1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括依次層疊設置的玻璃基板、光刻膠層、第一金屬層、介電層、緩沖層和第二金屬層，所述光刻膠層靠近所述第一金屬層的一側設有多個凸起結構，所述第一金屬層覆蓋所述凸起結構，所述第一金屬層、所述介電層、所述緩沖層和所述第二金屬層呈現(xiàn)與所述凸起結構相同的形狀。
2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一金屬層、所述介電層、所述緩沖層和所述第二金屬層截面為波浪形或折線形或鋸齒形。
3.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述介電層材料為TiO2、Ta2O5或HfO2。
4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述緩沖層材料為SiNx或SiO2。
5.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括權利要求1-4任意一項所述的陣列基板。
6.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；
在所述光刻膠層上遮蓋多灰階掩膜版并對該光刻膠層進行光刻，以在所述光刻膠層上形成多個凸起結構；
在所述光刻膠層上依次形成第一金屬層、介電層、緩沖層和第二金屬層，其中，所述第一金屬層、所述介電層、所述緩沖層和所述第二金屬層與所述凸起結構的形狀相同。
7.如權利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，在所述光刻膠層上依次形成第一金屬層、介電層、緩沖層和第二金屬層，包括：在所述光刻膠層上濺射第一金屬，刻蝕出設計的圖案形成所述第一金屬層。
8.如權利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述多灰階掩膜版為半色調掩膜版或灰色調掩膜版。
9.如權利要求8所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，在所述光刻膠層上遮蓋多灰階掩膜版進行光刻，以在所述光刻膠層上形成凸起結構步驟中，包括：光線通過所述半色調掩膜版或灰色調掩膜版后，在所述光刻膠層上形成周期性的光形，光刻出所述凸起結構。
10.如權利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述介電層材料為TiO2、Ta2O5或HfO2，所述緩沖層材料為SiNx或SiO2。