1.一種用于將在下游方向上流動(dòng)的未電離的氣流轉(zhuǎn)換成電離氣流的氣體電離設(shè)備，所述設(shè)備包括：
殼體，所述殼體具有入口、出口和在入口和出口之間的通道，所述電離氣流和所述未電離的氣流中的至少一者流過(guò)所述通道；
至少一個(gè)電離絲狀電極，所述至少一個(gè)電離絲狀電極至少部分安置于所述通道內(nèi)且相對(duì)于所述通道靜止，所述電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子以由此將所述未電離的氣流轉(zhuǎn)換成所述電離氣流，所述電離絲具有響應(yīng)于所述電離信號(hào)的提供而形成污染物副產(chǎn)物層的表面；以及
框架，所述框架至少部分安置于所述通道內(nèi)，以使得所述電離氣流和所述未電離的氣流中的至少一者流過(guò)其中，所述框架具有用于在至少大體垂直于所述未電離的氣流的配置中支撐所述至少一個(gè)電離絲的多個(gè)支撐元件，所述框架被安裝成使得所述支撐元件在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間從所述電離絲的所述表面清潔掉所述污染物副產(chǎn)物層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體電離設(shè)備，其中所述通道限定中心軸線，其中所述框架被可旋轉(zhuǎn)地安裝以圍繞所述通道軸線旋轉(zhuǎn)，并且其中所述框架圍繞通道軸線連續(xù)地旋轉(zhuǎn)大于180度，同時(shí)所述電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體電離設(shè)備，其中所述框架圍繞所述通道軸線連續(xù)地旋轉(zhuǎn)，同時(shí)所述電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子，并且其中所述框架包括具有多個(gè)葉片的電離氣體流動(dòng)準(zhǔn)直儀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體電離設(shè)備，其中所述框架包括面向所述殼體入口的入口側(cè)和面向所述殼體出口的出口側(cè)，其中所述至少一個(gè)電離絲被支撐在所述框架的所述入口側(cè)上且相對(duì)于所述通道靜止，并且其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括被多個(gè)支撐元件支撐在所述框架的所述出口側(cè)上且相對(duì)于所述通道靜止的至少一個(gè)其他電離絲狀電極，以使得當(dāng)旋轉(zhuǎn)所述框架時(shí)，所述支撐元件同時(shí)從兩個(gè)所述電離絲清潔掉污染物副產(chǎn)物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體電離設(shè)備，其中所述電離絲包括彈性張緊地抵靠所述多個(gè)支撐元件中的一個(gè)以上的環(huán)圈，并且所述支撐元件從所述電離絲的所述表面清潔掉污染物副產(chǎn)物，同時(shí)所述電離絲通過(guò)在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間以物理方式抵靠所述污染物副產(chǎn)物層而響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)產(chǎn)生電荷載流子。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體電離設(shè)備，其中所述多個(gè)支撐元件中的每一個(gè)包括至少大體剛性的彎曲鉤，并且其中所述電離絲的張緊力在約30克與約150克之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體電離設(shè)備，其中所述多個(gè)支撐元件中的每一個(gè)包括多線圈彈簧，其中所述電離絲被支撐在所述彈簧的鄰近線圈之間，并且其中所述電離絲的張緊力在約50克與約100克之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體電離設(shè)備，其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括至少一個(gè)彈性張緊元件，其中所述電離絲進(jìn)一步包括第一端和第二端，且其中所述第一端和第二端通過(guò)所述至少一個(gè)彈性張緊元件被可移除地安裝到所述殼體，以使得所述電離絲可被移除且由另一電離絲替換。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體電離設(shè)備，其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括可調(diào)整的張緊元件，以使得可將所述電離絲的張緊力調(diào)整為至少在約50克與約100克之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體電離設(shè)備，其中所述至少一個(gè)支撐元件彼此電絕緣，其中所述污染物副產(chǎn)物層是在由所述電離絲產(chǎn)生電荷載流子期間連續(xù)累積的絕緣層，并且其中通過(guò)在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間和對(duì)所述電離絲提供所述電離信號(hào)期間在所述電絕緣的支撐元件與所述電離絲之間的微放電而從所述電離絲的所述表面連續(xù)清潔掉污染物副產(chǎn)物的所述絕緣層。
11.一種用于將在下游方向上流動(dòng)的未電離的氣流轉(zhuǎn)換成電離氣流的氣體電離設(shè)備，所述設(shè)備包括：
殼體，所述殼體具有入口、出口和在入口和出口之間的通道，所述電離氣流和所述未電離的氣流中的至少一者流過(guò)所述通道；
電離絲狀電極，所述電離絲狀電極至少部分安置于所述通道內(nèi)且相對(duì)于所述通道靜止，用于響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子以由此將所述未電離的氣流轉(zhuǎn)換成所述電離氣流，所述電離絲具有響應(yīng)于對(duì)提供所述電離信號(hào)而形成污染物副產(chǎn)物層的表面；以及
框架，所述框架安置于所述通道內(nèi)，以使得所述電離氣流和所述未電離的氣流中的至少一者可流過(guò)其中，所述框架具有用于彈性支撐所述電離絲的構(gòu)件，以使得用于支撐的所述構(gòu)件在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間從所述電離絲的所述表面清潔掉所述污染物副產(chǎn)物層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中所述通道限定中心軸線，其中所述框架被可旋轉(zhuǎn)地安裝以圍繞所述通道軸線旋轉(zhuǎn)，并且其中所述框架圍繞通道軸線連續(xù)地旋轉(zhuǎn)大于180度，同時(shí)所述電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的氣體電離設(shè)備，其中所述框架圍繞所述通道軸線連續(xù)地旋轉(zhuǎn)，同時(shí)所述電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子，且其中所述框架包括具有多個(gè)葉片的電離氣體流動(dòng)準(zhǔn)直儀。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中所述框架進(jìn)一步包括面向所述殼體入口的入口側(cè)和面向所述殼體出口的出口側(cè)，其中所述電離絲被支撐在所述框架的所述入口側(cè)上且相對(duì)于所述通道靜止，并且其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括被用于支撐的所述構(gòu)件支撐在所述框架的所述出口側(cè)上且相對(duì)于所述通道靜止的至少一個(gè)其他電離絲狀電極，以使得當(dāng)旋轉(zhuǎn)所述框架時(shí)，用于支撐的所述構(gòu)件同時(shí)從所述兩個(gè)所述電離絲清潔掉污染物副產(chǎn)物。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中所述電離絲包括彈性張緊地抵靠用于支撐的所述構(gòu)件的環(huán)圈，并且用于支撐的所述構(gòu)件從所述電離絲的所述表面清潔掉污染物副產(chǎn)物，同時(shí)所述電離絲通過(guò)在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間以物理方式抵靠所述污染物副產(chǎn)物層而響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)產(chǎn)生電荷載流子。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中用于支撐的所述構(gòu)件包括至少大體剛性的多個(gè)彎曲鉤，并且其中所述電離絲的張緊力在約30克與約150克之間。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中用于支撐的所述構(gòu)件包括多個(gè)多線圈彈簧，其中所述電離絲被支撐在所述彈簧的鄰近線圈之間，并且其中所述電離絲的張緊力在約50克與約100克之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括至少一個(gè)彈性張緊元件，其中所述電離絲進(jìn)一步包括第一端和第二端，并且其中所述第一端和第二端通過(guò)所述至少一個(gè)彈性張緊元件可移除地安裝到所述殼體，以使得所述電離絲可被移除且由另一電離絲替換。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中所述設(shè)備進(jìn)一步包括用于將所述電離絲可調(diào)整地張緊到在約50克與約100克之間的構(gòu)件。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣體電離設(shè)備，其中用于支撐的所述構(gòu)件包括彼此電絕緣的多個(gè)支撐元件，其中所述污染物副產(chǎn)物層是在所述電離絲產(chǎn)生電荷載流子期間連續(xù)累積的絕緣層，并且其中通過(guò)在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間和在由所述電離絲產(chǎn)生電荷載流子期間在所述電絕緣的支撐元件與所述電離絲之間的微放電而從所述電離絲的所述表面連續(xù)清潔掉污染物副產(chǎn)物的所述絕緣層。
21.一種清潔具有用于彈性支撐至少一個(gè)靜止電離絲的框架的類型的氣體電離設(shè)備的方法，所述至少一個(gè)靜止電離絲響應(yīng)于對(duì)其提供電離信號(hào)而產(chǎn)生電荷載流子和污染物副產(chǎn)物層，所述方法包括：
將電離信號(hào)提供到所述電離絲以由此產(chǎn)生電荷載流子和在所述電離絲上的污染物副產(chǎn)物層；以及
相對(duì)于所述電離絲旋轉(zhuǎn)所述框架以由此從所述電離絲清潔掉所述污染物副產(chǎn)物層。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)步驟包括相對(duì)于所述電離絲連續(xù)旋轉(zhuǎn)所述框架大于180度，以由此從所述電離絲清潔掉絕緣污染物副產(chǎn)物的絕緣層。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述將電離信號(hào)提供到所述電離絲的步驟連續(xù)地在所述電離絲上產(chǎn)生污染物副產(chǎn)物的累積絕緣層，其中所述旋轉(zhuǎn)步驟進(jìn)一步包括相對(duì)于所述電離絲連續(xù)旋轉(zhuǎn)所述框架，且其中所述旋轉(zhuǎn)步驟通過(guò)在所述框架的旋轉(zhuǎn)期間和在對(duì)所述電離絲提供電離信號(hào)期間在所述框架與所述電離絲之間的微放電而連續(xù)地清潔掉污染物副產(chǎn)物的絕緣層。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中產(chǎn)生與旋轉(zhuǎn)步驟同時(shí)發(fā)生。
25.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中產(chǎn)生與旋轉(zhuǎn)步驟不同時(shí)發(fā)生。