技術(shù)特征：

1.一種刻蝕方法，其特征在于，所述方法包括：

步驟S1、在第一溫度氛圍中對(duì)一晶圓進(jìn)行刻蝕反應(yīng)，在刻蝕過程中生成副產(chǎn)物并覆蓋于所述晶圓表面；

步驟S2、在第二溫度氛圍中對(duì)晶圓表面的副產(chǎn)物進(jìn)行揮發(fā)處理；

將步驟S1和步驟S2作為一個(gè)完整的周期，進(jìn)行至少兩次以上的循環(huán)處理。

2.如權(quán)利要求1所述的刻蝕方法，其特征在于，對(duì)晶圓進(jìn)行刻蝕反應(yīng)時(shí)，同時(shí)通入NF₃和NH₃。

3.如權(quán)利要求1所述的刻蝕方法，其特征在于，在進(jìn)行刻蝕工藝時(shí)，所述第一溫度為25℃～35℃。

4.如權(quán)利要求1所述的刻蝕方法，其特征在于，在進(jìn)行刻蝕工藝時(shí)，所述第二溫度為170℃～190℃。