1.一種等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，用于將被刻蝕樣片固定于下電極，其特征在于，
所述壓環(huán)包括壓環(huán)主體、定位爪、和樣片壓圈，所述壓環(huán)主體呈平面圓環(huán)狀，所述定位爪沿著所述壓環(huán)主體的周向間隔一定角度而設(shè)置并沿徑向凸出到壓環(huán)主體外周，所述樣片壓圈沿周向整圈設(shè)置于所述壓環(huán)主體的內(nèi)側(cè)并與所述壓環(huán)主體同心，在所述定位爪的每個(gè)中設(shè)置有用于與垂直導(dǎo)向桿相配合的定位孔，所述樣片壓圈的與所述樣片壓觸面相垂直的面從所述樣片壓觸面離開一定距離后向所述壓環(huán)主體徑向朝外的方向傾斜一定角度a而形成錐面，所述角度a為95°～150°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
每個(gè)所述定位爪均與壓環(huán)主體位于同一平面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述定位爪的數(shù)目為至少三個(gè)，且在壓環(huán)主體的周向上均勻分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
每個(gè)所述定位爪投影在下電極的上表面上的徑向長(zhǎng)度為10～50mm，每個(gè)所述定位爪沿所述壓環(huán)主體的周向的寬度為20～50mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述定位爪與所述壓環(huán)主體為一體化成形而成的結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述樣片壓圈的朝向所述樣片的面包括樣片壓觸環(huán)面，所述樣片壓觸環(huán)面與所述壓環(huán)主體的下表面不在一個(gè)平面而形成臺(tái)階狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述樣片壓圈與所述壓環(huán)主體為一體化成形而成的結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述壓環(huán)主體由作為絕緣材質(zhì)的陶瓷或石英加工而成。