1.一種發(fā)光裝置，包括：
光波導(dǎo)層，其通過在具有下電極的襯底上順次層疊下包層、有源層和上包層來形成，其中所述光波導(dǎo)層具有用作光出射面的第一端面和第二端面；以及
上電極，用于將載流子注入至有源層，
其特征在于，從所述第一端面發(fā)射出的光表現(xiàn)出與從所述第二端面發(fā)射出的光的光束特性不同的光束特性，以及
所述發(fā)光裝置還包括：
第一光接收部，用于接收從所述第一端面發(fā)射出的光的光功率并且生成第一光學(xué)信息；
第二光接收部，用于接收從所述第二端面發(fā)射出的光的光功率并且生成第二光學(xué)信息；以及
控制部，用于根據(jù)所述第一光學(xué)信息和所述第二光學(xué)信息來控制向所述上電極的電流注入量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述光波導(dǎo)層具有發(fā)光譜調(diào)制區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述發(fā)光裝置包括兩個(gè)以上的上電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述第一光接收部和所述第二光接收部中的至少一個(gè)將從所述第一端面或所述第二端面發(fā)射出的光會(huì)聚至光纖，利用配置在從所述光纖所分支出的末端的光電檢測(cè)器來接收所會(huì)聚的光的光功率，并且根據(jù)所述光電檢測(cè)器所接收到的光來生成光學(xué)信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述第一光接收部和所述第二光接收部中的至少一個(gè)利用半透半反鏡來對(duì)從所述第一端面或所述第二端面發(fā)射出的光進(jìn)行分支，利用光電檢測(cè)器來接收所分支出的光的光功率，并且根據(jù)所述光電檢測(cè)器所接收到的光來生成光學(xué)信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述第一光接收部和所述第二光接收部中的至少一個(gè)包括所述第一端面或所述第二端面附近整體形成的光電檢測(cè)器，以接收被所述第一端面或所述第二端面反射的光。
7.根據(jù)權(quán)利要求4～6中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置，其中，所述發(fā)光裝置設(shè)置有用于選擇進(jìn)入所述光電檢測(cè)器的光的光學(xué)波長的波長濾波器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，所述有源層具有多量子阱結(jié)構(gòu)，并且用于形成所述多量子阱結(jié)構(gòu)的阱層或勢(shì)壘層具有在組成或厚度方面不完全相同的非對(duì)稱量子阱結(jié)構(gòu)。
9.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置的控制方法，其特征在于，所述控制部執(zhí)行以下步驟：
調(diào)整步驟，用于調(diào)整向所述上電極的電流注入值以將所述第一光學(xué)信息中的特定值限制在第一預(yù)定范圍內(nèi)；
判斷步驟，用于判斷所述第二光學(xué)信息中的特定值是否被限制在第二預(yù)定范圍內(nèi)；以及
輸出步驟，用于在判斷為所述第二光學(xué)信息中的特定值沒有被限制在所述第二預(yù)定范圍內(nèi)的情況下輸出信號(hào)。
10.一種根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置的控制方法，其特征在于，所述控制部執(zhí)行以下步驟：
第一判斷步驟，用于判斷所述第一光學(xué)信息中的特定值是否在第一預(yù)定范圍內(nèi)；
第一調(diào)整步驟，用于在所述第一光學(xué)信息中的特定值不在所述第一預(yù)定范圍內(nèi)的情況下，調(diào)整向所述兩個(gè)以上的上電極中的一個(gè)上電極的注入電流值，以將所述第一光學(xué)信息中的特定值限制在所述第一預(yù)定范圍內(nèi)；
第二判斷步驟，用于判斷所述第二光學(xué)信息中的特定值是否在第二預(yù)定范圍內(nèi)；以及
第二調(diào)整步驟，用于在所述第二光學(xué)信息中的特定值不在所述第二預(yù)定范圍內(nèi)的情況下，調(diào)整向所述兩個(gè)以上的上電極中的另一個(gè)上電極的注入電流值，以將所述第二光學(xué)信息中的特定值限制在所述第二預(yù)定范圍內(nèi)，
其中，所述第一調(diào)整步驟和所述第二調(diào)整步驟不同時(shí)執(zhí)行。
11.一種光學(xué)相干斷層成像設(shè)備，其特征在于，包括：
根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置；
樣品測(cè)量部，用于將從所述發(fā)光裝置發(fā)射出的光照射在樣品上并且傳輸被所述樣品反射的光；
參考部，用于將從所述發(fā)光裝置發(fā)射出的光照射在參考鏡上并且傳輸被所述參考鏡反射的光；
干涉部，用于使所述樣品測(cè)量部所傳輸?shù)谋凰鰳悠贩瓷涞墓夂退鰠⒖疾克鶄鬏數(shù)谋凰鰠⒖肩R反射的光相互干涉；
光檢測(cè)部，用于檢測(cè)所述干涉部所生成的干涉光；以及
圖像處理部，用于根據(jù)所述光檢測(cè)部所檢測(cè)到的干涉光的光學(xué)信息來獲得所述樣品的斷層圖像。