本發(fā)明涉及電池領(lǐng)域，尤其涉及一種防爆電池殼。

背景技術(shù)：

鋰離子電池是一種充電電池，它主要依靠鋰離子在正極和負(fù)極之間移動(dòng)來(lái)工作。在充放電過(guò)程中，Li+在兩個(gè)電極之間往返嵌入和脫嵌：充電池時(shí)，Li+從正極脫嵌，經(jīng)過(guò)電解質(zhì)嵌入負(fù)極，負(fù)極處于富鋰狀態(tài)；放電時(shí)則相反。由于鋰離子電池具有體積小、重量輕、電量強(qiáng)、綠色環(huán)保等特點(diǎn)，已廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)和日常生活中。

電池殼是鋰離子電池的重要組成部分，電池殼的防爆性能尤為重要，然而，現(xiàn)有電池殼的防爆性能較差，由此，急需解決。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于針對(duì)上述問(wèn)題，提供一種防爆電池殼，以解決現(xiàn)有電池殼的防爆性能差、安全隱患大的問(wèn)題。

本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：

一種防爆電池殼，包括殼體及設(shè)置于殼體頂端的防爆蓋帽，所述防爆蓋帽包括密封圈及由上至下依次封裝在密封圈內(nèi)的頂蓋、防爆片和孔板，所述頂蓋上開(kāi)有氣孔，所述孔板上開(kāi)有透氣孔，所述防爆片上設(shè)置有起防爆作用的凹痕，所述防爆片的中間處下沉，并與孔板通過(guò)多個(gè)激光焊點(diǎn)連接，所述殼體的底面上設(shè)置有一圈刻痕凹槽，所述刻痕凹槽的槽口深度為殼體厚度的1/3～3/4。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述頂蓋與防爆片之間設(shè)置有墊片。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述防爆片與孔板之間設(shè)置有絕緣膠圈。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，殼體的內(nèi)表面、外表面均設(shè)置有鍍鎳層，提高其防銹性能。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述刻痕凹槽的槽口寬度由下至上依次遞減。

本發(fā)明的有益效果為，所述一種防爆電池殼的防爆蓋帽具有較好的防爆性能，且殼體底面設(shè)置一圈刻痕凹槽，進(jìn)一步增強(qiáng)了防爆性能，具有雙重保障，大大減小了安全隱患。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明一種防爆電池殼的主視圖；

圖2為本發(fā)明一種防爆電池殼的仰視圖；

圖3為本發(fā)明一種防爆電池殼在A處的放大圖；

圖4為本發(fā)明一種防爆電池殼在B處的放大圖。

圖中:

1、殼體；2、防爆蓋帽；21、密封圈；22、頂蓋；23、防爆片；24、孔板；25、墊片；26、絕緣膠圈；3、刻痕凹槽。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖并通過(guò)具體實(shí)施方式來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案?？梢岳斫獾氖牵颂幩枋龅膶?shí)施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對(duì)本發(fā)明的限定。

請(qǐng)參照?qǐng)D1至圖4所示，于本實(shí)施例中，一種防爆電池殼，包括殼體1及設(shè)置于殼體1頂端的防爆蓋帽2，所述殼體1的內(nèi)表面、外表面均設(shè)置有鍍鎳層，所述防爆蓋帽2包括密封圈21及由上至下依次封裝在密封圈21內(nèi)的頂蓋22、防爆片23和孔板24，所述頂蓋22上開(kāi)有氣孔，且頂蓋22與防爆片23之間設(shè)置有墊片25，所述孔板24上開(kāi)有透氣孔，所述防爆片23上設(shè)置有起防爆作用的凹痕，且防爆片與孔板之間設(shè)置有絕緣膠圈，所述防爆片23的中間處下沉，并與孔板24通過(guò)多個(gè)激光焊點(diǎn)連接，所述殼體1的底面上設(shè)置有一圈刻痕凹槽3，所述刻痕凹槽3的槽口深度為殼體厚度的1/3～3/4，所述刻痕凹槽3的槽口寬度由下至上依次遞減，刻痕凹槽3的槽口截面為T(mén)形結(jié)構(gòu)。

在電池內(nèi)壓上升時(shí)，刻痕凹槽3會(huì)在額定氣壓下爆開(kāi)，且防爆蓋帽2的防爆片上的凹痕會(huì)在額定氣壓下爆開(kāi)；此外，電池內(nèi)壓上升時(shí)，防爆蓋帽2的防爆片會(huì)變形拉斷激光焊點(diǎn)，形成斷路；具有雙重保障，安全性能高。

以上實(shí)施例只是闡述了本發(fā)明的基本原理和特性，本發(fā)明不受上述實(shí)施例限制，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還有各種變化和改變，這些變化和改變都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)界定。