本發(fā)明涉及用于處理基板的設(shè)備，并且更具體地，涉及下述用于處理基板的設(shè)備，所述設(shè)備具有用于裝載、加工、傳遞以及卸載基板的多級(jí)室結(jié)構(gòu)，由此減小占用面積，并且所述設(shè)備包括設(shè)置在裝載室和卸載室的內(nèi)部的傳遞單元中的大的輥?zhàn)?，使得基板能夠在與基板的傳遞方向平行的方向上裝載和卸載，由此簡(jiǎn)化了用于裝載和卸載基板的結(jié)構(gòu)，并且縮短了用于處理基板的生產(chǎn)節(jié)拍。

背景技術(shù)：

通常，用于平板顯示器(fpd)、半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器(lcd)、光掩模玻璃等的基板要經(jīng)受比如沉積、蝕刻、剝離、清潔、漂洗等一系列加工。

韓國(guó)專(zhuān)利no.10-0402901涉及用于平板顯示器的制造設(shè)備的多功能清潔模塊以及使用該清潔模塊的清潔裝置。這指的是設(shè)備的各個(gè)功能集成為一個(gè)復(fù)合模塊的多功能清潔模塊，并且提出了用于平板顯示器的制造設(shè)備的多功能清潔模塊，以便能夠使設(shè)備的占用面積減至最小即使在狹窄區(qū)域內(nèi)也具有現(xiàn)有設(shè)備的所有功能。

然而，現(xiàn)有技術(shù)并沒(méi)有提出用于使占用面積減至最小的任何多級(jí)結(jié)構(gòu)，以及有關(guān)用于傳遞基板并且干燥基板的氣刀的結(jié)構(gòu)和布置的特征。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，構(gòu)思了本發(fā)明以解決上述問(wèn)題，并且本發(fā)明的一方面是提供一種用于處理基板的設(shè)備，該設(shè)備具有用于裝載、加工、傳遞以及卸載基板的多級(jí)室結(jié)構(gòu)，由此減小占用面積，并且該設(shè)備包括設(shè)置在裝載室和卸載室的內(nèi)部的傳遞單元中的大的輥?zhàn)?，使得基板能夠在與基板的傳遞方向平行的方向上裝載和卸載，由此簡(jiǎn)化了用于裝載和卸載基板的結(jié)構(gòu)，并且縮短了用于處理基板的生產(chǎn)節(jié)拍。

本發(fā)明的另一方面提供了一種用于處理基板的設(shè)備，在該設(shè)備中，經(jīng)受加工的基板在加工室的內(nèi)部以預(yù)定角度傾斜的方式傳遞，并且在高速傳遞室的內(nèi)部以高速水平地傳遞，由此在迅速傳遞基板的同時(shí)改善清潔加工等加工的效率。

本發(fā)明的又一方面提供了一種用于處理基板的設(shè)備，在該設(shè)備中，氣刀設(shè)置在干燥室的內(nèi)部，并且與用于使清潔室與干燥室分離的分隔部相鄰，以便使干燥室中的清潔液體減至最少，從而改善干燥效果，并且氣刀以與分隔部相鄰且平行的方式垂直地設(shè)置，以便使下垂和變形減至最小。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種用于處理基板的設(shè)備，該設(shè)備包括：裝載室，該裝載室用于裝載基板；至少一個(gè)加工室，所述至少一個(gè)加工室連接至裝載室的第二側(cè)，并且對(duì)沿從加工室的第一側(cè)至加工室的第二側(cè)的方向傳遞的基板應(yīng)用至少一種加工；提升室，該提升室連接至加工室的第二側(cè)并且接收經(jīng)加工的基板并且沿向上的方向傳遞經(jīng)加工的基板；高速傳遞室，該高速傳遞室設(shè)置在加工室的上方，并且沿高速傳遞室的第二側(cè)至高速傳遞室的第一側(cè)的方向傳遞從提升室接收的基板；以及卸載室，該卸載室設(shè)置在裝載室的上方，并且卸載從高速傳遞室接收的基板；以及傳遞單元，該傳遞單元設(shè)置在裝載室、加工室、提升室、高速傳遞室以及卸載室的內(nèi)部并且傳遞基板，其中，設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元設(shè)置為傾斜的，并且設(shè)置在高速傳遞室和卸載室的內(nèi)部傳遞單元設(shè)置為水平的，并且基板通過(guò)裝載室的第一側(cè)裝載并且通過(guò)卸載室的第一側(cè)卸載。

加工室可以包括：大氣壓等離子(ap)加工室，該大氣壓等離子加工室的第一側(cè)連接至裝載室的第二側(cè)，并且大氣壓等離子加工室對(duì)正在傳遞的基板的表面應(yīng)用等離子處理加工；清潔室，該清潔室連接至ap加工室的第二側(cè)，并且使用至少一個(gè)清潔單元對(duì)傳遞的基板應(yīng)用清潔加工；以及干燥室，該干燥室連接至清潔室的第二側(cè)，并且使用氣刀對(duì)通過(guò)清潔加工進(jìn)行清潔的傳遞的基板應(yīng)用干燥加工。

基板可以同時(shí)經(jīng)受等離子處理加工以及基于至少一個(gè)清潔單元的清潔加工兩者。

設(shè)置在裝載室和卸載室的內(nèi)部的傳遞單元可以包括一對(duì)支承板、多個(gè)軸以及大的輥?zhàn)?，所述一?duì)支承板設(shè)置成在裝載室和卸載室的相對(duì)兩側(cè)處面向彼此，所述多個(gè)軸具有以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝至支承板的相反兩端并且彼此間隔開(kāi)，大的輥?zhàn)臃謩e聯(lián)接至多個(gè)軸并且彼此間隔開(kāi)。在卸載室的內(nèi)部設(shè)置有第一傾斜單元，用于使傳遞單元以與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角相同的傾斜角傾斜。

提升室可以包括在其中的升降單元和第二傾斜單元，升降單元使設(shè)置在提升室的內(nèi)部的傳遞單元向上和向下移動(dòng)；并且第二傾斜單元在從加工室接收基板時(shí)使設(shè)置在提升室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角保持與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角相同，在通過(guò)升降單元進(jìn)行提升時(shí)改變?cè)O(shè)置在提升室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角，并且在到達(dá)高速傳遞室的第二側(cè)時(shí)使設(shè)置在提升室的內(nèi)部的傳遞單元水平。

設(shè)備還包括設(shè)置為使清潔室與干燥室彼此分離的分隔部，并且包括通孔，基板能夠由傳遞單元穿過(guò)該通孔從清潔室傳遞至干燥室，其中，氣刀可以設(shè)置在干燥室的內(nèi)部，并與分隔部相鄰，且設(shè)置成分別與通過(guò)傳遞單元傳遞的基板的頂部和底部相對(duì)應(yīng)，從而噴射空氣，使得空氣能夠經(jīng)由通孔朝向清潔室流動(dòng)。

氣刀具有類(lèi)似于的截面形狀，氣刀的第一側(cè)包括豎向表面，并且氣刀的第二側(cè)包括豎向表面和傾斜表面，并且氣刀的第一側(cè)可以與分隔部相鄰且平行，并且空氣經(jīng)由第一側(cè)的下端而被噴射。

氣刀可以具有聯(lián)接至支架的縱向上相反的端部，其中，上氣刀和下氣刀中的一者的高度在豎向方向上是可調(diào)節(jié)的，由此調(diào)節(jié)上氣刀與下氣刀之間的間隙g。

支架可以包括觀察窗，以用于檢查上氣刀與下氣刀之間的間隙。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明的上述和/或其他方面將通過(guò)結(jié)合附圖的下述示例性實(shí)施方式的描述變得明顯并且更容易理解，在附圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備的正視圖，以及圖2是示意性示出圖1的設(shè)備的視圖；

圖3和圖4是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的裝載室的側(cè)視圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的加工室和高速傳遞室的側(cè)視圖；

圖6至圖8是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的提升室的側(cè)視圖；

圖9和圖10是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的卸載室的側(cè)視圖；

圖11是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中清潔室和干燥室的內(nèi)部的正視圖；

圖12是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的清潔室和干燥室的內(nèi)部的平面圖；

圖13至圖15是從不同角度觀察的圖12中標(biāo)記的方框的局部立體圖；

圖16是圖12中在箭頭方向上觀察的沿線a-a’截取的立體圖，以及圖17是示出了圖16中分離的分隔部的立體圖；

圖18是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的清潔室的內(nèi)部的分隔部的第一側(cè)的局部立體圖；

圖19是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的氣刀的立體圖，圖20是圖19的氣刀的示意性截面圖，以及圖21是圖19的氣刀的透視立體圖；

圖22示出了聯(lián)接至根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的支架的氣刀的正視圖和立體圖，圖23是從相反一側(cè)觀察的聯(lián)接至圖22的支架的氣刀的立體圖，以及圖24是圖示了通過(guò)設(shè)置在圖23的支架中的觀察窗對(duì)氣刀的尖端進(jìn)行觀察的示意圖。

具體實(shí)施方式

關(guān)于上述問(wèn)題、解決方案和效果，下文將參照附圖對(duì)根據(jù)本發(fā)明的用于處理基板的設(shè)備的示例性實(shí)施方式進(jìn)行描述。

為了描述的清楚和方便，元件的尺寸、形狀在圖中可能是被放大的。另外，考慮到元件的結(jié)構(gòu)和功能而特別定義的術(shù)語(yǔ)可以根據(jù)用戶和操作者的意向或習(xí)慣而改變。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備的正視圖，以及圖2是示意性示出圖1的設(shè)備的視圖；

如圖1和圖2中所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備100包括：裝載室3，基板被裝載到該裝載室3中；加工室5、10和30，在加工室5、10和30中對(duì)基板進(jìn)行加工；提升室40，在該提升室40中經(jīng)加工的基板被向上提升；高速傳遞室45，在該高速傳遞室45中經(jīng)加工的基板以高速水平地(levelled)傳遞；卸載室60，基板從該卸載室60卸載；以及傳遞單元50，該傳遞單元50設(shè)置在每個(gè)室的內(nèi)部并且傳送基板。

裝載室3以及加工室5、10和30設(shè)置在第一層上；卸載室60和高速傳遞室45設(shè)置在裝載室3以及加工室5、10和30的上方的第二層上；提升室40設(shè)置為貫穿第一層和第二層，并且設(shè)置在加工室5、10和30以及高速傳遞室45的相對(duì)的一側(cè)處。

基板在沿圖2中示出的虛線的箭頭方向上傳遞。即，基板被裝載到第一層的裝載室3中，在通過(guò)加工室5、10和30的同時(shí)進(jìn)行加工，經(jīng)由提升室40傳遞至第二層，在高速傳遞室45的內(nèi)部以高速進(jìn)行傳遞，并且通過(guò)機(jī)械手從卸載室60卸載。

裝載室3從外部接收基板。例如，設(shè)置成與裝載室3相鄰的機(jī)械手將基板裝載至裝載室3中。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備具有如圖1和圖2中示出的兩層結(jié)構(gòu)，并且從左到右縱向設(shè)置。

機(jī)械手設(shè)置成與裝載室3的左側(cè)(即，第一側(cè))相鄰。因此，機(jī)械臂通過(guò)裝載室的第一側(cè)裝載基板并且通過(guò)卸載室的第一側(cè)卸載基板。

裝載室3的第二側(cè)與至少一個(gè)加工室依次連接。例如，一個(gè)或更多個(gè)加工室5、10和30連接至裝載室3的第二側(cè)，使得從第一側(cè)(即，圖1和圖2中示出的左側(cè))傳遞至第二側(cè)(即，圖1和圖2中示出的右側(cè))的基板能夠經(jīng)受一種或更多種加工。

在加工室5、10和30中加工的基板被傳遞至提升室40的內(nèi)部，然后向上提升。例如，連接至加工室5、10和30的第二側(cè)的提升室40接收經(jīng)加工的基板并且將其向上傳遞。如果存在多個(gè)加工室5、10和30，則提升室40連接至最右邊的加工室的第二側(cè)。

提升室40的下側(cè)連接至加工室的第二側(cè)，并且提升室40的上側(cè)連接至高速傳遞室45的第二側(cè)。因此，通過(guò)提升室40向上傳遞的基板被裝載到高速傳遞室45中，并且然后從第二側(cè)傳遞至第一側(cè)，即沿與第一層上的加工室的傳遞方向相反的方向傳遞。

具體地，高速傳遞室45設(shè)置在加工室的上方，并且將從提升室40接收的基板從第二側(cè)朝向第一側(cè)以高速傳遞。在高速傳遞室45的內(nèi)部傳遞的基板不經(jīng)受任何加工，而是簡(jiǎn)單地被傳遞以便經(jīng)由卸載室60卸載至外部。因此，基板在高速傳遞室45中比在加工室中傳遞得更快。

通過(guò)高速傳遞室45傳遞的基板被傳遞至卸載室60，并且然后通過(guò)相鄰的機(jī)械手從卸載室60中卸載。具體地，卸載室60設(shè)置在裝載室3的上方，使得從高速傳遞室45傳遞的基板能夠通過(guò)機(jī)械手卸載。

如上所述，基板在沿圖2中示出的虛線的箭頭方向上傳遞?；宓膫鬟f通過(guò)設(shè)置在裝載室3、加工室5、10和30、提升室40、高速傳遞室45以及卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50得以實(shí)現(xiàn)。

順便說(shuō)一下，如圖2中所示，傳遞單元50在加工室5、10和30的內(nèi)部是傾斜的，并且在高速傳遞室45和卸載室60的內(nèi)部是水平的。

在加工室5、10和30中，基板可以使用加工液體比如蝕刻液體、清潔液體等進(jìn)行加工。在這種情況下，如果加工液體在基板上沿一個(gè)方向流動(dòng)，則可以提高加工效率以及回收加工液體的效率。因此，設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元50是傾斜的，并且因而基板也被傾斜地傳遞。

另一方面，由于在加工室中加工的基板要以高速傳遞并且迅速卸載，因此設(shè)置在高速傳遞室45和卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50是水平的，以使其能夠以高速傳遞基板并且便于卸載。

另外，設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50設(shè)置成接收水平的基板并且傳遞傾斜的基板。設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50接收傾斜的基板，使傾斜的基板在向上提升的同時(shí)改變?yōu)樗綘顟B(tài)，并且保持在其上的水平的基板。由設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50所提升的水平的基板通過(guò)設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50而被高速地傳遞并且傳遞至卸載室60。

加工室可以依次執(zhí)行各種加工。具體地，加工室可以包括：大氣壓等離子(ap)加工室5，該大氣壓等離子加工室5的第一側(cè)連接至裝載室3的第二側(cè)，并且大氣壓等離子加工室5對(duì)正在傳遞的基板的表面應(yīng)用等離子加工；清潔室10，該清潔室10連接至ap加工室5的第二側(cè)，并且使用至少一個(gè)清潔單元對(duì)正在傳遞的基板應(yīng)用清潔加工；以及干燥室30，該干燥室30連接至清潔室10的第二側(cè)，并且使用氣刀對(duì)正在傳遞的已清潔的基板應(yīng)用干燥加工。

在ap加工室5中，設(shè)置有等離子表面處理裝置5a(參見(jiàn)圖5)，用于對(duì)正在通過(guò)傳遞單元50傳遞的基板的表面應(yīng)用等離子加工。等離子表面處理裝置5a通過(guò)用等離子例如大氣壓等離子對(duì)沿一個(gè)方向移動(dòng)的基板的表面進(jìn)行加工。

通常，基板表面上的有機(jī)物質(zhì)由于其化學(xué)穩(wěn)定性和物理穩(wěn)定性而不易移除。通過(guò)等離子處理，等離子的電離能致使穩(wěn)定的有機(jī)物質(zhì)被化學(xué)和物理激發(fā)為不穩(wěn)定的狀態(tài)。然后，在下面的使用液體的濕清潔加工中使清潔效果最佳。

在清潔室10中，基板——基板的表面已經(jīng)過(guò)ap加工室5中的等離子加工——經(jīng)受設(shè)置在清潔室10中的各種清潔單元的一種或更多種清潔加工。多個(gè)清潔單元通過(guò)分隔部或氣簾而被分隔開(kāi)。

在清潔室10中，可以執(zhí)行基于滾刷的清潔加工、基于噴水器的清潔加工、基于雙流體的清潔加工以及基于噴霧器的清潔加工中的至少一種清潔加工。另外，可以添加使用其他清潔單元的清潔加工。

干燥室30連接至清潔室10的端部即第二側(cè)，并且通過(guò)移除剩余在基板上的清潔液體來(lái)執(zhí)行干燥加工。在干燥室30中，氣刀被設(shè)置為朝向清潔室10的內(nèi)部吹走涂抹在基板上的清潔液體，從而使基板干燥。

以這種結(jié)構(gòu)，在加工室中傳遞的基板可以同時(shí)經(jīng)受多種加工。具體地，基板既可以經(jīng)受ap加工室5中的等離子處理加工又可以經(jīng)受基于清潔室10中的至少一個(gè)清潔單元的清潔加工。

也就是說(shuō)，基板既可以經(jīng)受等離子處理加工又可以經(jīng)受基于滾刷的清潔加工，或者可以經(jīng)受等離子處理加工、基于滾刷的清潔加工以及基于噴水器的清潔加工這些所有的加工。

在后一種情況下，基板的后部可以經(jīng)受等離子處理加工，中間部可以經(jīng)受基于滾刷的清潔加工，并且前部可以經(jīng)受基于噴水器的清潔加工。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中，每個(gè)加工空間的長(zhǎng)度是短的以減小占用面積，并且因此，基板傳遞時(shí)占用多個(gè)加工空間。

如上所述，設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元50以預(yù)定角度傾斜，使得基板能夠被傾斜地傳遞。因此，供給到傳遞通過(guò)加工室的基板上的清潔液體不會(huì)剩余在基板的頂部表面上，而是沿一個(gè)方向流下。因此，基板的表面被有效地清潔而不會(huì)留下污漬。

圖3和圖6是圖示了從圖1中標(biāo)記的b-b’的方向觀察的設(shè)置在裝載室3中的傳遞單元50的操作的側(cè)視圖。

設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50可以在水平狀態(tài)與傾斜狀態(tài)之間進(jìn)行交替，該傾斜狀態(tài)的傾斜角與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相同。具體地，設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50是水平的以便裝載基板，但以與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相同的傾斜角傾斜，使得能夠傳遞裝載的基板。

設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50包括一對(duì)支承板51、多個(gè)軸53以及大的輥?zhàn)?5b，所述一對(duì)支承板51設(shè)置成在裝載室3的相對(duì)兩側(cè)處面向彼此，所述多個(gè)軸53具有以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝至支承板51的相反端部并且彼此間隔開(kāi)，大的輥?zhàn)?5b分別聯(lián)接至所述多個(gè)軸53并且彼此間隔開(kāi)。

被稱(chēng)為主輥?zhàn)拥拇蟮妮佔(zhàn)?5b的直徑大于或等于預(yù)定長(zhǎng)度，該預(yù)定長(zhǎng)度大于設(shè)置在加工室、提升室40以及高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50的輥?zhàn)?5。

設(shè)置有大的輥?zhàn)?5b并且設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50能夠傾斜。因此，裝載室3的內(nèi)部設(shè)置有第一傾斜單元(未示出)，以便使設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元以與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角相同的傾斜角傾斜。

另外，第一傾斜單元可以通過(guò)在各種傾斜結(jié)構(gòu)中選擇一種傾斜結(jié)構(gòu)而得以實(shí)現(xiàn)。例如，第一傾斜單元可以包括第一鉸鏈聯(lián)接器(未示出)和缸體(未示出)，該第一鉸鏈聯(lián)接器(未示出)與傳遞單元50的中間部以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接，該缸體(未示出)聯(lián)接至傳遞單元50的下側(cè)并且上下移動(dòng)。因此，當(dāng)缸體被驅(qū)動(dòng)成上下移動(dòng)時(shí)，傳遞單元50相對(duì)于與第一鉸鏈聯(lián)接器以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接的傳遞單元50的中間部?jī)A斜。

圖3示出了設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50是水平的，并且機(jī)械手ra沿基板的傳遞方向通過(guò)裝載室3的第一側(cè)進(jìn)入裝載室3，并且將基板安置在大的輥?zhàn)?5b上。

由于大的輥?zhàn)?5b具有較大直徑，并且位于軸53與安置在大的輥?zhàn)由系幕逯g的空間s足以使機(jī)械手ra通過(guò)。因此，機(jī)械手ra能夠通過(guò)空間s進(jìn)入，并且將基板安置在大的輥?zhàn)?5b上。

圖4示出了在機(jī)械手ra離開(kāi)裝載室3之后，設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50通過(guò)第一傾斜單元(未示出)以預(yù)定角度傾斜。第一傾斜單元使設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元的傾斜角相等。然后，基板1通過(guò)設(shè)置在裝載室3和加工室的內(nèi)部的傳遞單元50的操作而傳遞至加工室。

如上所述，設(shè)置在裝載室3的內(nèi)部的傳遞單元50設(shè)置有大的輥?zhàn)?5b，并且基板沿與基板的傳遞方向平行的方向進(jìn)行裝載。因此，對(duì)于裝載基板，不需要附加的元件(例如，設(shè)置在傳遞單元的下方的基板支承銷(xiāo)等)；簡(jiǎn)化了用于裝載基板的結(jié)構(gòu)；并且能夠縮短處理基板的生產(chǎn)節(jié)拍。

圖5是沿圖1中標(biāo)記的c-c’的方向觀察的側(cè)視圖。即，圖5圖示了ap加工室5和高速傳遞室45的內(nèi)部。

如圖5中所示，設(shè)置在ap加工室5的內(nèi)部的傳遞單元50是傾斜的，而設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50是水平的。設(shè)置在ap加工室5內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角與設(shè)置在清潔室10和干燥室30的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相等。

基板通過(guò)設(shè)置在ap加工室5內(nèi)部的傳遞單元50而被傾斜地傳遞，并且經(jīng)受等離子表面處理裝置5a的等離子加工。另外，基板1被傳遞至清潔室10的內(nèi)部從而經(jīng)受各種清潔單元的清潔加工，并且傳遞至干燥室30從而經(jīng)受干燥加工。

在干燥室30中干燥的基板1被傳遞至設(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50。設(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50在從干燥室30接收干燥的基板的同時(shí)，保持傾斜角與干燥室30內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相同，但在向上提升時(shí)變?yōu)樗?。結(jié)果是，當(dāng)設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50提升到與設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50的相同的水平面時(shí)，設(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50和安置在傳遞單元50上的基板1變得水平。

為此，如圖6至圖8中所示，沿圖1中標(biāo)記的d-d’的方向觀察，在提升室40中設(shè)置有升降單元(未示出)和第二傾斜單元。升降單元(未示出)使設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50向上和向下移動(dòng)。在從加工室接收基板1時(shí)，第二傾斜單元使設(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角保持與設(shè)置在加工室5、10和30的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相同，在通過(guò)升降單元進(jìn)行提升時(shí)改變?cè)O(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角，并且在到達(dá)高速傳遞室45的第二側(cè)時(shí)使設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50水平。

升降單元(未示出)可以通過(guò)各種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，只要升降單元能夠使用于支承傳遞單元50的支承支架43向上和向下移動(dòng)即可。另外，第二傾斜單元垂直地聯(lián)接至支承支架43，并且包括第二鉸鏈聯(lián)接器41和升降缸體42，該第二鉸鏈聯(lián)接器41具有以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接至傳遞單元50的中間部的上端部，該升降缸體42垂直地聯(lián)接至支承支架43，并且具有聯(lián)接至傳遞單元50的下側(cè)的上端部，由此使傳遞單元50向上和向下移動(dòng)。

因此，在升降單元(未示出)驅(qū)動(dòng)支承支架43向上移動(dòng)時(shí)，設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50向上提升。在這個(gè)過(guò)程中，升降缸體42被驅(qū)動(dòng)為使傳遞單元50水平。

圖6圖示了設(shè)置在提升室40的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角保持與設(shè)置在加工室的內(nèi)部的傳遞單元50的傾斜角相同，以便從加工室接收基板。另外，圖7圖示了傳遞單元50在被提升的同時(shí)變水平之前是傾斜的，以及圖8圖示了傳遞單元50被提升為與設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50處于相同的水平面上，并且變得水平。

如果設(shè)置在提升室40內(nèi)部的傳遞單元50與設(shè)置在高速傳遞室45內(nèi)部的傳遞單元50水平處于相同的高度，則傳遞單元50操作成使得基板能夠在高速傳遞室45的內(nèi)部以高速傳遞，并且傳遞至卸載室60。然后，機(jī)械手(ra)卸載安置于設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50上的基板。

圖9和圖10是用于示出設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50的操作的側(cè)視圖。

接收設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50正保持水平。換句話說(shuō)，設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50像設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50一樣保持水平，以便通過(guò)設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50接收所傳遞的基板。

設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50包括一對(duì)支承板51、多個(gè)軸53以及大的輥?zhàn)?5b，所述一對(duì)支承板51設(shè)置成在卸載室60的相對(duì)兩側(cè)處面向彼此，所述多個(gè)軸53具有以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝至支承板51的相對(duì)兩端并且彼此間隔開(kāi)，大的輥?zhàn)?5b分別聯(lián)接至多個(gè)軸53并且彼此間隔開(kāi)。

被稱(chēng)為主輥?zhàn)拥拇蟮妮佔(zhàn)?5b的直徑大于等于預(yù)定長(zhǎng)度，該預(yù)定長(zhǎng)度大于設(shè)置在加工室、提升室40以及高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50的輥?zhàn)?5。

圖9示出了設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50從設(shè)置在高速傳遞室45的內(nèi)部的傳遞單元50水平地接收基板，其中，基板安置在大的輥?zhàn)?5b上。

由于大的輥?zhàn)?5b具有較大直徑，因此軸53與安置在大的輥?zhàn)?5b上的基板之間的空間s足以使機(jī)械手ra通過(guò)。因此，如圖10中所示，機(jī)械手ra可以通過(guò)空間s進(jìn)入并且卸載安置于大的輥?zhàn)?5b上的基板。

如上所述，設(shè)置在卸載室60的內(nèi)部的傳遞單元50設(shè)置有大的輥?zhàn)?5b，并且基板沿與基板的傳遞方向平行的方向進(jìn)行卸載。因此，對(duì)于卸載基板，不需要附加的元件(例如，設(shè)置在傳遞單元的下方的基板支承銷(xiāo)等)；簡(jiǎn)化了用于卸載基板的結(jié)構(gòu)；并且能夠縮短處理基板的生產(chǎn)節(jié)拍。

下面，將對(duì)清潔室10與干燥室30之間的連接結(jié)構(gòu)以及設(shè)置在干燥室的內(nèi)部的氣刀進(jìn)行描述。

圖11是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中清潔室和干燥室的內(nèi)部的正視圖，以及圖12是示出了清潔室和干燥室的內(nèi)部的平面圖。

如圖11和圖12中所示，設(shè)置有分隔部70以使清潔室10和干燥室30彼此分離。分隔部70包括通孔71(參見(jiàn)圖16和圖18)，基板1能夠通過(guò)傳遞單元50經(jīng)由該通孔71從清潔室10傳遞至干燥室30。另外，氣刀90設(shè)置在干燥室30的內(nèi)部并且與分隔部70相鄰，并且分別與通過(guò)傳遞單元50傳遞的基板1的頂部和底部相對(duì)應(yīng)，從而噴射空氣，使得空氣能夠經(jīng)由通孔71朝向清潔室10流動(dòng)。

清潔室10指的是所傳遞的基板1使用去離子水等經(jīng)受清潔加工的空間。在清潔室10中，為了清潔可以執(zhí)行一種加工，但也可以執(zhí)行多種加工。例如，在清潔室中可以執(zhí)行基于等離子表面處理的有機(jī)清潔加工、基于滾刷的清潔加工、基于噴水器的高流速?zèng)_淋的清潔加工、基于雙流體的清潔加工以及基于噴霧器的清潔加工中的至少一種清潔加工。

通過(guò)清潔室10中的清潔加工而清潔的基板1通過(guò)傳遞單元50而被傳遞至干燥室30，并且經(jīng)受干燥加工。因此，干燥室30與清潔室10相連接。具體地，干燥室30連接至清潔室10，但通過(guò)分隔部70與清潔室10分隔開(kāi)。

基板1在沿圖11和圖12中示出的箭頭方向在清潔室10的內(nèi)部10a中傳遞時(shí)經(jīng)受清潔加工，并且然后傳遞至干燥室30的內(nèi)部30a，以便經(jīng)受干燥加工。為此，在清潔室10的內(nèi)部10a和干燥室30的內(nèi)部30a設(shè)置有用于沿箭頭方向傳遞基板1的傳遞單元50。

也就是說(shuō)，傳遞單元50設(shè)置在清潔室10的內(nèi)部10a和干燥室30的內(nèi)部30a，并且使基板1沿從清潔室10至干燥室30的方向進(jìn)行傳遞。由此，基板1依次經(jīng)受清潔加工和干燥加工。

傳遞單元50可以通過(guò)各種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，只要傳遞單元50能夠沿確定方向傳遞基板1即可。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，傳遞單元50通過(guò)使用輥?zhàn)拥捻槾涡D(zhuǎn)而傳遞基板的輥?zhàn)邮捷斔蜋C(jī)得以實(shí)現(xiàn)。

清潔室10和干燥室30在空間上彼此分離。為此，分隔部70設(shè)置在清潔室10與干燥室30之間，并且將空間分隔開(kāi)。分隔部70設(shè)置成使清潔室10與干燥室30分離，并且分隔部70包括通孔71(參見(jiàn)圖16和圖18)，使得基板1能夠通過(guò)傳遞單元50從清潔室10傳遞至干燥室30。

也就是說(shuō)，分隔部70將空間分隔為清潔室10的內(nèi)部10a和干燥室30的內(nèi)部30a，并且形成有通孔71，基板1能夠通過(guò)傳遞單元50經(jīng)由該通孔71從清潔室10的內(nèi)部10a傳遞至干燥室30的內(nèi)部30a。

傳遞至干燥室30的基板1通過(guò)氣刀90進(jìn)行干燥。順便說(shuō)一下，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的氣刀90并不是安裝在干燥室30的中間部中，而是與分隔部70相鄰。

具體地，氣刀90在干燥室30的內(nèi)部與分隔部70相鄰，并且分別與通過(guò)傳遞單元50傳遞的基板1的頂部和底部相對(duì)應(yīng)，從而噴射空氣，以使空氣經(jīng)由通孔71朝向清潔室10流動(dòng)。

由于氣刀90在干燥室30的內(nèi)部30a中的與分隔部70相鄰的位置處朝向通孔71噴射空氣，涂抹在基板1上的清潔液體幾乎不能進(jìn)入干燥室30，而主要回收至清潔室10。因此，改善了干燥室30中的干燥效果。

兩個(gè)氣刀90設(shè)置為分別與通過(guò)傳遞單元50傳遞的基板1的頂部和底部相對(duì)應(yīng)。換句話說(shuō)，氣刀90包括上氣刀90’(參見(jiàn)圖13、圖15以及圖22)和下氣刀90”(參見(jiàn)圖13、圖15以及圖22)。

從上氣刀90’噴射的空氣將涂抹于基板的頂表面上的清潔液體朝向清潔室10吹走，同時(shí)經(jīng)由通孔71沿基板1的頂表面流入清潔室10。另外，從下氣刀90”噴射的空氣將涂抹于基板的底表面上的清潔液體朝向清潔室10吹走，同時(shí)經(jīng)由通孔71沿基板1的底表面流入清潔室10中。

圖19是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的氣刀的立體圖，圖20是圖19的氣刀的示意性截面圖，以及圖21是圖19的氣刀的透視立體圖；

如圖19至圖21中所示，氣刀90具有類(lèi)似于的截面形狀。即，氣刀90的第一側(cè)90a(參見(jiàn)圖23)僅包括豎向表面，并且第二側(cè)90b包括豎向表面90b’和傾斜表面90b”。

具體地，氣刀90具有通過(guò)豎向表面實(shí)現(xiàn)的第一側(cè)90a，以及通過(guò)豎向表面90b’和傾斜表面90b”實(shí)現(xiàn)的第二側(cè)90b，從而具有類(lèi)似于的截面形狀。

以這種截面，氣刀90的第一側(cè)90a與分隔部70相鄰且平行，并且空氣經(jīng)由第一側(cè)90a的下端而被噴射。即，氣刀90沿第一側(cè)90a的下端或者第二側(cè)90b的傾斜表面90b”的下端噴射空氣。

由于氣刀90與分隔部70相鄰且平行，則氣刀90的負(fù)載產(chǎn)生于豎向方向。因此，氣刀90的下端(或者尖端)不彎曲或者發(fā)生變形。另外，由于氣刀90的下端(或者尖端)與通孔71相鄰，并且空氣在氣刀90的下端部處從氣刀90沿對(duì)角線方向噴射，因此空氣能夠經(jīng)由通孔71朝向清潔室10流動(dòng)。

如圖20中所示，氣刀90包括本體91、豎向覆蓋部93、第一傾斜覆蓋部95以及第二傾斜覆蓋部97，該本體91具有氣刀90的大致形狀相類(lèi)似的形狀，該豎向覆蓋部93覆蓋本體91的第二側(cè)的豎向表面，該第一傾斜覆蓋部95覆蓋本體91的第二側(cè)的傾斜表面，該第二傾斜覆蓋部97覆蓋第一傾斜覆蓋部95的第二側(cè)。另外，豎向覆蓋部93與進(jìn)氣口98連接，由預(yù)定壓力從外部供給的空氣通過(guò)該進(jìn)氣口98而被引入本體91的內(nèi)部空間中。

以這種結(jié)構(gòu)，氣刀90在本體91的第二側(cè)的傾斜表面與第一傾斜覆蓋部95的第一側(cè)之間以及在第一傾斜覆蓋部95的第二側(cè)與第二傾斜覆蓋部97的第一側(cè)之間(即，第一傾斜覆蓋部95與第二傾斜覆蓋部97彼此相接觸的表面之間)沿傾斜方向噴射空氣。

下面，將參照?qǐng)D21對(duì)氣刀90的結(jié)構(gòu)進(jìn)行更詳細(xì)地描述。上氣刀90’和下氣刀90”具有相同的結(jié)構(gòu)，但是它們的布置方向不同。

如圖21中所示，本體91與第一空氣分配空間91a一體地形成，該第一空氣分配空間91a指的是沿氣刀90的縱向方向形成并且沿水平方向分配所引入的空氣的空間。另外，本體91與第一空氣分配狹縫91b一體地形成，使得空氣能夠沿向下的方向通過(guò)第一空氣分配空間91a的下側(cè)分配。

另外，本體91形成有第二空氣分配空間95a，該第二空氣分配空間95a指的是通過(guò)第一空氣分配狹縫91b所流入的空氣能夠在下側(cè)沿水平方向被再次分配的空間。第二空氣分配空間95a通過(guò)本體91的第二側(cè)的傾斜表面打開(kāi)，并且通過(guò)第一傾斜覆蓋部95的第一側(cè)關(guān)閉。

在本體91的第二側(cè)的傾斜表面上，在第二空氣分配空間95a的下方形成有第一空氣噴射狹縫91c。而且，第一空氣噴射狹縫91c通過(guò)第一傾斜覆蓋部95的第一側(cè)關(guān)閉。因此，通過(guò)第二空氣分配空間95a分配的空氣沿傾斜方向經(jīng)由第一空氣噴射狹縫91c通過(guò)氣刀90的尖端噴射。

第一傾斜覆蓋部95與本體91的第二側(cè)的傾斜表面表面接觸，使得能夠關(guān)閉第二空氣分配空間95a，但形成有第二空氣分配狹縫95b，第二空氣分配空間95a中的空氣能夠通過(guò)該第二空氣分配狹縫95b而被引入內(nèi)部空間中。另外，第一傾斜覆蓋部95在內(nèi)部形成有第三空氣分配空間97a，該第三空氣分配空間97a指的是通過(guò)第二空氣分配狹縫95b所流入的空氣能夠沿水平方向分配的空間。

在第三空氣分配空間97a的下方，第一傾斜覆蓋部95的第二側(cè)形成有第二空氣噴射狹縫95c。而且，第二空氣噴射狹縫95c通過(guò)第二傾斜覆蓋部97的第一側(cè)關(guān)閉。因此，在第三空氣分配空間97a中分配的空氣沿傾斜方向經(jīng)由第二空氣噴射狹縫95c通過(guò)氣刀90的頂部噴射。

因此，通過(guò)進(jìn)氣口98引入的空氣沿傾斜方向經(jīng)由兩條路徑(用紅色實(shí)線標(biāo)記的)通過(guò)氣刀90的尖端噴射，如圖21中所示。具體地，第一路徑指的是通過(guò)進(jìn)氣口98引入的空氣經(jīng)由第一空氣分配空間91a、第一空氣分配狹縫91b、第二空氣分配空間95a以及第一空氣噴射狹縫91c噴射的路徑，并且第二路徑指的是通過(guò)進(jìn)氣口98引入的空氣經(jīng)由第一空氣分配空間91a、第一空氣分配狹縫91b、第二空氣分配空間95a、第二空氣分配狹縫95b、第三空氣分配空間97a以及第二空氣噴射狹縫95c噴射的路徑。

如上所述，上述氣刀90包括上氣刀90’和下氣刀90”。即，兩個(gè)氣刀設(shè)置為分別與通過(guò)通孔71所傳遞的基板1的頂部和底部相對(duì)應(yīng)。

如圖22和圖23中所示，包括上氣刀90’和下氣刀90”的氣刀90的在縱向上相反的兩端聯(lián)接至支架80。

當(dāng)基板1在上氣刀90’與下氣刀90”之間經(jīng)過(guò)時(shí)，上氣刀90’向基板的頂部表面噴射空氣，并且下氣刀90”向基板的底部表面噴射空氣。因此，必須對(duì)上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g進(jìn)行調(diào)節(jié)，如圖22中所示。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，氣刀90的在縱向上相對(duì)的兩端聯(lián)接至支架80，其中，上氣刀90’和下氣刀90”中的一者的高度在豎向方向上是可調(diào)節(jié)的，由此調(diào)節(jié)上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g。

支架80包括高度可調(diào)節(jié)支架81和固定支架83。氣刀90的相對(duì)兩端聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81。然而，上氣刀90’和下氣刀90”中的一者以高度可調(diào)節(jié)的方式聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81。

圖22圖示了上氣刀90’與下氣刀90”之中的下氣刀90”固定地聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81。因此，高度可調(diào)節(jié)支架81包括位于上氣刀90’的相對(duì)兩端所聯(lián)接至的部分處的高度調(diào)節(jié)器81a。

因此，在調(diào)節(jié)上氣刀90’的高度以得到上氣刀90’與下氣刀90”之間期望的間隙g的情況下，可以將各種緊固件聯(lián)接至高度調(diào)節(jié)器81a以設(shè)定上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g。

氣刀90——?dú)獾?0的相對(duì)兩端聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81——與分隔部70相鄰并且通過(guò)固定支架83設(shè)置在干燥室30的內(nèi)部。因此，如圖22中所示，固定支架83緊固至高度可調(diào)節(jié)支架81，并且通過(guò)聯(lián)接構(gòu)件聯(lián)接至干燥室30中的結(jié)構(gòu)件。

上氣刀和下氣刀——上氣刀與下氣刀之間的間隙被完全調(diào)節(jié)好——所聯(lián)接至的支架80聯(lián)接至干燥室30中的結(jié)構(gòu)件(例如，支承板51)，使得基板1能夠通過(guò)上氣刀與下氣刀之間的中央。

如上所述，上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g必須根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)節(jié)，并且支架80必須聯(lián)接至支承板51，使得基板1能夠通過(guò)上氣刀與下氣刀之間的中央。在調(diào)節(jié)間隙g或聯(lián)接支架時(shí)，需要檢查上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g。而且，需要檢查基片1能否在如圖23中所示的箭頭方向傳遞的同時(shí)，在上氣刀90’與下氣刀90”之間正常通過(guò)。

因此，如圖22至圖24中所示，支架80包括用來(lái)檢查上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙的觀察窗85。具體地，觀察窗85形成在固定支架83中，使得能夠看到上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙。

因此，如圖24中所示，在設(shè)定好上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙g時(shí)，能夠通過(guò)形成在固定支架83中的觀察窗85觀察上氣刀90’的尖端與下氣刀90”的尖端之間的空間。

由于能夠通過(guò)觀察窗85檢查上氣刀90’與下氣刀90”之間的完全調(diào)節(jié)好的間隙，因此支架聯(lián)接至支承板51，使得基板能夠通過(guò)上氣刀與下氣刀之間的中央。

根據(jù)上述布置和結(jié)構(gòu)，氣刀90與分隔部70相鄰。下面，將參照?qǐng)D11至圖18對(duì)傳遞單元50、分隔部70以及氣刀90的布置結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)描述。

圖13至圖15是從不同角度觀察的圖12中標(biāo)記的方框的局部立體圖；圖16是在沿箭頭方向觀察的沿圖12中線a-a’截取的立體圖；圖17是示出了圖16中分離的分隔部的立體圖；以及圖18是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的清潔室的內(nèi)部的分隔部的第一側(cè)的局部立體圖。

圖19是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備中的氣刀的立體圖，圖20是圖19的氣刀的示意性截面圖，以及圖21是圖19的氣刀的透視立體圖。

如圖12中所示，傳遞單元50包括一對(duì)支承板51、軸53以及輥?zhàn)?5，所述一對(duì)支承板51在清潔室10和干燥室30的相對(duì)兩側(cè)處設(shè)置為面向彼此，該軸53具有以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝至支承板51的相對(duì)兩端，該輥?zhàn)?5與軸53間隔預(yù)定距離并且聯(lián)接至軸53。

一對(duì)支承板51沿傳遞基板1的方向縱向設(shè)置，并且軸53具有以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接至支承板51的相對(duì)兩端并且通過(guò)驅(qū)動(dòng)器(未示出)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。輥?zhàn)?5接觸并且支承基板1，并且在軸53旋轉(zhuǎn)時(shí)沿箭頭方向傳遞基板1。

基板1在支承于輥?zhàn)?5上時(shí)必須沿箭頭方向直線傳遞。因此，在基板1的相反兩側(cè)處設(shè)置有彼此間隔預(yù)定距離的引導(dǎo)輥?zhàn)?7。具體地，如圖12至圖14中所示，引導(dǎo)輥?zhàn)?7安裝至支承板51的內(nèi)側(cè)并且與基板1的側(cè)端部相接觸，從而引導(dǎo)基板1沿箭頭方向直線傳遞。

引導(dǎo)輥?zhàn)?7必須與基板1的厚度和尺寸相對(duì)應(yīng)。因此，引導(dǎo)輥?zhàn)?7可以聯(lián)接至支承板51的內(nèi)側(cè)使得能夠沿豎向方向(即，支承板51的高度方向)和水平方向(即，與支承板51的內(nèi)側(cè)豎直的方向)移動(dòng)。

順便說(shuō)一下，由于分隔部70和氣刀90沒(méi)有設(shè)置在與傳遞基板1的方向(即，箭頭方向)垂直的方向上，而是設(shè)置在對(duì)角線方向上，傳遞單元50還包括輔助裝置，即，如圖12至圖14中所示出的輔助軸53a和輔助輥?zhàn)?5a。

具體地，分隔部70和氣刀90沒(méi)有設(shè)置與傳遞基板1的方向垂直的方向上，而是設(shè)置在對(duì)角線方向上，如圖11至圖15中所示，因此在分隔部70和氣刀90所設(shè)置的區(qū)域中，不可能將軸53的兩端安裝至所述一對(duì)支承板51。即，由于會(huì)與設(shè)置在傾斜方向上的分隔部70和氣刀90發(fā)生干擾，因此不可能將軸53的相反兩端安裝至所述一對(duì)支承板51。

因此，輔助軸53a設(shè)置在分隔部70和氣刀90所設(shè)置的區(qū)域中，使得基板1能夠平穩(wěn)地傳遞。當(dāng)然，輥?zhàn)?5聯(lián)接至輔助軸53a。輔助軸53a的一端以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接至支承板51，并且另一端以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接至輔助軸支承件21(參見(jiàn)圖14、圖16以及圖17)。

輔助軸支承件21安裝在分隔部70所坐置的底座板20上。因此，輔助軸53a——輔助軸53a的另一端安裝至輔助軸支承件21——比軸53更短。

另外，傳遞單元50還包括輔助輥?zhàn)?5a，用于在分隔部70和氣刀90在如圖12至14中所示的傾斜方向上設(shè)置的區(qū)域中更平穩(wěn)地傳遞基板1。

輔助輥?zhàn)?5a形成在安裝于底座板20上的輔助輥?zhàn)又С屑?3上，以便使基板在聯(lián)接至輔助軸支承件21上的輥?zhàn)由系膫鬟f增強(qiáng)。因此，基板在分隔部70和氣刀90沿傾斜方向設(shè)置的區(qū)域中通過(guò)聯(lián)接至輔助軸53a的輥?zhàn)右约霸O(shè)置在輔助輥?zhàn)又С屑?3上的輔助棍子55a而被傳遞。

如圖11至圖15中所示，分隔部70設(shè)置成相對(duì)于傳遞基板的方向傾斜，并且豎向地設(shè)置成坐置于底座板20上，如圖16至圖17中所示。

分隔部70通過(guò)以可拆卸的方式安裝上分隔部70a和下分隔部70b而實(shí)現(xiàn)。上分隔部70a和下分隔部70b組裝成分隔部70，并且分隔部70具有能夠使基板1傳遞通過(guò)的通孔71。

因此，在上分隔部70a的下部相對(duì)端部處形成有上分隔間隔部70a’，并且在下分隔部70b的上部的相對(duì)端部形成有下分隔間隔部70b’，并且下分隔間隔部70b’聯(lián)接至上分隔間隔部70a’。因此，分隔部70包括通過(guò)聯(lián)接上分隔間隔部70a’與下分隔間隔部70b’而形成的通孔71。

當(dāng)然，形成在分隔部70中的通孔71的尺寸大到足以使基板1通過(guò)。涂抹在基板1上的清潔液體在穿過(guò)通孔71時(shí)由氣刀90移除，該基板1從清潔室10穿過(guò)通孔71傳遞至干燥室30。

相應(yīng)地，在基板1穿過(guò)通孔71時(shí)，必須防止沿分隔部70的壁向下流動(dòng)的清潔液體落在基板1上。為此，在形成清潔室10的內(nèi)部10a的分隔部70的壁上，在通孔71上形成有清潔液體掉落阻擋器73。

清潔液體掉落阻擋器73形成在通孔71上，并且防止沿分隔部70的壁向下流動(dòng)的清潔液體落在穿過(guò)通孔71的基板1上。沿分隔部70的壁向下流動(dòng)的清潔液體通過(guò)清潔液體掉落阻擋器73而被分為左側(cè)和右側(cè)并且在通孔71的兩側(cè)降落。

另外，分隔部70的相反的端部與形成清潔室10和干燥室30的室的橫向壁相接觸。因此，分隔部70的橫向端部與室的橫向壁要以密封的方式密封。即，分隔部70的橫向端部與室的橫向壁必須以密封的方式密封，以便防止清潔室10中的清潔液體或者清潔液體的霧氣通過(guò)分隔部70的橫向端部與室的橫向壁之間的微小裂縫進(jìn)入干燥室30。

因此，如圖18中所示，在形成清潔室10的內(nèi)部10a和清潔室10的內(nèi)側(cè)10b的分隔部70的整個(gè)壁側(cè)上附接有柔性板，即密封件75。即，密封件75附接至分隔部70的壁側(cè)，然后折疊并且附接至清潔室10的內(nèi)側(cè)10b。為了使密封件75牢固地附接，可以向密封件75添加附加板77。

如上所述，分隔部70坐置并且支承在底座板20上。由于分隔部70沿對(duì)角線方向設(shè)置，因此底座板20也為傾斜地設(shè)置。除了分隔部70之外，如上所述，在底座板20上還形成有用于輔助軸53a的輔助軸支承件21和用于輔助輥?zhàn)?5a的輔助輥?zhàn)又С屑?3。

氣刀90與分隔部70相鄰、設(shè)置在干燥室30中、并且設(shè)置為分別與通過(guò)傳遞單元50傳遞的基板1的頂部和底部相對(duì)應(yīng)，從而通過(guò)通孔71朝向清潔室10噴射空氣。

如圖11至圖15中所示，氣刀90并沒(méi)有設(shè)置在與傳遞基板1的方向垂直的方向上，而是設(shè)置在對(duì)角線方向上。因此，分隔部70還與氣刀90相鄰并且在對(duì)角線方向上相鄰。

氣刀90并沒(méi)有設(shè)置在與傳遞基板1的方向垂直的方向上，而是設(shè)置在對(duì)角線方向上，以便通過(guò)空氣噴射吹走并且移除涂抹在基板1上的清潔液體。如果氣刀90沿對(duì)角線方向吹走清潔液體，則使涂抹在基板上的清潔液體朝向基板的第一側(cè)推出并且移除，由此改善了干燥效果。

如圖13和圖14中所示，氣刀90包括上氣刀90’和下氣刀90”，并且上氣刀90’和下氣刀90”的相對(duì)的端部與分隔部70相鄰并且聯(lián)接至支架80。氣刀90在其相對(duì)的端部的高度調(diào)節(jié)好的情況下聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81，并且通過(guò)聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81的固定支架83安裝至支承板51。

由于氣刀90沿對(duì)角線方向設(shè)置，固定支架83傾斜地聯(lián)接至高度可調(diào)節(jié)支架81。而且，固定支架83安裝至支承板51并且緊固至支承板51。如圖15中所示，固定支架83形成有觀察窗85，以用于檢查上氣刀90’與下氣刀90”之間的間隙。

因此，氣刀90沿對(duì)角線方向設(shè)置并且噴射空氣，使得涂抹在穿過(guò)通孔71的基板1上的清潔液體能夠被朝向基板的第一側(cè)推出。因此，能夠減少剩余在經(jīng)由通孔71進(jìn)入干燥室30的基板1上的清潔液體，從而改善干燥效率。

此外，為了改善清潔室10中的清潔效率并且改善干燥室30中的干燥效率，通過(guò)傳遞單元50使基板1傾斜地傳遞。因此，傳遞單元50設(shè)置為朝向第一側(cè)傾斜，如圖11中所示。即，軸被安裝成其一端高于另一端，使得通過(guò)傳遞單元傳遞的基板1能夠朝向第一側(cè)傾斜。

因此，涂抹于基板1上的清潔液體在清潔加工期間朝向第一側(cè)向下流動(dòng)，并且在使用氣刀90的干燥加工期間朝向第一側(cè)推出，由此使剩余在基板1上的清潔液體減至最少。因此，能夠改善清潔效率和干燥效率。

對(duì)于上述技術(shù)問(wèn)題和解決方案，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于處理基板的設(shè)備具有用于裝載、加工、傳遞以及卸載基板的多級(jí)室結(jié)構(gòu)，所述設(shè)備允許基板在設(shè)備的前側(cè)或后側(cè)進(jìn)行裝載和卸載，從而減小占用面積并且縮短用于處理基板的生產(chǎn)節(jié)拍，并且易于對(duì)接至另一處理設(shè)備。

此外，提供了用于處理基板的設(shè)備，在該設(shè)備中，經(jīng)受加工的基板在加工室的內(nèi)部以預(yù)定角度傾斜的方式傳遞，并且在高速傳遞室的內(nèi)部以高速水平地傳遞，由此在迅速傳遞基板的同時(shí)改善清潔加工等加工的效率。

另外，提供了用于處理基板的設(shè)備，在該設(shè)備中，氣刀設(shè)置在干燥室的內(nèi)部，并且與用于使清潔室與干燥室分離的分隔部相鄰，以便使干燥室中的清潔液體減至最少，從而改善干燥效果，并且氣刀以與分隔部相鄰且平行的方式垂直地設(shè)置，以便使下垂和變形減至最小。

盡管已經(jīng)示出并描述了本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，在沒(méi)有背離本發(fā)明的原則和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施方式進(jìn)行改變，本發(fā)明的原則和精神的范圍限定在所附加權(quán)利要求及其等同方面中。