(chǎn)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構示意圖；

圖2為本發(fā)明的俯視圖；

圖3為本發(fā)明的局部結(jié)構示意圖；

圖4為本發(fā)明的控制原理框圖；

圖中：1、紅外吸收區(qū)；2、框架；3、刻蝕開口；4、硅基體；5、熱電堆；6、支撐臂；7、刻蝕裝置本體；8、刻蝕倉；9、防護玻璃；10、控制箱；11、報警指示燈 ；12、噴嘴；13、氣壓腔；14、酸液腔；15、噴頭；16、定位器；17、導液管；18、內(nèi)置電路；19、電源模塊；20、主控電路；21、無線網(wǎng)模塊；22、存儲模塊；23、智能控制模塊；24、報警電路；25、氣泵控制模塊；26、驅(qū)動電路；27、檢測電路；28、噴嘴控制模塊；29、定位模塊。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

請參閱圖1-4，本發(fā)明提供一種技術方案：一種刻蝕裝置,包括刻蝕裝置本體7、硅基體4和氣壓腔13，刻蝕裝置本體7的側(cè)面頂部設有報警指示燈11，當內(nèi)置電路18上的檢測電路27檢測到濕法刻蝕過程中出現(xiàn)異常，報警電路將會使報警電路不斷閃爍出相應的顏色來提示人們具體的異常點是什么，刻蝕裝置本體7的下方設有控制箱10，控制箱10的內(nèi)部設有內(nèi)置電路18，控制箱10的內(nèi)部設有刻蝕倉8，刻蝕倉8的頂部設有多個噴嘴12，噴嘴12的正下方設有硅基體4；硅基體4上設有刻蝕開口3，刻蝕開口3上設有紅外吸收區(qū)1，紅外吸收區(qū)1四周設有熱電堆5，熱電堆5的一側(cè)設有支撐臂6，支撐臂6垂直于紅外吸收區(qū)1的四條邊。

本實施例中，噴嘴12的頂部設有氣壓腔13，氣壓腔13的下方設有酸液腔14，氣壓腔13與酸液腔14之間設有導管連通；酸液腔14的側(cè)壁設有導液管17，導液管17焊接在酸液腔14的側(cè)壁上，酸液腔14的下方中央設有噴頭15，噴頭15為倒置狀，噴頭15的側(cè)面設有定位器。

本實施例中，內(nèi)置電路18上設有電源模塊19，電源模塊19的另一端設有主控電路20，主控電路20的一側(cè)設有無線網(wǎng)模塊21、存儲模塊22，無線網(wǎng)模塊21、存儲模塊22相互并聯(lián)，主控電路20的另一端設有智能控制模塊23，電源模塊19、主控電路20、智能控制模塊23相互串聯(lián)；智能控制模塊23的一端設有報警電路24，報警電路24的一側(cè)設有氣泵控制模塊25，氣泵控制模塊25的一側(cè)設有驅(qū)動電路26，驅(qū)動電路26的一端設有檢測電路27，驅(qū)動電路26的一側(cè)設有噴嘴控制模塊28，噴嘴控制模塊28的另一端設有定位模塊29，報警電路24、氣泵控制模塊25與驅(qū)動電路26、檢測電路27相互與噴嘴控制模塊28、定位模塊29相互并聯(lián)。

本發(fā)明的使用方法包括以下步驟：

A、在刻蝕裝置本體7的刻蝕箱內(nèi)部放有硅基體4，在每一個硅基體4的正上方設有噴嘴12，每一個噴嘴12側(cè)面的導液管17連通；

B、氣壓腔13的下方都有一個噴頭15，噴頭15側(cè)面的定位器16給噴頭15對準硅基體4上需要清除的部分進行噴酸，酸液與硅基體4上要清除的部分進行酸液化學反應清除；

C、內(nèi)置電路18上的驅(qū)動電路26驅(qū)動刻蝕裝置本體7上的刻蝕開口后，酸液腔進行反應酸液的定點噴灑；

D、在噴灑過程中如果出現(xiàn)意外，那么內(nèi)置電路18上的報警電路24將自動報警提示，在報警提示的過程中報警指示燈11將不斷閃爍，從而提示人們。

本發(fā)明設計合理、結(jié)構簡單，能夠方便在濕法刻蝕裝置的過程中得到品質(zhì)良好的產(chǎn)品，同時還能準確定位需要進行化學反應去除的部分，通過本發(fā)明生產(chǎn)的產(chǎn)品，不僅質(zhì)量好而且生產(chǎn)效率高，實現(xiàn)現(xiàn)代化安全生產(chǎn)。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，對于本領域的普通技術人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權利要求及其等同物限定。