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石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管及其制備方法與流程

文檔序號:11925793閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管,其特征在于,自下而上依次有藍寶石襯底層或硅襯底層(1)、氮化鎵層(2)、石墨烯層(3)、金屬納米顆粒層(4),在石墨烯層(3)上設有正面電極(5),在氮化鎵層(2)上還設有側面電極(6),所述的氮化鎵層為p型多晶材料,厚度為2~10μm。

2.根據(jù)權利要求1所述的石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管,其特征在于,所述的金屬納米顆粒為金、鈀、銀、鈦、鉻、鎳的一種或幾種的復合納米顆粒,直徑為5~200nm。

3.根據(jù)權利要求1所述的石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管,其特征在于,所述的正面電極為金、鈀、銀、鈦、鉻、鎳的一種或者幾種的復合電極。

4.根據(jù)權利要求1所述的石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管,其特征在于,所述的側面電極為金、鈀、銀、鈦、鉻、鎳的一種或者幾種的復合電極。

5.根據(jù)權利要求1所述的石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管,其特征在于,所述的石墨烯的厚度為1-10層。

6.制備如權利要求1-5任一項所述的石墨烯/氮化鎵/金屬納米顆粒雙向發(fā)光二極管的方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:

1)在藍寶石或硅襯底上用金屬化學氣相沉積法生長P型氮化鎵外延層;

2)在步驟1)所得氮化鎵片上用電子束蒸發(fā)鍍膜方法沉積側面電極,并預留面積;

3)將步驟2)所得氮化鎵片進行表面清洗并干燥表面;

4)將石墨烯轉移至步驟3)處理后的氮化鎵片的預留面積處;

5)在石墨烯層上制作正面電極,并預留面積;

6)將金屬納米顆粒旋涂至步驟5)的石墨烯上預留面積處。

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