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一種分選機用金屬膜電阻的改進結構的制作方法

文檔序號:11050526閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種金屬膜電阻的改進結構,包括金屬膜電阻本體(1),其特征在于:所述金屬膜電阻本體(1)的頂部設有上外殼(8),所述上外殼(8)的底部固定連接有上防水保護膜(9),所述上防水保護膜(9)的底部固定連接有上金屬薄膜層(10),所述上金屬薄膜層(10)的底部固定連接有填充層(16),所述填充層(16)的底部固定連接有下金屬薄膜層(15),所述下金屬薄膜層(15)的底部固定連接有下防水保護膜(14),所述下防水保護膜(14)的底部固定連接有下外殼(13),所述金屬膜電阻本體(1)的左側設有左絕緣塊(6),所述金屬膜電阻本體(1)的右側設有右絕緣塊(7),所述填充層(16)的內(nèi)部設有金屬骨架(17),所述金屬骨架(17)的左側設有左連接帽(11),所述左連接帽(11)的左側固定連接有左連接塊(4),所述左連接塊(4)的左側固定連接有左導電線(2),所述金屬骨架(17)的右側設有右連接帽(12),所述右連接帽(12)的右側固定連接有右連接塊(5),所述右連接塊(5)的右側固定連接有右導電線(3)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種金屬膜電阻的改進結構,其特征在于:所述左絕緣塊(6)的頂部與上外殼(8)的底部固定連接,所述左絕緣塊(6)的底部與下外殼(13)的頂部固定連接,所述左絕緣塊(6)的右側與上防水保護膜(9)、上金屬薄膜層(10)、填充層(16)、下防水保護膜(14)和下金屬薄膜層(15)的左側均固定連接。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種金屬膜電阻的改進結構,其特征在于:所述右絕緣塊(7)的頂部與上外殼(8)的底部固定連接,所述右絕緣塊(7)的底部與下外殼(13)的頂部固定連接,所述右絕緣塊(7)的左側與上防水保護膜(9)、上金屬薄膜層(10)、填充層(16)、下防水保護膜(14)和下金屬薄膜層(15)的右側均固定連接。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種金屬膜電阻的改進結構,其特征在于:所述上外殼(8)、上防水保護膜(9)、上金屬薄膜層(10)、下外殼(13)、下防水保護膜(14)和下金屬薄膜層(15)的厚度大小均相等。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種金屬膜電阻的改進結構,其特征在于:所述左連接帽(11)與右連接帽(12)的形狀大小相等。

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