本發(fā)明涉及液晶顯示的技術領域,具體是涉及一種液晶顯示器及其液晶顯示面板。
背景技術:
薄膜晶體管(TFT)液晶顯示器是液晶顯示器的一種。薄膜晶體管液晶顯示器的核心元件包括液晶顯示面板。在市場上,具有窄邊框液晶顯示面板的液晶顯示器越來越受到歡迎。
如圖1所示,圖1是現(xiàn)有技術中液晶顯示面板的結構示意圖?,F(xiàn)有技術中,在導通上下基板(彩色濾光基板10和陣列基板20)ITO點位的transfer pad(導通墊)30位置,位于上基板10(彩色濾光基板)內部的BM(black matrix)11全部遮蔽,用于遮光。下基板20在公共走線21設計上,采用mesh(網(wǎng)眼,網(wǎng)格)結構,原因是需要從下基板20(陣列基板)側照射UV光40用于sealant(密封膠)的固化。
該種結構由于BM 11設于彩色濾光基板10的基板12與透明導電膜13之間,且PS(Photo Spacer)也要單獨的工藝過程進行制作,可見,現(xiàn)有技術液晶顯示面板結構的開口率較低,制程較為復雜,且生產(chǎn)成本較高。
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明實施例提供一種液晶顯示器及其液晶顯示面板,以解決現(xiàn)有技術中液晶顯示面板結構存在的開口率低、制程復雜、且生產(chǎn)成本高的技術問題。
為解決上述問題,本發(fā)明實施例一方面提供了一種液晶顯示面板,所述液晶顯示面板包括陣列基板、彩色濾光基板以及夾設于所述陣列基板和所述彩色濾光基板之間的液晶層,所述液晶層的環(huán)周通過固化膠框密封;所述陣列基板的公共電極與所述彩色濾光基板的透明導電層之間通過嵌設于所述固化膠框內的導通單元電連接;黑矩陣層設于陣列基板一側,所述黑矩陣層上對應所述導通單元的位置設有缺口,所述導通單元貫穿所述缺口設置。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述黑矩陣層與所述陣列基板和所述彩色濾光基板之間隔墊物采用一道光刻工藝形成。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述導通單元與所述陣列基板的公共電極之間通過走線層過渡連接。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述導通單元包括多個導通墊,所述多個導通墊間隔設置于同一個黑矩陣層的缺口內。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述走線層為實體結構。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述導通單元包括多個導通墊,所述黑矩陣層上設有多個缺口,所述多個導通墊分別設置于所述黑矩陣層上的多個缺口內。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述走線層采用網(wǎng)狀結構,所述黑矩陣層阻擋所述網(wǎng)狀走線層的鏤空區(qū),所述導通墊貫穿所述黑矩陣層上的缺口與所述網(wǎng)狀走線層的非鏤空區(qū)連接。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述陣列基板包括基板、公共電極以及保護層,所述公共電極設于所述基板上,所述保護層蓋設于所述公共電極上,所述黑矩陣層設于所述保護層上。
根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例,所述保護層為PFA材料制成。
為解決上述技術問題,本發(fā)明實施例還提供一種液晶顯示器,所述液晶顯示器包括上述實施例中任一項所述的液晶顯示面板。
相對于現(xiàn)有技術,本發(fā)明提供的液晶顯示器及其液晶顯示面板,采用BPS(Black Photo Spacer)技術,將BM與PS用一道光刻工藝在陣列基板上制作形成,簡化了液晶顯示面板的制作工藝過程,提高了液晶顯示面板結構的開口率,降低了生產(chǎn)成本。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是現(xiàn)有技術中液晶顯示面板的結構示意圖;
圖2是本發(fā)明液晶顯示面板第一實施例的結構示意圖;
圖3是從彩色濾光基板側進行照光固化框膠的第一實施例的結構示意圖;
圖4是本發(fā)明液晶顯示面板第二實施例的結構示意圖;以及
圖5是從彩色濾光基板側進行照光固化框膠的第二實施例的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例,對本發(fā)明作進一步的詳細描述。特別指出的是,以下實施例僅用于說明本發(fā)明,但不對本發(fā)明的范圍進行限定。同樣的,以下實施例僅為本發(fā)明的部分實施例而非全部實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
實施例1
請參閱圖2,圖2是本發(fā)明液晶顯示面板第一實施例的結構示意圖。該液晶顯示面板包括但不限于以下結構單元組成:陣列基板100、彩色濾光基板200以及夾設于陣列基板100和彩色濾光基板200之間的液晶層(圖中未示)。液晶層的環(huán)周通過固化膠框300密封。
具體而言,該陣列基板100包括基板110、公共電極120以及保護層130,公共電極120設于基板110上,保護層130蓋設于公共電極120上,黑矩陣層140設于保護層130上。
優(yōu)選地,該保護層130可以采用PFA(Polytetrafluoro ethylene,可溶性聚四氟乙烯,少量全氟丙基全氟乙烯基醚與聚四氟乙烯的共聚物)材料制成,利用其優(yōu)良的耐腐性,密封性以及絕緣性等特性。
進一步地,公共電極120可以埋設于PV材料層(圖中未標示)之內。
為了提高液晶顯示面板的開口率,降低生產(chǎn)成本,本實施例中的陣列基板100采用BPS(Black Photo Spacer)技術即將黑矩陣層140(Black Matrix)與PS(Photo Spacer)150用一道光刻工藝制作形成。BPS一道制程,包括兩個作用,替代原有的BM與PS的功能,BM為了是遮蔽像素與像素毗鄰區(qū)域的漏光問題,PS的作用是維持上下基板(陣列基板100和彩色濾光基板200)的間隔,以填充液晶。為了實現(xiàn)曲平共用的功能,優(yōu)選是將BPS制作在陣列基板100上,防止因為屏幕彎曲導致的BM與PS脫落的問題。而關于BPS(Black Photo Spacer)技術具體的工藝過程,在本領域技術人員的理解范圍內,此處不再詳述。
該彩色濾光基板200包括彩膜基板210以及透明導電層220,透明導電層220貼設于彩膜基板210靠近液晶層的一側。
陣列基板100的公共電極120與彩色濾光基板200的透明導電層220之間通過嵌設于固化膠框300內的導通單元400電連接;黑矩陣層140設于陣列基板100的一側,黑矩陣層140上對應導通單元400的位置設有缺口141,導通單元400貫穿缺口141設置。固化膠框300填充于缺口141內。
優(yōu)選地,導通單元400與陣列基板100的公共電極120之間通過走線層160過渡連接,走線層160的頂端為平面結構,底端通過引腳與公共電極120連接。
其中,導通單元400包括多個導通墊,多個導通墊間隔設置于同一個黑矩陣層140的缺口141內,即黑矩陣層140在對應導通單元400的位置為整體挖空的結構,這樣的話,挖空位置(即缺口141)很容易漏光,為了防止背光照射時的漏光問題,本實施例中優(yōu)選將走線層160的頂部平面設計為實體結構,可以起到阻止漏光的作用。
由于本實施例液晶顯示面板結構中的黑矩陣層140設于陣列基板100的這一側,因此,在進行UV固化框膠300時,可以采用從彩色濾光基板200這一側照光。具體請參閱圖3,圖3是從彩色濾光基板側進行照光固化框膠的第一實施例的結構示意圖,圖中標號888表示為UV光。
實施例2
請參閱4,圖4是本發(fā)明液晶顯示面板第二實施例的結構示意圖。與上一實施例不同的是,該實施例中的黑矩陣層140上設有多個缺口141,多個導通墊400分別設置于黑矩陣層140上的多個缺口141內。即黑矩陣層140在對應導通單元400的位置為部分挖空的結構,只是挖出幾個用于容置導通墊的通孔。
由于黑矩陣層140為部分挖空,就不存在了漏光的問題。走線層160則可以采用網(wǎng)狀結構,即走線層160的頂部平面為網(wǎng)狀(圖中未具體表示出),黑矩陣層140阻擋網(wǎng)狀走線層160的鏤空區(qū),導通墊400貫穿黑矩陣層140上的缺口141,并與網(wǎng)狀走線層160的非鏤空區(qū)連接。這樣可以維持導通墊400上下導通的同時,還可以減少走線層160的反射面積,避免全金屬反射外部環(huán)境光太強的缺陷。當然,在其他實施例中,該走線層160也同樣可以采用實體結構。
同樣的,本實施例液晶顯示面板結構中的黑矩陣層140也設于陣列基板100的這一側,因此,在進行UV固化框膠300時,也采用從彩色濾光基板200這一側照光。具體請參閱圖5,圖5是從彩色濾光基板側進行照光固化框膠的第二實施例的結構示意圖,圖中標號888表示為UV光。
相對于現(xiàn)有技術,本發(fā)明實施例提供的液晶顯示面板,采用BPS(Black Photo Spacer)技術,將BM與PS用一道光刻工藝在陣列基板上制作形成,簡化了液晶顯示面板的制作工藝過程,提高了液晶顯示面板結構的開口率,降低了生產(chǎn)成本。
進一步地,本發(fā)明實施例還提供一種液晶顯示器,該液晶顯示器包括上述實施例中的液晶顯示面板,液晶顯示面板具體結構的技術特征請參閱上述實施例中的詳細描述。而關于液晶顯示器其他部分的結構特征,在本領域技術人員能夠理解的范圍之內,此處亦不再贅述。
以上所述僅為本發(fā)明的部分實施例,并非因此限制本發(fā)明的保護范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效裝置或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。