技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及x射線源、高電壓發(fā)生器、電子束槍、旋轉(zhuǎn)靶組件、旋轉(zhuǎn)靶以及旋轉(zhuǎn)真空密封件。具體地，一種用于旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)真空密封件，所述密封件包括：孔，所述孔用于容納所述軸并且在高壓強(qiáng)端部和低壓強(qiáng)端部中的每一個(gè)端部處具有端子孔口；腔室，所述腔室在介于所述高壓強(qiáng)端部與所述低壓強(qiáng)端部之間的位置處圍繞所述孔并且周向地鄰接所述孔；以及流動(dòng)路徑，所述流動(dòng)路徑從所述腔室延伸至適合于連接至真空泵的端口，其中，所述孔和所述軸的尺寸被設(shè)定為：使得在所述腔室中維持的1毫巴的壓強(qiáng)以及在所述低壓強(qiáng)端部處維持的10?5毫巴的壓強(qiáng)導(dǎo)致所述腔室與所述低壓強(qiáng)端部之間的氮的質(zhì)量流率小于10?3毫巴l/s。

技術(shù)研發(fā)人員：R·哈德蘭德
受保護(hù)的技術(shù)使用者：尼康計(jì)量公眾有限公司
文檔號(hào)碼：201710058109
技術(shù)研發(fā)日：2014.03.12
技術(shù)公布日：2017.06.23