本發(fā)明屬于有機(jī)發(fā)光技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板及其制作方法。

背景技術(shù)：

近年來(lái)，有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)成為國(guó)內(nèi)外的新興平面顯示器產(chǎn)品，這是因?yàn)镺LED顯示器具有自發(fā)光、廣視角(達(dá)175°以上)、短反應(yīng)時(shí)間(1μs)、高發(fā)光效率、廣色域、低工作電壓(3～10V)、面板薄(厚度可小于1mm)、可制作大尺寸與可撓曲的面板及制程簡(jiǎn)單等特性，而且它還具有低成本的潛力。

在OLED的制作過(guò)程中，玻璃基板在蒸鍍機(jī)內(nèi)受重力影響而下垂，從而出現(xiàn)變形，并且隨著玻璃基板的尺寸越來(lái)越大和越來(lái)越薄，變形量也越來(lái)越大，特別是針對(duì)柔性基板?，F(xiàn)如今由于現(xiàn)階段卷對(duì)卷技術(shù)和打印技術(shù)不成熟，因此在無(wú)法量產(chǎn)的情況下，柔性基板的制作普遍采用在玻璃基板表面涂布聚合物溶液，經(jīng)過(guò)固化反應(yīng)形成。在OLED制作過(guò)程中，柔性基板在玻璃基板上固化成膜后的收縮會(huì)加劇玻璃基板的變形，玻璃基板從其邊緣到中心位置，變形量逐漸增大，玻璃基板變形后與光罩(Mask)在磁鐵作用下貼合的時(shí)候會(huì)造成Mask與玻璃基板貼合不緊密的情況，從而產(chǎn)生陰影效應(yīng)和混色。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種在制作OLED時(shí)能夠減小變形量的用于承載OLED的承載基板及其制作方法。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板，其包括：基板；被吸附層，設(shè)置在所述基板的表面上，所述被吸附層包括樹脂層以及分布在所述樹脂層中的若干磁性納米顆粒。

進(jìn)一步地，所述磁性納米顆粒的分布密度從所述樹脂層的邊緣到中心逐漸增大。

進(jìn)一步地，所述磁性納米顆粒為鐵磁性納米顆粒，所述樹脂層的材料為聚酰亞胺樹脂。

進(jìn)一步地，所述承載基板還包括：改性層，包覆于所述磁性納米顆粒的表面上，所述改性層用于提高所述磁性納米顆粒與所述樹脂層的融合度。

進(jìn)一步地，所述改性層的材料為硅烷偶聯(lián)劑。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板的制作方法，其包括步驟：提供一基板；在所述基板的表面上涂布樹脂溶液；在涂布的所述樹脂溶液中噴灑若干磁性納米顆粒；對(duì)噴灑有若干磁性納米顆粒的樹脂溶液進(jìn)行加熱，以固化成型為具有若干磁性納米顆粒的樹脂層。

進(jìn)一步地，在步驟“在涂布的所述樹脂溶液中噴灑若干磁性納米顆粒”中，所述磁性納米顆粒的噴灑濃度從樹脂溶液的邊緣到中心逐漸增大。

進(jìn)一步地，所述磁性納米顆粒的表面上包覆有改性層，所述改性層用于提高所述磁性納米顆粒與所述樹脂層的融合度。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明能夠消除或者減小制作OLED時(shí)承載OLED的基板因受重力作用下垂而產(chǎn)生的形變，從而避免制作過(guò)程中的陰影效應(yīng)和蒸鍍混色。

附圖說(shuō)明

通過(guò)結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)承載基板承載柔性基板的示意圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板的制作方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

以下，將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。

在附圖中，為了清楚器件，夸大了層和區(qū)域的厚度。相同的標(biāo)號(hào)在整個(gè)說(shuō)明書和附圖中表示相同的元器件。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板的結(jié)構(gòu)示意圖。

參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板100包括：基板110、被吸附層120。

在本實(shí)施例中，基板110可例如是玻璃基板或者樹脂基板，但本發(fā)明并不限制于此，例如也可以是其他合適類型的硬質(zhì)基板?；?10包括相對(duì)的兩個(gè)表面，其中一個(gè)表面被定義為第一表面111，另一個(gè)表面被定義為第二表面112。

被吸附層120形成于第一表面111上。作為本發(fā)明的另一實(shí)施方式，被吸附層120也可以形成于第二表面112上。被吸附層120包括樹脂層121以及分散在樹脂層121中的若干磁性納米顆粒122。

進(jìn)一步地，被吸附層120的厚度為1～100μm，所述磁性納米顆粒122的粒徑為1～100nm，但本發(fā)明并不限制于此。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)承載基板承載柔性基板的示意圖。

參照?qǐng)D1和圖2，基板110的第一表面111上設(shè)置有被吸附層120，基板110的第二表面112上設(shè)置有柔性基板200和光罩300，被吸附層120貼合冷卻板400，冷卻板400的相對(duì)處設(shè)置有吸附體500，該吸附體500對(duì)被吸附層120具有吸附引力。

作為本發(fā)明的一實(shí)施方式，吸附體500可例如是磁鐵。所述磁性納米顆粒122可例如是鐵磁性納米顆粒，但本發(fā)明并不限制于此。

這樣在制作OLED時(shí)，被吸附層120收到吸附體500的吸引力，該吸引力完全或者部分抵消了基板110以及柔性基板200的重力，從而減小基板110的彎曲變形。

此外，樹脂層121應(yīng)當(dāng)具有耐高溫的特性，因此本實(shí)施例中樹脂層121優(yōu)選聚酰亞胺樹脂制成，但本發(fā)明并不限制于此。

誠(chéng)如背景技術(shù)中所述，玻璃基板從其邊緣到中心位置，變形量逐漸增大。繼續(xù)參照?qǐng)D1，為了與基板110的不同位置的變形量匹配，優(yōu)選地，在本實(shí)施例中，所述磁性納米顆粒122的分布密度從樹脂層121的邊緣到中心逐漸增大。這樣，吸附體500對(duì)被吸附層120的中心位置的吸引力較大，而對(duì)被吸附層120的邊緣位置的吸引力較小，從而最大程度保證基板110保持平整。

這里，需要說(shuō)明的是，本發(fā)明中被吸附層120的設(shè)置數(shù)量并不以圖1所示的一層為限，可以利用兩層或者更多層被吸附層120層疊設(shè)置在第一表面111上。

進(jìn)一步地，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板100還可以包括：改性層130。應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，作為本發(fā)明的另一實(shí)施例，改性層130沒(méi)有也可以。

所述改性層130包覆于磁性納米顆粒122的表面上，所述改性層130用于提高樹脂層121與若干磁性納米顆粒122的融合度。優(yōu)選地，改性層130可以由硅烷偶聯(lián)劑形成，但本發(fā)明并不限制于此，例如也可使用其他合適的能夠提高樹脂層121與若干磁性納米顆粒122的融合度的材料制成改性層130。

此外，需要說(shuō)明的是，當(dāng)?shù)谝槐砻?11上層疊設(shè)置兩層或者更多層被吸附層120時(shí)，相鄰兩層被吸附層120之間設(shè)置一層粘結(jié)層，該粘結(jié)層具有耐高溫的特性。也就是說(shuō)，被吸附層120和該粘結(jié)層交替層疊在第一表面111上。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制作OLED時(shí)用于承載OLED的承載基板的制作方法的流程圖

參照?qǐng)D1和圖3，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的承載基板100的制作方法包括步驟：

S310：提供一基板110。

S320：在基板110的第一表面111上涂布樹脂溶液。

S330：在涂布的所述樹脂溶液中噴灑若干磁性納米顆粒122。

S340：對(duì)噴灑有若干磁性納米顆粒122的樹脂溶液進(jìn)行加熱，以固化成型為具有若干磁性納米顆粒122的樹脂層121。

在步驟S330中，磁性納米顆粒122的噴灑濃度從樹脂溶液(或樹脂層121)的邊緣到中心逐漸增大。

進(jìn)一步地，所述磁性納米顆粒122上包覆有改性層130，該改性層130用于提高所述磁性納米顆粒122與所述樹脂層121的融合度。優(yōu)選地，改性層130可以由硅烷偶聯(lián)劑形成，但本發(fā)明并不限制于此，例如也可使用其他合適的能夠提高樹脂層121與若干磁性納米顆粒122的融合度的材料制成改性層130。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，能夠消除或者減小制作OLED時(shí)承載OLED的基板因受重力作用下垂而產(chǎn)生的形變，從而避免制作過(guò)程中的陰影效應(yīng)和蒸鍍混色。

雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。