本發(fā)明涉及微環(huán)境裝置，更詳細而言，涉及具有晶圓搬運機及設(shè)置有晶圓搬運機的晶圓搬運室的微環(huán)境裝置。

背景技術(shù)：

在半導體的制造工序中，使用稱作前端開口片盒(foup)等的容器進行各處理裝置之間的晶圓的搬運。另外，在對晶圓實施處理時，容器內(nèi)的晶圓經(jīng)由各處理裝置所配備的efem(設(shè)備前端模塊、equipmentfrontendmodule)而從前端開口片盒向處理室搬運。efem具有載置搬運晶圓的容器的裝載端口裝置、和將載置于裝載端口裝置的容器與處理晶圓的處理室之間連接的微環(huán)境裝置。

微環(huán)境裝置具有從容器取出晶圓并搬運至處理室的晶圓搬運機、和設(shè)置有晶圓搬運機且從容器搬運到處理室的晶圓所通過的晶圓搬運室。為了保護通過晶圓搬運機搬運中的晶圓表面不受氧化或污染影響，優(yōu)選處理前及處理后的晶圓所通過的晶圓搬運室的環(huán)境保持超過規(guī)定狀態(tài)的不活潑狀態(tài)及清潔度。作為提高晶圓搬運室內(nèi)的氣體的不活潑狀態(tài)或清潔度的方法，已知有將組合了送風用的風扇、ulpa·hepa過濾器那樣的顆粒除去過濾器、除去有害氣體成分的化學過濾器的風扇過濾單元設(shè)置于晶圓搬運室的頂板部，進一步與其分開地具備具有吸引用的風扇及高性能過濾器的局部排氣單元的方法(參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2008－296069號公報

但是，在現(xiàn)有的風扇過濾單元中，具有顆粒除去過濾器與化學過濾器一體化了的構(gòu)造，例如，在為了提高有害氣體成分的除去效率而提高化學過濾器的更換頻率時，也需要同時更換顆粒除去過濾器而是不經(jīng)濟的。另外，由于風扇過濾單元的設(shè)置場所也為晶圓搬運室的頂板部，所以作業(yè)性差，存在在頻繁地更換風扇過濾單元時導致裝置的運轉(zhuǎn)率的降低的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明是鑒于這樣的實際情況而創(chuàng)立的，提供一種將晶圓搬運室內(nèi)的環(huán)境保持為清潔，且維護性優(yōu)異的微環(huán)境裝置。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一方面所涉及的微環(huán)境裝置，其特征在于，具有：

晶圓搬運機，搬運晶圓；

晶圓搬運室，設(shè)置有所述晶圓搬運機，被搬運到處理室的所述晶圓進行通過；

循環(huán)流路，所述晶圓搬運室內(nèi)的氣體在所述晶圓搬運室迂回并流動；

送風單元，形成在所述晶圓搬運室下降，在所述循環(huán)流路上升的循環(huán)氣流；

整流部件，設(shè)置于所述晶圓搬運室的頂板部，將所述循環(huán)氣流層流化而流入所述晶圓搬運室；

顆粒除去過濾器，設(shè)置于所述晶圓搬運室的所述頂板部或所述循環(huán)流路；以及

化學過濾器，與所述顆粒除去過濾器分開地裝卸自如地設(shè)置于所述循環(huán)流路，

所述化學過濾器被設(shè)置為比所述晶圓搬運室中所述晶圓能夠通過的最低的位置低的高度。

本發(fā)明的第一方面所涉及的微環(huán)境裝置，由于化學過濾器與顆粒除去過濾器分開地裝卸自如，所以在要提高有害氣體成分的除去效率的情況下，可以僅提高化學過濾器更換頻率，從而是經(jīng)濟的。另外，化學過濾器被設(shè)置于微環(huán)境裝置中的比較低的位置，所以更換作業(yè)容易，即使頻繁地進行更換，也能夠抑制裝置的運轉(zhuǎn)率的降低。另外，由于化學過濾器的設(shè)置位置被設(shè)置為比晶圓搬運室中晶圓能夠通過的最低的位置低的高度，所以在循環(huán)流路及晶圓搬運室內(nèi)限定有害氣體成分容易浮游的區(qū)域，可以防止有害氣體成分附著于通過晶圓搬運室中的晶圓的問題。

另外，本發(fā)明的第二方面所涉及的微環(huán)境裝置，其特征在于，具有：

晶圓搬運機，搬運晶圓；

晶圓搬運室，設(shè)置有所述晶圓搬運機，被搬運到處理室的所述晶圓進行通過；

循環(huán)流路，所述晶圓搬運室內(nèi)的氣體在所述晶圓搬運室迂回并流動；

送風單元，形成在所述晶圓搬運室下降，在所述循環(huán)流路上升的循環(huán)氣流；

整流部件，設(shè)置于所述晶圓搬運室的頂板部，將所述循環(huán)氣流層流化而流入所述晶圓搬運室；

顆粒除去過濾器，設(shè)置于所述晶圓搬運室的所述頂板部或所述循環(huán)流路；以及

化學過濾器，與所述顆粒除去過濾器分開地裝卸自如地設(shè)置于所述循環(huán)流路，

所述化學過濾器被設(shè)置為自所述循環(huán)流路的最低位置向上方150cm以下的高度。

本發(fā)明的第二方面所涉及的微環(huán)境裝置，由于化學過濾器與顆粒除去過濾器分開地裝卸自如，所以可以僅提高化學過濾器更換頻率，從而是經(jīng)濟的。另外，化學過濾器被設(shè)置為自循環(huán)流路的最底面起150cm以下的高度，所以更換作業(yè)容易，即使頻繁地進行更換，也能夠抑制裝置的運轉(zhuǎn)率的降低。另外，由于化學過濾器的設(shè)置位置處于自循環(huán)流路的最低面起150cm以下的高度，所以在循環(huán)流路及晶圓搬運室中限定有害氣體成分容易浮游的區(qū)域，可以防止有害氣體成分附著于通過晶圓搬運室中的晶圓的問題。

另外，例如，所述顆粒除去過濾器也可以被設(shè)置于所述循環(huán)流路。

顆粒除去過濾器也可以被設(shè)置于頂板部，但通過設(shè)置于循環(huán)流路，可以縮小過濾器的面積，并且與被設(shè)置于頂板部的情況相比，容易更換。

另外，例如，所述顆粒除去過濾器也可以被設(shè)置為比所述晶圓搬運室中所述晶圓能夠通過的最低的位置低的高度。

在這樣的微環(huán)境裝置中，顆粒除去過濾器也與化學過濾器相同，被設(shè)置于晶圓搬運室中的比較低的位置，因此，更換作業(yè)變得容易。另外，由于顆粒除去過濾器的設(shè)置位置被設(shè)置為比晶圓搬運室中晶圓能夠通過的最低的位置低的高度，所以在循環(huán)流路及晶圓搬運室中限定顆粒容易浮游的區(qū)域，可以防止顆粒附著于通過晶圓搬運室中的晶圓的問題。

另外，例如，所述顆粒除去過濾器也可以被設(shè)置于所述晶圓搬運室的所述頂板部，兼作所述整流部件。

具備這樣的顆粒除去過濾器的微環(huán)境裝置由于顆粒除去過濾器兼作整流部件，所以能夠減少裝置的部件數(shù)。

另外，例如，也可以具有：清潔化氣體導入嘴，設(shè)置于比所述化學過濾器高的位置，向所述循環(huán)流路或所述晶圓搬運室的所述頂板部導入清潔化氣體。

通過利用清潔化氣體導入嘴，向循環(huán)流路或晶圓搬運室導入清潔化氣體，從而可以長時間地高度維持晶圓搬運室內(nèi)的清潔度。另外，通過將清潔化氣體導入嘴配置在比化學過濾器高的位置，可以防止清潔化氣體導入嘴附近被有害氣體成分污染的問題，因此，這樣的微環(huán)境裝置的維護性良好。

另外，例如，也可以在所述循環(huán)流路，以從上下方向夾持所述化學過濾器的方式設(shè)置有能夠遮斷所述循環(huán)流路的所述循環(huán)氣流的兩個風門(shutter)，在兩個所述風門之間的所述循環(huán)流路形成有用于將所述化學過濾器從所述循環(huán)流路取出的過濾器取出用窗。

在這樣的微環(huán)境裝置中，通過利用風門遮斷循環(huán)流路的氣流的流動，可以保持循環(huán)流路及過濾器搬運室的清潔度并更換化學過濾器。另外，在這樣的微環(huán)境裝置中，由于可以經(jīng)由過濾器取出用窗容易地進行化學過濾器的更換，所以維護性優(yōu)異，另外，可以縮短伴隨維護的裝置的停止時間。

附圖說明

圖1是包含本發(fā)明的第一實施方式所涉及的微環(huán)境裝置的efem的概略截面圖。

圖2是包含本發(fā)明的第二實施方式所涉及的微環(huán)境裝置的efem的概略截面圖。

圖3是包含本發(fā)明的第三實施方式所涉及的微環(huán)境裝置的efem的概略截面圖。

符號的說明

1…晶圓

2…前端開口片盒

10…裝載端口裝置

20…氣體排出部

30…底部氣體導入部

50、150、250…efem

51、151、251…微環(huán)境裝置

52…晶圓搬運室

52a…搬運部

52b…頂板部

54…晶圓搬運機

54a…臂

55…整流部件

57…循環(huán)流路

57c…最低位置

58a…下方連通口

58b…上方連通口

59…風扇

60…化學過濾器

62…顆粒除去過濾器

64…清潔化氣體導入嘴

80…循環(huán)氣流

90…清潔室

265、266…風門

267…過濾器取出用窗。

具體實施方式

以下，基于附圖所示的實施方式說明本發(fā)明。

如圖1所示，本發(fā)明的第一實施方式所涉及的微環(huán)境裝置51構(gòu)成半導體處理裝置的前端模塊即efem(設(shè)備前端模塊、equipmentfrontendmodule)50的一部分。efem50除具有微環(huán)境裝置51之外，還具有裝載端口裝置10。

裝載端口裝置10具有載置前端開口片盒(frontopeningunifiedpod)2的載置臺14。前端開口片盒2例如通過頂板搬運系統(tǒng)等被搬運到載置臺14之上。如圖1所示，裝載端口裝置10可以將載置于載置臺14的前端開口片盒2的主開口2b與晶圓搬運室52氣密地連接。

載置于載置臺14的上部的前端開口片盒2密封并保管及搬運作為收納物的多個晶圓1。在前端開口片盒2的內(nèi)部形成有用于在內(nèi)部收納晶圓1的空間。前端開口片盒2具有具備相對于前端開口片盒2的內(nèi)部位于水平方向的多個側(cè)面、位于上下方向的上面和底面2f的箱狀的形狀。在前端開口片盒2所具有的多個側(cè)面的一個，形成有使收納于前端開口片盒2的內(nèi)部的晶圓1出入的主開口2b。

前端開口片盒2具備用于密閉主開口2b的未圖示的蓋。前端開口片盒2的蓋通過裝載端口裝置10中的未圖示的開閉部進行開閉。圖1表示裝載端口裝置10的開閉部將前端開口片盒2的蓋開放，使前端開口片盒2和晶圓搬運室52氣密地連通的狀態(tài)。在前端開口片盒2的內(nèi)部配置有用于將被保持為水平的多個晶圓1在鉛錘方向上重疊的架(未圖示)，各晶圓1將其間隔作為一定而收納于前端開口片盒2的內(nèi)部。另外，在前端開口片盒2的底面2f形成有第一底孔5和第二底孔6。

裝載端口裝置10具有氣體排出部20和底部氣體導入部30。氣體排出部20具有能夠與形成于前端開口片盒2的底面2f中比底面中央更加從主開口2b分開的位置的第一底孔5連通的第一底部嘴21。

另外，氣體排出部20具有與第一底部嘴21連接，可以經(jīng)由第一底部嘴21而將前端開口片盒2的內(nèi)部的氣體排出到前端開口片盒2的外部的作為氣體排出流路的第一配管部22。再有，氣體排出部20具有設(shè)置于第一配管部22，強制性地排出前端開口片盒2的內(nèi)部的氣體的由送風風扇等構(gòu)成的強制排出單元24。裝載端口裝置10及氣體排出部20通過強制排出單元24吸引前端開口片盒2的內(nèi)部的氣體，或者經(jīng)由主開口2b流入晶圓搬運室52的氣體，由此，排出前端開口片盒2的內(nèi)部的氣體。裝載端口裝置10通過氣體排出部20所進行的排出動作，可以將從返回到前端開口片盒2內(nèi)的處理后的晶圓1產(chǎn)生的放氣排出到前端開口片盒2的外部。

裝載端口裝置10的底部氣體導入部30具有能夠與形成于前端開口片盒2的底面2f中比底面中央更接近主開口2b的位置的第二底孔6連通的第二底部嘴31。另外，底部氣體導入部30具有與第二底部嘴31連接的第二配管部32，經(jīng)由第二配管部32向第二底部嘴31供給清潔化氣體。裝載端口裝置10的底部氣體導入部30可以經(jīng)由前端開口片盒2的第二底孔6及與第二底孔6連通的第二底部嘴31而向前端開口片盒2的內(nèi)部導入清潔化氣體。

微環(huán)境裝置51具有晶圓搬運室52、晶圓搬運機54、循環(huán)流路57、風扇59、整流部件55、顆粒除去過濾器62、化學過濾器60、清潔化氣體導入嘴64。

晶圓搬運機54具有能夠抓住晶圓1的臂54a、和使臂54a移動的臂驅(qū)動部(未圖示)，搬運晶圓1。晶圓搬運機54可以將收納于前端開口片盒2的內(nèi)部的晶圓1經(jīng)由維持在清潔狀態(tài)的晶圓搬運室52移動到未圖示的處理室的內(nèi)部。另外，晶圓搬運機54可以使處理室中處理結(jié)束了的晶圓1從處理室移動到前端開口片盒2的內(nèi)部。

晶圓搬運室52是將作為搬運晶圓1的容器的前端開口片盒2與處理室(未圖示)連結(jié)的空間，具有搬運部52a和頂板部52b。搬運部52a位于頂板部52b的下方，構(gòu)成晶圓搬運室52的下部。在搬運部52a設(shè)置有晶圓搬運機54，另外，前端開口片盒2的主開口2b與搬運部52a氣密地連結(jié)。

因此，晶圓1通過晶圓搬運室52中的搬運部52a并在前端開口片盒2與處理室之間移動。如圖1所示，晶圓搬運室52中晶圓1能夠通過的最低的位置由搬運最低位置p1表示。搬運最低位置p1與收納于前端開口片盒2內(nèi)的最下段的晶圓1的位置、或處理室中的晶圓1的接收位置等相關(guān)聯(lián)而確定，但至少為晶圓搬運機54中的臂54a的可動域下限以上。自晶圓搬運室52的底面至搬運最低位置p1的高度例如為60cm～100cm左右。

晶圓搬運室52的頂板部52b位于搬運部52a的上方，構(gòu)成晶圓搬運室52的上部。在頂板部52b設(shè)置有作為送風單元的風扇59和整流部件55。

如圖1中用粗的實線箭頭所示的那樣，風扇59形成在晶圓搬運室52(特別是搬運部52a)下降，在循環(huán)流路57上升的循環(huán)氣流80。具有設(shè)置于風扇59、頂板部52b的中央部、例如相對于旋轉(zhuǎn)方向傾斜的葉片、和用于使葉片旋轉(zhuǎn)的電動機。其中，形成循環(huán)氣流80的送風單元不限于風扇59，也可以由能夠形成循環(huán)氣流80的泵等構(gòu)成。

整流部件55設(shè)置于風扇59的下方，即設(shè)置于頂板部52b與搬運部52a的邊界部分。整流部件55由形成有多個孔的金屬板即沖孔金屬等構(gòu)成。由風扇59形成的循環(huán)氣流80通過整流部件55，由此被層流化。因此，如圖1所示，在搬運部52a的內(nèi)部形成下降的層流的氣流。優(yōu)選通過整流部件55在搬運部52a的寬范圍內(nèi)形成層流的氣流，但氣流與晶圓搬運機54或底面等沖突等，在搬運部52a的一部分形成部分的亂流也是沒有問題的。

在晶圓搬運室52的搬運部52a下降的氣流，如圖1所示，經(jīng)由下方連通口58a而流入循環(huán)流路57。循環(huán)流路57經(jīng)由下方連通口58a而與晶圓搬運室52的搬運部52a連通，且經(jīng)由上方連通口58b而與晶圓搬運室52的頂板部52b連通。但是，循環(huán)流路57除了下方連通口58a及上方連通口58b，相對于晶圓搬運室52被中間壁57a隔開。

由此，晶圓搬運室52內(nèi)的氣體在晶圓搬運室52迂回并流動。即，晶圓搬運室52內(nèi)的氣體從位于晶圓搬運室52的下方的循環(huán)流路57的下方連通口58a流入循環(huán)流路57，在循環(huán)流路57內(nèi)上升。在循環(huán)流路57內(nèi)上升的氣體經(jīng)由與晶圓搬運室52的頂板部52b連通的上方連通口58b再次流入晶圓搬運室52。

此外，循環(huán)流路57與設(shè)置有包含微環(huán)境裝置51的efem50的清潔室90整體的環(huán)境通過外壁57b隔開。因此，形成有循環(huán)氣流80的晶圓搬運室52及循環(huán)流路57的內(nèi)部環(huán)境與清潔室90整體的環(huán)境隔開。由此，能夠僅有效地清潔暴露晶圓1的環(huán)境，即使在使用氮氣等不活潑氣體作為清潔化氣體的情況下，也能夠抑制不活潑氣體的消耗量。

在循環(huán)流路57設(shè)置有化學過濾器60和顆粒除去過濾器62。化學過濾器60和顆粒除去過濾器62均以隔開循環(huán)流路57的方式設(shè)置，形成于循環(huán)流路57的循環(huán)氣流80在通過了化學過濾器60及顆粒除去過濾器62之后，流入晶圓搬運室52的頂板部52b。

化學過濾器60是用于從循環(huán)氣流80除去有害氣體成分92的過濾器，例如由含有有害氣體成分92容易化學、物理地結(jié)合的材料的過濾器等構(gòu)成，但具體的除去原理沒有特別限定。作為化學過濾器60所除去的有害氣體成分92，例如可舉出用于晶圓搬運機54的可動部的潤滑材料的成分或從處理后的晶圓1放出的放氣等。

化學過濾器60與顆粒除去過濾器62分開而設(shè)置，且與顆粒除去過濾器62分開地裝卸自如。此外，化學過濾器60與圖1所示的狀態(tài)不同，也可以以與顆粒除去過濾器62能夠分離地連結(jié)的狀態(tài)設(shè)置于循環(huán)流路57。

化學過濾器60優(yōu)選設(shè)置為比晶圓搬運室52中晶圓1能夠通過的最低的位置即搬運最低位置p1低的高度。另外，化學過濾器60優(yōu)選設(shè)置為自循環(huán)流路57的最低位置57c向上方150cm以下的高度，更優(yōu)選設(shè)置為50cm以上且120cm以下的高度。此外，在微環(huán)境裝置51中，循環(huán)流路57的最低位置57c為與晶圓搬運室52中的搬運部52a的底面相同的高度。

顆粒除去過濾器62在循環(huán)流路57中被設(shè)置于化學過濾器60的上方。顆粒除去過濾器62是用于除去循環(huán)氣流80所包含的微細的顆粒的過濾器，例如可以使用hepa過濾器、ulpa過濾器等。通過將顆粒除去過濾器62設(shè)置于化學過濾器60的上方的循環(huán)流路57，可以防止有害氣體成分92所引起的顆粒除去過濾器62的污染，延長顆粒除去過濾器62的壽命。

顆粒除去過濾器62也與化學過濾器60相同，優(yōu)選設(shè)置為比搬運最低位置p1低的高度。

在循環(huán)流路57中的上方連通口58b的附近設(shè)置有向循環(huán)流路57導入清潔化氣體的清潔化氣體導入嘴64。從未圖示的供給流路向清潔化氣體導入嘴64供給清潔化氣體，清潔化氣體導入嘴64向循環(huán)流路57放出清潔化氣體。

從清潔化氣體導入嘴64導入循環(huán)流路57的清潔化氣體沒有特別限定，但可以使用氮氣或其它不活潑氣體、或者通過過濾器等除去了塵埃的清潔空氣等。另外，從裝載端口裝置10中的底部氣體導入部30導入前端開口片盒2內(nèi)的清潔化氣體也可以使用氮氣或其它不活潑氣體、或者清潔空氣等。此外，在圖1所示的微環(huán)境裝置51中，將清潔化氣體導入嘴64設(shè)置于循環(huán)流路57，但清潔化氣體導入嘴64的配置不限于此，可以沿著循環(huán)氣流80的流動方向設(shè)置在自化學過濾器60至整流部件55之間的任意的場所。例如，清潔化氣體導入嘴64也可以設(shè)置于晶圓搬運室52的頂板部52b，該情況下，清潔化氣體導入嘴64向晶圓搬運室52的頂板部52b導入清潔化氣體。

圖1所示的微環(huán)境裝置51由于化學過濾器60可以與顆粒除去過濾器62分開地裝卸自如，所以在要高度維持有害氣體成分92的除去效率的情況下，可以僅提高化學過濾器60的更換頻率，從而是經(jīng)濟的。另外，化學過濾器60由于未設(shè)置在頂板部52b這樣的高的位置而是設(shè)置在微環(huán)境裝置51中的比較低的位置，所以容易進行更換作業(yè)，即使頻繁的更換，也能夠抑制微環(huán)境裝置51的運轉(zhuǎn)率的降低。因此，微環(huán)境裝置51即使在晶圓搬運室52中有害氣體成分92的產(chǎn)生量多的情況下，也能夠在高度維持運轉(zhuǎn)率的同時提高化學過濾器60的更換頻率，能夠有效地防止晶圓1被有害氣體成分92污染或氧化的問題。從使更換作業(yè)安全且容易的觀點出發(fā)，化學過濾器60優(yōu)選設(shè)置為自循環(huán)流路57的最低位置57c向上方150cm以下的高度。

另外，由于化學過濾器60的設(shè)置位置設(shè)置為比搬運最低位置p1低的高度，因此，在循環(huán)流路57及晶圓搬運室52中限定有害氣體成分容易浮游的區(qū)域，能夠防止有害氣體成分附著于通過晶圓搬運室52中的晶圓1的問題。另外，由于可以在微環(huán)境裝置51中限定被有害氣體成分污染的區(qū)域，所以這樣的微環(huán)境裝置51的清掃容易，且維護性優(yōu)異。

微環(huán)境裝置51的顆粒除去過濾器62由于設(shè)置于循環(huán)流路57的比較低的位置，因此，相較于設(shè)置于頂板部52b的現(xiàn)有的過濾器，更換作業(yè)是容易的。另外，在微環(huán)境裝置51中，由于將與顆粒除去過濾器62不同的整流部件55設(shè)置于頂板部52b，所以顆粒除去過濾器62也可以不擔當將流入搬運部52a的氣體層流化的作用。因此，微環(huán)境裝置51可以縮小顆粒除去過濾器62的面積。

此外，整流部件55通過在搬運部52a內(nèi)形成被層流化的下降氣流，可以使搬運部52a內(nèi)的顆?；蛴泻怏w成分經(jīng)由下方連結(jié)口58a而有效地流入循環(huán)流路57。由此，微環(huán)境裝置51能夠通過化學過濾器60及顆粒除去過濾器62有效地除去這些顆粒或有害氣體成分，能夠提高晶圓搬運室52的清潔度。

另外，微環(huán)境裝置51通過使用清潔化氣體導入嘴64向循環(huán)流路57或晶圓搬運室52導入清潔化氣體，能夠在長時間內(nèi)高度維持晶圓搬運室52內(nèi)的清潔度。另外，通過將清潔化氣體導入嘴64配置在比化學過濾器60高的位置，能夠防止清潔化氣體導入嘴64附近被有害氣體成分污染的問題，因此，微環(huán)境裝置51的維護性良好。

如以上所述，示出實施方式說明了本發(fā)明，但上述的微環(huán)境裝置51只不過是本發(fā)明的一個實施方式，其以外的各種變形例都包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。

例如，在微環(huán)境裝置51中，以在晶圓搬運室52連結(jié)前端開口片盒2的裝載端口裝置10為例進行了說明，但在微環(huán)境裝置51連結(jié)容器的裝載端口裝置不限于此，也可以將前端開口片盒2以外的容器與微環(huán)境裝置51連結(jié)。

圖2是表示包含本發(fā)明的第二實施方式所涉及的微環(huán)境裝置151的efem150的概略截面圖。微環(huán)境裝置151除了將作為送風單元的風扇159不設(shè)置于晶圓搬運室52的頂板部52b而是設(shè)置于循環(huán)流路57這一點，與圖1所示的微環(huán)境裝置51相同。在圖2所示的微環(huán)境裝置151中，風扇159被設(shè)置于循環(huán)流路57，即，被設(shè)置于化學過濾器60及顆粒除去過濾器62的上方。

此外，風扇159的設(shè)置位置只要在循環(huán)流路57內(nèi)即可，沒有特別限定，但從防止風扇159被有害氣體成分污染的問題的觀點出發(fā)，優(yōu)選至少為化學過濾器60的上方。如圖2所示，風扇159也可以設(shè)置于循環(huán)流路57，這樣的微環(huán)境裝置151也實現(xiàn)與圖1所示的微環(huán)境裝置51相同的效果。

圖3是表示包含本發(fā)明的第三實施方式所涉及的微環(huán)境裝置251的efem250的概略截面圖。微環(huán)境裝置251除了在循環(huán)流路57設(shè)置有風門265、266及過濾器取出用窗267這一點、和顆粒除去過濾器262設(shè)置于晶圓搬運室52的頂板部52b這一點，與圖2所示的微環(huán)境裝置151相同。

如圖3所示，風門265、266在循環(huán)流路57中以從上下方向夾著化學過濾器60的方式設(shè)置。風門265、266可以進行開閉，通過關(guān)閉風門265、266，風門265、266可以遮斷循環(huán)流路57的循環(huán)氣流80。但是，風門265、266除了化學過濾器60的更換時而被打開，在風門265、266被打開的狀態(tài)下，風門265、266不遮斷循環(huán)氣流80。過濾器取出用窗267由形成于循環(huán)流路57的外壁57b的能夠開閉的窗構(gòu)成。

在微環(huán)境裝置251中更換化學過濾器60的情況下，首先，通過關(guān)閉風門265、266，由風門265、266遮斷循環(huán)流路57的循環(huán)氣流80。再有，作業(yè)者從微環(huán)境裝置251的外部的清潔室90打開過濾器取出用窗267，拆下設(shè)置于循環(huán)流路57的已使用的化學過濾器60，更換為新品的化學過濾器60。最后，作業(yè)者在關(guān)閉過濾器取出用窗267之后打開風門265、266，由此完成化學過濾器60的更換。

另外，在微環(huán)境裝置251中，顆粒除去過濾器262設(shè)置于晶圓搬運室52的頂板部52b，兼作將循環(huán)氣流80層流化的整流部件(圖1及圖2的整流部件55)。即，在微環(huán)境裝置251中，循環(huán)氣流80通過顆粒除去過濾器262而被層流化，在搬運部52a，與圖1及圖2所示的微環(huán)境裝置51、151同樣地形成下降的層流的氣流。

圖3所示的微環(huán)境裝置251具有風門265、266，因此，在更換化學過濾器60時，能夠有效地防止循環(huán)流路57內(nèi)的清潔化氣體流出到外部、或者清潔度低的清潔室90的氣體流入循環(huán)流路57的問題。另外，在微環(huán)境裝置251中，由于可以經(jīng)由形成于面向清潔室90的外壁57b的過濾器取出用窗267而進行化學過濾器60的更換，所以在進行化學過濾器60的更換時不需要作業(yè)者進入微環(huán)境裝置251內(nèi)，能夠在短時間內(nèi)完成化學過濾器60的更換。另外，微環(huán)境裝置251由于可以保持循環(huán)流路及過濾器搬運室的清潔度并更換化學過濾器60，所以可以縮短更換化學過濾器60時的裝置的停止時間，或者不使裝置停止(例如繼續(xù)晶圓1的搬運)而進行化學過濾器60的更換。

另外，在微環(huán)境裝置251中，由于顆粒除去過濾器262兼作整流部件，所以構(gòu)成微環(huán)境裝置251的部件數(shù)比圖1及圖2所示的微環(huán)境裝置51、151少。此外，如圖3所示，設(shè)置于頂板部52b的顆粒除去過濾器262存在與設(shè)置于循環(huán)流路57的顆粒除去過濾器62(參照圖1及圖2)相比，更換需要時間的問題。但是，圖3所示的顆粒除去過濾器262由于與化學過濾器60分開，所以更換頻率比與化學過濾器一體的顆粒除去過濾器或化學過濾器60少。因此，僅將化學過濾器60配置于循環(huán)流路57的微環(huán)境裝置251與現(xiàn)有的微環(huán)境裝置相比，也具有良好的維護性。