技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種控壓方法和裝置，其中，所述控壓方法包括：確定控制真空傳輸腔室壓力的抽氣閥開啟、且所述真空傳輸腔室壓力小于第一設(shè)定壓力值時(shí)，控制質(zhì)量流量控制器以第一設(shè)定流量值向所述真空傳輸腔室充入氣體；獲取所述真空傳輸腔室的壓力值；當(dāng)獲取的所述壓力值大于第二設(shè)定壓力值時(shí)，控制所述質(zhì)量流量控制器以第二設(shè)定流量值向所述真空傳輸腔室充入氣體，其中，所述第一設(shè)定流量值大于所述第二設(shè)定流量值。通過本發(fā)明實(shí)施例提供的控壓方案，能夠有效地縮短TC腔室壓力恢復(fù)時(shí)間，從而提高TC腔室與PM腔室之間傳輸晶片的效率。

技術(shù)研發(fā)人員：畢會杰;李娟娟
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
文檔號碼：201510574343
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.10
技術(shù)公布日：2017.03.22