1.一種有機發(fā)光器件的制作方法，其特征在于，包括步驟：
在襯底基材上制作底電極；
利用蒸鍍技術(shù)以及光刻技術(shù)在所述底電極上制作有機電致發(fā)光組件；
在所述有機電致發(fā)光組件上制作頂電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，利用蒸鍍技術(shù)以及光刻技術(shù)在所述底電極上制作有機電致發(fā)光組件的方法包括步驟：
在所述底電極上蒸鍍空穴注入層；
按共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上利用光刻技術(shù)制作能夠發(fā)出不同顏色光線的發(fā)光層各自對應(yīng)的空穴傳輸層；
在所述空穴傳輸層上蒸鍍對應(yīng)的發(fā)光層；
在所述發(fā)光層上蒸鍍電子傳輸層；
在所述電子傳輸層上蒸鍍電子注入層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述能夠發(fā)出不同顏色的發(fā)光層包括：能夠發(fā)出紅色光線的第一發(fā)光層、能夠發(fā)出綠色光線的第二發(fā)光層以及能夠發(fā)出藍色光線的第三發(fā)光層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，按共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上利用光刻技術(shù)制作能夠發(fā)出紅色光線的第一發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層的方法包括步驟：
按所述第一發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上蒸鍍有機材料層；
在有機材料層上涂布覆蓋光阻層；
利用第一曝光光罩對所述光阻層進行曝光；所述第一曝光光罩相對于所述第一發(fā)光層的部分透光，其余部分不透光；
對經(jīng)曝光后的光阻層進行顯影，以將未被光照的光阻層去除；
將未被光阻層覆蓋的有機材料層刻蝕去除；
將被光照的光阻層剝離，從而形成所述第一發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，按共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上利用光刻技術(shù)制作能夠發(fā)出綠色光線的第二發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層的方法包括步驟：
按所述第二發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上蒸鍍有機材料層；
在有機材料層上涂布覆蓋光阻層；
利用第二曝光光罩對所述光阻層進行曝光；所述第二曝光光罩相對于所述第二發(fā)光層的部分透光，其余部分不透光；
對經(jīng)曝光后的光阻層進行顯影，以將未被光照的光阻層去除；
將未被光阻層覆蓋的有機材料層刻蝕去除；
將被光照的光阻層剝離，從而形成所述第二發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，按共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上利用光刻技術(shù)制作能夠發(fā)出綠色光線的第三發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層的方法包括步驟：
按所述第三發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度在所述空穴注入層上蒸鍍有機材料層；
在有機材料層上涂布覆蓋光阻層；
利用第三曝光光罩對所述光阻層進行曝光；所述第三曝光光罩相對于所述第三發(fā)光層的部分透光，其余部分不透光；
對經(jīng)曝光后的光阻層進行顯影，以將未被光照的光阻層去除；
將未被光阻層覆蓋的有機材料層刻蝕去除；
將被光照的光阻層剝離，從而形成所述第三發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述的制作方法，其特征在于，所述光阻層采用負光阻材料制作。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項所述的制作方法，其特征在于，所述第三發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度大于所述第二發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度，并且所述第二發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度大于所述第一發(fā)光層對應(yīng)的空穴傳輸層共振模態(tài)所需厚度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述底電極和所述頂點極中的一個是透明的或半透明的，另一個是不透明且反射光的。
10.一種利用權(quán)利要求1至9中任一項所述的制作方法制作的有機發(fā)光器件。