技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體制程及其制程設(shè)備與控制裝置。其中半導(dǎo)體制程包括：對第一晶圓進(jìn)行第一制程步驟；在完成所述第一制程步驟后，依據(jù)所述第一晶圓的實(shí)際表面形貌信息獲取第一不可校正誤差信息；以及，依據(jù)所述第一不可校正誤差信息來調(diào)整所述第一制程步驟的制程參數(shù)。本發(fā)明更提出適用此半導(dǎo)體制程的制程設(shè)備與控制裝置。本發(fā)明有助于減少制程步驟后續(xù)產(chǎn)生的不可校正誤差，實(shí)時(shí)反饋制程誤差，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制程的在線實(shí)時(shí)監(jiān)測，有效提高制程良率。

技術(shù)研發(fā)人員：魏瑩璐;雷鳴;林生元;黃泰維;陳曉葳
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺灣積體電路制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.05.04
技術(shù)公布日：2017.11.14