本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種產(chǎn)品驗收系統(tǒng)及產(chǎn)品驗收方法。
背景技術(shù):
在晶圓(wafer)制造完成之后,需要對晶圓進行探針(CP)測試。在CP測試過程中,每個步驟都會扣留(hold)住晶圓等待技術(shù)人員的檢驗。技術(shù)人員會根據(jù)測試的結(jié)果查看一片晶圓或者同時查看多片晶圓,并且決定是否可以放行(release)到下一步驟。
如圖1所示,目前在CP測試過程中對晶圓的檢測方法包括:
步驟S1,獲得MES(制造執(zhí)行系統(tǒng))扣留的晶圓;
步驟S2,核對檢測圖形;
步驟S3,核對良率;
步驟S4,比較已知圖形;
步驟S5,放行。
具體的,技術(shù)人員得到一堆被扣留的晶圓,首先根據(jù)探針的測試圖(CP map)進行檢驗;之后是檢查良率以及性能(bin yield);然后,技術(shù)人員憑借經(jīng)驗進行圖案(pattern)的檢查,這包括比對之前已經(jīng)出現(xiàn)過的pattern是否有問題,以及仔細檢查單片晶圓,并且需要手動的將多片晶圓重疊后進行檢驗。經(jīng)過反復(fù)的檢驗,最終決定是否可以放行晶圓。
由此可見,目前技術(shù)人員都是憑借經(jīng)驗?zāi)繙y去判斷,失誤很有可能會發(fā)生。并且技術(shù)人員要花很大一部分時間來查看并且判斷,加大了工作量,也導(dǎo)致晶圓被hold的時間長。
在現(xiàn)有方法中,如果晶圓被長時間扣留在一個步驟,往往會降低工作效率,影響出貨速度;或者由于技術(shù)人員經(jīng)驗缺乏,導(dǎo)致該扣留的沒有扣留,會影響 出貨的質(zhì)量;又或者該放行的晶圓一直被扣留,也影響出貨速度。
因此,目前亟需一種能夠自動驗收的系統(tǒng),來避免上述種種問題的發(fā)生。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種產(chǎn)品驗收系統(tǒng)及產(chǎn)品驗收方法,以改善現(xiàn)有技術(shù)中需要人工檢測因而效率低下的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種產(chǎn)品驗收系統(tǒng),包括檢測模塊和判斷模塊,所述判斷模塊依據(jù)所述檢測模塊的檢測結(jié)果決定產(chǎn)品的扣留和放行;
其中,所述檢測模塊包括多個子模塊;在前一個子模塊運作完成并且該前一個子模塊的檢測結(jié)果正常的情況下,下一個子模塊進行運作以對產(chǎn)品進行檢測;在任一個子模塊的檢測結(jié)果不正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品扣留,在每一個子模塊的檢測結(jié)果都正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品放行。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),所述多個子模塊包括:良率及性能檢測模塊、疊加檢測模塊、單片檢測模塊及附加模塊,所述良率及性能檢測模塊分析產(chǎn)品的良率及性能是否正常,所述疊加檢測模塊將同一批晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果疊加后進行檢測,所述單片檢測模塊對單片晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果進行檢測,所述附加模塊按照設(shè)定的附加要求進行檢測。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),所述附加要求的數(shù)量大于等于2。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),所述子模塊還包括一過濾模塊,將晶圓中的設(shè)定區(qū)域過濾。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),所述過濾模塊,運作的順序次于所述良率及性能檢測模塊,先于所述疊加檢測模塊。
相應(yīng)的,本發(fā)明提供一種產(chǎn)品驗收方法,利用如上所述的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)進行產(chǎn)品的驗收。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收方法,包括:
步驟一:第一子模塊判斷產(chǎn)品的良率及性能,若存在異常情況,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟二;
步驟二:第二子模塊過濾設(shè)定區(qū)域,并接著執(zhí)行步驟三;
步驟三:第三子模塊將同一批晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果疊加后進行檢測, 若存在異常情況,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟四;
步驟四:第四子模塊對單片晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果進行檢測,若存在異常情況,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟五;
步驟五:第五子模塊按照附加要求進行檢測,若存在異常情況,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,判斷模塊將產(chǎn)品放行。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收方法,所述步驟三包括:
步驟三一:檢測是否存在塊狀或者堆狀缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟三二;
步驟三二:檢測是否存在周期性缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟三三;
步驟三三:檢測是否存在連續(xù)性缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟四。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收方法,所述步驟四包括:
步驟四一:檢測是否存在區(qū)域性缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟四二;
步驟四二:檢測是否存在連續(xù)性缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟四三;
步驟四三:檢測是否存在塊狀或者堆狀缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟四四;
步驟四四:檢測是否存在重復(fù)性缺陷,若存在,則判斷模塊將產(chǎn)品扣留;反之,執(zhí)行步驟五。
可選的,對于所述的產(chǎn)品驗收方法,若產(chǎn)品扣留,將該產(chǎn)品所在批的全部晶圓扣留,并追加檢測緊鄰的前后各一批晶圓上的產(chǎn)品。
本發(fā)明提供的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),包括檢測模塊和判斷模塊,所述判斷模塊依據(jù)所述檢測模塊的檢測結(jié)果決定產(chǎn)品的扣留和放行;其中,所述檢測模塊包括多個子模塊;在前一個子模塊運作完成并且該前一個子模塊的檢測結(jié)果正常的情況下,下一個子模塊進行運作以對產(chǎn)品進行檢測;在任一個子模塊的檢測結(jié)果不正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品扣留,在每一個子模塊的檢測結(jié)果都正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品放行。與現(xiàn)有技術(shù)相比,利用所述產(chǎn) 品驗收系統(tǒng)進行的產(chǎn)品驗收方法,避免了人工檢測的費時費力,大大縮短了檢測時間,提高了檢測質(zhì)量。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種產(chǎn)品驗收方法的流程圖;
圖2為本發(fā)明實施例中的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實施例中的產(chǎn)品驗收方法的流程圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合示意圖對本發(fā)明的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)及產(chǎn)品驗收方法進行更詳細的描述,其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實施例,應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明,而仍然實現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此,下列描述應(yīng)當被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道,而并不作為對本發(fā)明的限制。
在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書,本發(fā)明的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是,附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實施例的目的。
本發(fā)明的核心思想是,提供一種產(chǎn)品驗收系統(tǒng),包括檢測模塊和判斷模塊,所述判斷模塊依據(jù)所述檢測模塊的檢測結(jié)果決定產(chǎn)品的扣留和放行;其中,所述檢測模塊包括多個子模塊;在前一個子模塊運作完成并且該前一個子模塊的檢測結(jié)果正常的情況下,下一個子模塊進行運作以對產(chǎn)品進行檢測;在任一個子模塊的檢測結(jié)果不正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品扣留,在每一個子模塊的檢測結(jié)果都正常的情況下,所述判斷模塊決定產(chǎn)品放行。
下面,請參考圖2-圖3,對本發(fā)明的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)及產(chǎn)品驗收方法進行詳細說明。其中圖2為本發(fā)明實施例中的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖,圖3為本發(fā)明實施例中的產(chǎn)品驗收方法的流程圖。
如圖2所示,本發(fā)明提供的產(chǎn)品驗收系統(tǒng),包括:檢測模塊10和判斷模塊20,所述判斷模塊20依據(jù)檢測模塊10的檢測結(jié)果決定產(chǎn)品的扣留和放行。
在本發(fā)明中,所述檢測模塊10包括多個子模塊;每個子模塊呈遞進關(guān)系, 具體的,在前一個子模塊運作完成并且該前一個子模塊的檢測結(jié)果正常的情況下,下一個子模塊進行運作以對產(chǎn)品進行檢測;在任一個子模塊的檢測結(jié)果不正常的情況下,所述判斷模塊20決定產(chǎn)品扣留,在每一個子模塊的檢測結(jié)果都正常的情況下,所述判斷模塊20決定產(chǎn)品放行。
具體的,如圖2所示,所述子模塊包括:良率及性能檢測模塊101、疊加檢測模塊103、單片檢測模塊104及附加模塊105。
所述良率及性能檢測模塊101分析產(chǎn)品的良率及性能(bin yield)是否正常,在MES系統(tǒng)中都會存在bin及yield的SPC(統(tǒng)計過程控制)圖表,該良率及性能檢測模塊101可以從MES系統(tǒng)中獲取數(shù)據(jù),判斷良率及性能是否正常,通??梢灾苯影凑誐ES的結(jié)果執(zhí)行。
所述疊加檢測模塊103將同一批(lot)晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果疊加后進行檢測,所述疊加檢測模塊103具有三種模式,包括:塊狀或者堆狀缺陷檢測模式(Cluster fail pattern),用于檢測例如晶圓周邊出現(xiàn)缺陷、一些失敗的點堆積在一起的缺陷;周期性缺陷檢測模式(Periodic fail pattern),用于檢測例如在某一方向(通常是業(yè)界常用的X/Y方向)上反復(fù)出現(xiàn)失敗的點的缺陷;及連續(xù)性缺陷檢測模式(Continuous fail pattern),用于檢測若干個失敗的點連續(xù)性的出現(xiàn)的缺陷。這三種模式同樣采用遞進關(guān)系,從而實現(xiàn)根據(jù)發(fā)生問題的嚴重程度優(yōu)先檢查,達到節(jié)約資源的目的。
所述單片檢測模塊104對單片晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果進行檢測,具體的,本系統(tǒng)對單片晶圓上的產(chǎn)品也有不同的模式,包括:區(qū)域性缺陷模式(Zone pattern),用于檢測在較大面積內(nèi)的點都失敗這樣的缺陷;連續(xù)性缺陷模式(Continuous fail pattern),用于檢測若干個失敗的點連續(xù)性的出現(xiàn)的缺陷;塊狀或者堆狀缺陷模式(Cluster single&multi bin pattern),用于檢測例如晶圓周邊出現(xiàn)缺陷、一些失敗的點堆積在一起的缺陷;以及重復(fù)性缺陷(Reticle/DUT pattern),用于檢測在不同的區(qū)域相同的失敗的點出現(xiàn)的缺陷,這一缺陷例如可能是光罩原因造成。同樣的,基于節(jié)約資源的目的,這四種模式采用遞進關(guān)系。
所述附加模塊105按照設(shè)定的附加要求進行檢測,這可以由技術(shù)人員依據(jù)不同的需要自己定義,比如指定特定區(qū)域,若這區(qū)域檢驗不合格,便認為整個晶圓都不合格?;谏鲜龅倪f進關(guān)系,基本可以斷定產(chǎn)品不合格的可能性很小, 因此,可以使得所述附加要求的數(shù)量大于等于2,當然,依據(jù)實際要求,附加要求的數(shù)量是1也是可以接受的。
此外,發(fā)明人考慮到,在晶圓上會存在一些特定的區(qū)域,雖然檢測失敗的點很多,但是由于一些特殊原因,技術(shù)人員是不對這些區(qū)域進行檢查,那么本系統(tǒng)也就不需要對這些區(qū)域進行檢驗,從而實現(xiàn)高效檢測。于是,所述子模塊還包括過濾模塊102,將晶圓中的設(shè)定區(qū)域過濾。為了起到高效檢測的目的,將所述過濾模塊102的運作的順序設(shè)置為次于良率及性能檢測模塊101,先于疊加檢測模塊103。
下面,請參考圖3,對本發(fā)明的產(chǎn)品驗收方法進行詳細介紹。本方法利用本發(fā)明的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)進行產(chǎn)品的驗收。
具體的該方法包括:
步驟一、第一子模塊判斷產(chǎn)品的良率及性能,若存在異常情況,則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留,在此,所述第一子模塊可以是良率及性能檢測模塊101,如上所述,本步驟可以直接從MES系統(tǒng)中調(diào)取數(shù)據(jù)即可,即若MES中的數(shù)據(jù)是表示異常(即存在缺陷,標記為Y,下同),則第一子模塊傳遞信號至判斷模塊20將產(chǎn)品扣留。反之(即不存在缺陷,標記為N,下同),執(zhí)行下一步驟。
步驟二、第二子模塊過濾設(shè)定區(qū)域,在此,第二子模塊可以是過濾模塊102,由于第二子模塊僅是起著過濾的作用,故必然能夠接著執(zhí)行之后的步驟。
步驟三、第三子模塊將同一批晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果疊加后進行檢測,若存在異常情況,則第三子模塊傳遞信號至判斷模塊20將產(chǎn)品扣留,在此,所述第三子模塊可以是疊加檢測模塊103。反之,執(zhí)行下一步驟。
具體的,在本步驟中,利用疊加檢測模塊103的三種模式遞進的進行檢測,即首先檢測是否存在塊狀或者堆狀缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),接著檢測是否存在周期性缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),再檢測是否存在連續(xù)性缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),執(zhí)行步驟四。
步驟四、第四子模塊對單片晶圓上的產(chǎn)品的測試結(jié)果進行檢測,若存在異常情況,則傳遞信號至判斷模塊20將產(chǎn)品扣留,在此,所述第四子模塊可以是單片檢測模塊104。反之,執(zhí)行下一步驟。
具體的,在本步驟中,利用單片檢測模塊104的四種模式遞進的進行檢測,即首先檢測是否存在區(qū)域性缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),接著檢測是否存在連續(xù)性缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),再檢測是否存在塊狀或者堆狀缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),最后檢測是否存在重復(fù)性缺陷,若存在(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留;反之(N),執(zhí)行步驟五。
步驟五、第五子模塊按照附加要求進行檢測,若存在異常情況(Y),則判斷模塊20將產(chǎn)品扣留,在此,所述第五子模塊可以是附加模塊105,且優(yōu)選的,滿足附加要求的數(shù)量大于等于2。反之(N),判斷模塊20將產(chǎn)品放行。
此外,為了能夠避免遺漏,盡可能提高出貨質(zhì)量,若在驗收時出現(xiàn)產(chǎn)品扣留,首先是將該產(chǎn)品所在批的全部晶圓扣留,然后再詳細分析每一片晶圓的情況。并且,還可以追加檢測緊鄰的前后各一批晶圓上的產(chǎn)品,進行再次確認。
經(jīng)過上述描述可見,本發(fā)明的產(chǎn)品驗收系統(tǒng)及產(chǎn)品驗收方法,便捷可靠。本發(fā)明建立了一個便捷的產(chǎn)品驗收方法,引領(lǐng)了新的產(chǎn)品驗收方向。利用本發(fā)明的系統(tǒng)及方法進行驗收時,檢查的時間從現(xiàn)有技術(shù)中的大約12小時甚至更多縮短到10分鐘左右,大大縮短了時間。此外,避免了人工作業(yè)的失誤,并解放了技術(shù)人員的工作時間,能夠有著更多時間處理其他工作,有利于提高生產(chǎn)效率。
顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。