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用于監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體裝置中邊緣斜角去除區(qū)域的方法和裝置以及電鍍系統(tǒng)與流程

文檔序號(hào):11836250閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種半導(dǎo)體裝置,包括:

轉(zhuǎn)移室,配置為與電鍍裝置交界;

退火站,布置為使晶圓退火;

機(jī)械臂,布置為將所述晶圓從所述轉(zhuǎn)移室轉(zhuǎn)移至所述退火站;以及

邊緣檢測(cè)器,設(shè)置在所述機(jī)械臂上方,以監(jiān)測(cè)由所述機(jī)械臂攜運(yùn)的所述晶圓的邊緣斜角去除區(qū)域的至少一部分。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,所述邊緣檢測(cè)器包括:

照明器件,布置為照亮所述邊緣斜角去除區(qū)域的所述至少一部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,所述邊緣檢測(cè)器包括用于捕捉所述邊緣斜角去除區(qū)域的所述至少一部分的圖像的電荷耦合器件(CCD)相機(jī)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體裝置,其中,當(dāng)所述晶圓由所述機(jī)械臂攜運(yùn)至預(yù)定位置時(shí),所述CCD相機(jī)捕捉所述邊緣斜角去除區(qū)域的所述至少一部分的所述圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其中,所述預(yù)定位置位于所述晶圓在所述轉(zhuǎn)移室和所述退火站之間的轉(zhuǎn)移路徑上。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體裝置,其中,所述邊緣檢測(cè)器還包括:

觸發(fā)器件,布置為激活所述CCD相機(jī)以當(dāng)所述觸發(fā)器件確定所述觸發(fā)器件與所述機(jī)械臂之間的距離等于預(yù)定距離時(shí)捕捉所述至少一部分的所述圖像。

7.一種用于檢測(cè)晶圓的方法,所述方法包括:

由機(jī)械臂將所述晶圓從轉(zhuǎn)移室轉(zhuǎn)移至退火站;以及當(dāng)所述晶圓從所述轉(zhuǎn)移室轉(zhuǎn)移至所述退火站時(shí),監(jiān)測(cè)所述機(jī)械臂上方的所述晶圓的邊緣斜角去除區(qū)域的至少一部分。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,還包括:

照亮所述邊緣斜角去除區(qū)域的所述至少一部分。

9.一種電鍍系統(tǒng),包括:

電鍍裝置,布置為電鍍晶圓;以及

半導(dǎo)體裝置,包括:

轉(zhuǎn)移室,布置為與所述電鍍裝置交界;

退火室,布置為使所述晶圓退火;

機(jī)械臂,布置為將所述晶圓從所述轉(zhuǎn)移室轉(zhuǎn)移至所述退火站;以及

邊緣檢測(cè)器,設(shè)置在所述機(jī)械臂上方以監(jiān)測(cè)由所述機(jī)械臂攜運(yùn)的所述晶圓的邊緣斜角去除區(qū)域的至少一部分。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電鍍系統(tǒng),其中,所述邊緣檢測(cè)器包括:

照明器件,布置為照亮所述邊緣斜角去除區(qū)域的所述至少一部分。

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