該申請(qǐng)要求于2014年10月28日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局遞交的韓國(guó)專利申請(qǐng)第10-2014-0147621號(hào)的權(quán)益，其公開通過(guò)引用全部合并于此。

技術(shù)領(lǐng)域

一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施例涉及用于制造顯示裝置的裝置和制造顯示裝置的方法。

背景技術(shù)：

移動(dòng)電子裝置已被廣泛使用。作為移動(dòng)電子裝置，除了諸如移動(dòng)電話的小型電子裝置之外，平板個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)最近已被廣泛使用。

為了支持各種功能，移動(dòng)電子裝置包括用于向用戶提供諸如圖像或圖片之類的視覺信息的顯示裝置。最近，由于用于驅(qū)動(dòng)顯示裝置的部件已經(jīng)小型化，顯示單元在電子裝置中的相對(duì)重要性逐漸增加，能夠從平坦?fàn)顟B(tài)以預(yù)定角度彎曲的顯示單元結(jié)構(gòu)已經(jīng)被開發(fā)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施例包括用于制造顯示裝置的裝置和制造顯示裝置的方法。

另外的方面將部分地在隨后的描述中陳述，部分地從該描述而將顯而易見，或者可以通過(guò)對(duì)提出的示例性實(shí)施例的實(shí)踐而被獲知。

根據(jù)一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施例，一種用于制造顯示裝置的裝置，包括：卡盤單元，被配置為固定或松開包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)的基底，所述基底被安置在所述卡盤單元上；對(duì)準(zhǔn)單元，被安裝為與所述卡盤單元相鄰以將所述基底對(duì)準(zhǔn)；反轉(zhuǎn)單元，被連接到所述卡盤單元以反轉(zhuǎn)所述卡盤單元；以及激光照射單元，被配置為向所述基底的所述非顯示區(qū)照射激光。

所述裝置可以進(jìn)一步包括：線性驅(qū)動(dòng)單元，被配置為線性移動(dòng)所述卡盤單元和所述反轉(zhuǎn)單元。

當(dāng)所述激光照射單元向所述基底照射激光時(shí)，所述線性驅(qū)動(dòng)單元可以以恒定的速 度移動(dòng)所述卡盤單元和所述反轉(zhuǎn)單元。

所述對(duì)準(zhǔn)單元可以包括：多個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分，被安裝在所述卡盤單元并被設(shè)置成彼此隔開；操作升降器，被提升和降低以操作所述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分中的每個(gè)；距離控制升降器，被提升和降低以控制所述基底和所述卡盤單元之間的距離；以及驅(qū)動(dòng)部分，被連接到所述操作升降器和所述距離控制升降器以提升和降低所述操作升降器和所述距離控制升降器。

所述裝置可以進(jìn)一步包括：基底固定單元，被形成在所述卡盤單元上以固定所述基底。

所述反轉(zhuǎn)單元可以包括：托架；驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分，被設(shè)置在所述托架中以產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力；減速部分，被連接到所述驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分以使驅(qū)動(dòng)力在傳送之前減速；以及旋轉(zhuǎn)軸，被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述托架并被連接到所述減速部分和所述卡盤單元。

所述裝置可以進(jìn)一步包括：異物吸入單元，被設(shè)置在所述卡盤單元下方以吸入在所述激光照射單元照射激光時(shí)產(chǎn)生的異物。

所述裝置可以進(jìn)一步包括：室，其形成有開口，所述對(duì)準(zhǔn)單元、所述卡盤單元和所述反轉(zhuǎn)單元被安裝在所述室內(nèi)；以及閘閥，被配置為打開和關(guān)閉所述室的所述開口。

所述激光照射單元可以被設(shè)置在所述室的外部，并且所述室可以具有窗，由所述激光照射單元照射的激光通過(guò)所述窗被傳送。

所述裝置可以進(jìn)一步包括：照相機(jī)單元，被設(shè)置在所述室的外部以捕獲所述基底的位置。

當(dāng)所述激光照射單元照射激光時(shí)，所述室的內(nèi)部可以處于真空狀態(tài)。

根據(jù)一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施例，一種制造顯示裝置的方法，包括：在基底的顯示區(qū)形成顯示部分；將所述基底裝載到室中并反轉(zhuǎn)所述基底，以使所述顯示部分面對(duì)所述室的底表面；以及在線性移動(dòng)所述基底時(shí)，通過(guò)向所述基底的所述非顯示區(qū)照射激光到來(lái)移除異物。

當(dāng)激光被照射到所述基底的非顯示區(qū)時(shí)，所述室可以處于真空狀態(tài)。

激光可以從所述室的外部被照射到所述室內(nèi)。

當(dāng)激光被照射時(shí)，所述基底可以以恒定的速度被線性移動(dòng)。

所述方法可以進(jìn)一步包括將所述基底對(duì)準(zhǔn)。

所述方法可以進(jìn)一步包括將密封劑涂覆于所述基底的所述非顯示區(qū)以及用封裝基底密封所得到的結(jié)構(gòu)。

這些一般和具體的實(shí)施例可以通過(guò)使用系統(tǒng)、方法、計(jì)算機(jī)程序，或系統(tǒng)、方法和計(jì)算機(jī)程序的組合來(lái)實(shí)施。

附圖說(shuō)明

從結(jié)合附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行的以下描述，這些和/或其它方面將變得顯而易見并更易于理解，附圖中：

圖1是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的顯示裝置制造裝置的局部透視圖；

圖2是圖1所示的部分A的放大透視圖；

圖3是示出基底被安置在圖2所示的基底對(duì)準(zhǔn)單元上的狀態(tài)的主視圖；

圖4是圖3所示的基底對(duì)準(zhǔn)單元的側(cè)視圖；

圖5是示出圖1所示的顯示裝置制造裝置的控制流程的框圖；

圖6是由圖1所示的顯示裝置制造裝置制造的顯示裝置的示意圖；和

圖7是圖6所示的顯示裝置的局部剖視圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將詳細(xì)參考在附圖中示出其示例的示例性實(shí)施例，其中相同的附圖標(biāo)記指代相同的元件。在這點(diǎn)上，本示例性實(shí)施例可以具有不同的形式，并且不應(yīng)被解釋為限于在本文中陳述的描述。因此，下面僅通過(guò)參考圖描述示例性實(shí)施例來(lái)解釋本說(shuō)明書的方面。如本文所使用的，用語(yǔ)“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)聯(lián)的所列項(xiàng)目的任意和所有組合。當(dāng)諸如“中的至少一個(gè)”的表述在一列元件之后時(shí)，其修飾整列元件，而不是修飾該列的單個(gè)元件。

發(fā)明構(gòu)思可以包括各種實(shí)施例和變型，其示例性實(shí)施例被示出在圖中，并且將在本文中被詳細(xì)描述。發(fā)明構(gòu)思及其實(shí)現(xiàn)方法的效果和特征將從結(jié)合附圖對(duì)示例性實(shí)施例的以下描述變得顯而易見。然而，發(fā)明構(gòu)思不限于下面描述的示例性實(shí)施例，而是可以以各種方式來(lái)體現(xiàn)。

在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述示例性實(shí)施例。在以下描述中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件，其重復(fù)描述將被省略。

將理解，盡管在本文中可以使用用語(yǔ)“第一”、“第二”等來(lái)描述各部件，但是這些部件不應(yīng)該受這些用語(yǔ)的限制。這些用語(yǔ)僅被用于將一個(gè)部件和另一部件區(qū)分開。

如本文所使用的，單數(shù)形式的“一”、“一個(gè)”和“該”意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另外明確指出。

進(jìn)一步將理解，本文使用的用語(yǔ)“包含”、“包括”和“具有”明確說(shuō)明存在所述特征或部件，但不排除存在或增加一個(gè)或多個(gè)其它特征或部件。

將理解，當(dāng)層、區(qū)域或部件被稱為“被形成在”另一層、區(qū)域或部件“上”時(shí)，它可以被直接或間接地形成在另一層、區(qū)域或部件上。也就是說(shuō)，例如，可以存在中間層、區(qū)域或部件。

為了便于描述，圖中元件的尺寸可能被夸大。換言之，由于為了便于描述而任意示出圖中元件的尺寸和厚度，所以以下實(shí)施例不限于此。

在以下示例中，x軸、y軸和z軸不限于直角坐標(biāo)系的三個(gè)軸，可以以更廣泛的含義進(jìn)行解釋。例如，x軸、y軸和z軸可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。

當(dāng)某個(gè)實(shí)施例可以不同地實(shí)施時(shí)，具體的過(guò)程順序可以和所描述的順序不同地進(jìn)行。例如，兩個(gè)連續(xù)描述的過(guò)程可以基本上同時(shí)進(jìn)行，或者以和所描述的順序相反的順序進(jìn)行。

圖1是根據(jù)一示例性實(shí)施例的顯示裝置制造裝置的局部透視圖。圖2是圖1所示的部分A的放大透視圖。圖3是示出基底被安置在圖2所示的基底對(duì)準(zhǔn)單元上的狀態(tài)的主視圖。圖4是圖3所示的基底對(duì)準(zhǔn)單元的側(cè)視圖。圖5是示出圖1所示的顯示裝置制造裝置的控制流程的框圖。

參見圖1至圖5，顯示裝置制造裝置100可以包括室111、閘閥112、對(duì)準(zhǔn)單元120、卡盤單元130、反轉(zhuǎn)單元140、激光照射單元150、線性驅(qū)動(dòng)單元160、基底固定單元130a、異物吸入單元170和照相機(jī)單元180。

室111可以具有開口，基底211可以通過(guò)該開口被裝載到室111中或從室111中卸下。閘閥112可被安裝在開口處，以打開和關(guān)閉開口，以便裝載或卸下基底211。

室111在其底表面可以具有窗111a。窗111a可以由透明材料形成，以傳送光或激光。

卡盤單元130可以被配置為固定或松開基底211?？ūP單元130可以包括固定地安裝在反轉(zhuǎn)單元140的主體部分131。主體部分131可具有被形成在其中的空間，并且卡盤板132可以被設(shè)置在該空間中。

另外，卡盤單元130可以包括安裝在主體部分131以固定或松開基底211的卡盤板132?？ūP板132可以是靜電卡盤。詳細(xì)地，卡盤板132可以是靜電電荷(ESC)卡盤。另外，可以提供多個(gè)卡盤板132，并且該多個(gè)卡盤板132可被設(shè)置為彼此隔開。

基底固定單元130a可以被形成在卡盤單元130上以固定基底211。在一實(shí)施例中，基底固定單元130a可以被安裝在主體部分131?；坠潭▎卧?30a可以被 安裝為從主體部分131伸出。當(dāng)不向卡盤板132供電或者其中發(fā)生故障時(shí)，基底固定單元130a可以通過(guò)物理力固定基底211。例如，基底固定單元130a可通過(guò)壓住基底211的兩側(cè)來(lái)固定基底211。作為另一示例，基底固定單元130a可以通過(guò)粘附來(lái)固定基底211。作為另一示例，基底固定單元130a可以通過(guò)形成為插入基底211的側(cè)部來(lái)固定基底211。為了便于描述，以下描述將集中在基底固定單元130a通過(guò)物理力固定基底211的情況。

對(duì)準(zhǔn)單元120可以被安裝為與卡盤單元130相鄰以將基底211對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)單元120可以在基底211被安置在其上之后被預(yù)對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)單元120可以包括安裝在卡盤單元130并被設(shè)置為彼此隔開的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分121。對(duì)準(zhǔn)部分121可以包括由操作升降器122操作的傳遞部分121a以及被連接到傳遞部分121a以推壓基底211的邊緣的輥部分121b。傳遞部分121a可以由多個(gè)連桿形成，以在操作升降器122被提升并附著到其時(shí)將操作升降器122的力傳遞到輥部分121b。另外，輥部分121b可以包括被設(shè)置成彼此隔開的多個(gè)輥。因此，當(dāng)傳遞部分121a的力被施加到輥部分121b時(shí)，輥部分121b可以通過(guò)使多個(gè)輥彼此接近并推壓基底211的邊緣來(lái)將基底211對(duì)準(zhǔn)。

另外，對(duì)準(zhǔn)單元120可以包括操作升降器122，其可以被提升和降低以操作多個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分121中的每個(gè)?？梢蕴峁┒鄠€(gè)操作升降器122，并且該多個(gè)操作升降器122可被安裝為分別對(duì)應(yīng)于多個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分121。另外，操作升降器122可包括當(dāng)驅(qū)動(dòng)部分124操作時(shí)被提升和降低的升降器主體部分122a以及被連接到升降器主體部分122a以接觸傳遞部分121a的接觸部分122b。

當(dāng)驅(qū)動(dòng)部分124操作時(shí)，升降器主體部分122a可以被提升和降低。當(dāng)升降器主體部分122a被提升和降低時(shí)，接觸部分122b可以接觸并推壓傳遞部分121a，或者可以與傳遞部分121a分離。

對(duì)準(zhǔn)單元120可以包括距離控制升降器123，該距離控制升降器123可被提升和降低，以控制基底211和卡盤單元130之間的距離。距離控制升降器123可被設(shè)置為穿過(guò)卡盤單元130。另外，可以提供多個(gè)距離控制升降器123，并且該多個(gè)距離控制升降器123可被設(shè)置成彼此隔開。

對(duì)準(zhǔn)單元120可以包括驅(qū)動(dòng)部分124，該驅(qū)動(dòng)部分124被連接到操作升降器122和距離控制升降器123以提升和降低操作升降器122和距離控制升降器123。驅(qū)動(dòng)部分124可以包括電動(dòng)機(jī)、通過(guò)皮帶或齒輪被連接到電動(dòng)機(jī)以旋轉(zhuǎn)的滾珠螺桿、和被連接到滾珠螺桿并根據(jù)電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)被提升和降低的升/降框架。升/降框架可以被連接到操作升降器122和距離控制升降器123。

驅(qū)動(dòng)部分124不限于此，在其它示例性實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)部分124可以包括被連接到操作升降器122和距離控制升降器123的汽缸、電動(dòng)機(jī)和齒輪單元。

反轉(zhuǎn)單元140可以包括托架141，托架141被固定地安裝在線性驅(qū)動(dòng)單元160并具有形成在其中的空間以使卡盤單元130被樞轉(zhuǎn)地安裝。反轉(zhuǎn)單元140可以包括固定地安裝在托架141以產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142。另外，反轉(zhuǎn)單元140可以包括連接到驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142以使驅(qū)動(dòng)力在傳送之前減速的減速部分143。減速部分143可減小由驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的旋轉(zhuǎn)頻率，并使驅(qū)動(dòng)力的扭矩在向外部傳送之前增加。在一實(shí)施例中，反轉(zhuǎn)單元140可以包括設(shè)置在托架141中以產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142。

反轉(zhuǎn)單元140可以被連接到卡盤單元130以反轉(zhuǎn)卡盤單元130。反轉(zhuǎn)單元140可以包括旋轉(zhuǎn)軸145，旋轉(zhuǎn)軸145被固定地安裝在卡盤單元130并被能旋轉(zhuǎn)地安裝在托架141。旋轉(zhuǎn)軸145可以被連接到減速部分143。因此，當(dāng)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142操作時(shí)，旋轉(zhuǎn)軸145可以被旋轉(zhuǎn)。

傳感器單元130b可被安裝在反轉(zhuǎn)單元140上?？梢蕴峁┒鄠€(gè)傳感器單元130b，并且該多個(gè)傳感器單元130b中的每個(gè)可被設(shè)置在基底211的邊緣部分上。多個(gè)傳感器單元130b中的每個(gè)可檢測(cè)基底211的邊緣部分，以確定基底211是否已到達(dá)正常位置。

激光照射單元150可以被安裝在室111的外部。激光照射單元150可以被設(shè)置成照射基底211的非顯示區(qū)(未示出)。另外，激光照射單元150可通過(guò)窗111a向基底211照射激光。

可以提供多個(gè)激光照射單元150，每個(gè)激光照射單元150可以照射線性激光。另外，多個(gè)激光照射單元150可以被設(shè)置為對(duì)應(yīng)于基底211的非顯示區(qū)。

線性驅(qū)動(dòng)單元160可被連接到卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140。線性驅(qū)動(dòng)單元160可以線性移動(dòng)卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140。

線性驅(qū)動(dòng)單元160可以包括連接到卡盤單元130的連桿部分161以及配置為改變連桿部分161的長(zhǎng)度的線性驅(qū)動(dòng)部分162。另外，線性驅(qū)動(dòng)單元160可以包括線性引導(dǎo)部分163，線性引導(dǎo)部分163被配置成引導(dǎo)卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140的線性運(yùn)動(dòng)或者線性地移動(dòng)卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140。

連桿部分161可包括連接到卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140中的至少一個(gè)的第一連桿161a以及能旋轉(zhuǎn)地安裝的第二連桿161b。另外，線性驅(qū)動(dòng)部分162可以包括連接到第二連桿161b以改變第二連桿161b的位置的機(jī)械臂、電動(dòng)機(jī)或汽缸。為了便于描述，以下描述將集中在線性驅(qū)動(dòng)部分162包括機(jī)械臂的情況。

線性引導(dǎo)部分163可以被形成為各種形狀。例如，線性引導(dǎo)部分163可包括一般的線性電動(dòng)機(jī)。作為另一示例，線性引導(dǎo)部分163可以包括滾珠螺桿、沿滾珠螺桿移動(dòng)的塊、使?jié)L珠螺桿旋轉(zhuǎn)的電動(dòng)機(jī)以及引導(dǎo)反轉(zhuǎn)單元140的線性運(yùn)動(dòng)引導(dǎo)件。作為另一示例，線性引導(dǎo)部分163可以包括連接到反轉(zhuǎn)單元140以具有可變長(zhǎng)度的汽缸以及對(duì)反轉(zhuǎn)單元140的線性運(yùn)動(dòng)進(jìn)行引導(dǎo)的線性運(yùn)動(dòng)引導(dǎo)件。為了便于描述，以下描述將集中在線性引導(dǎo)部分163包括線性運(yùn)動(dòng)引導(dǎo)件的情況。

異物吸入單元170可以被設(shè)置在激光照射單元150被設(shè)置的部分。異物吸入單元170可以被設(shè)置在卡盤單元130下方，以吸入在激光照射單元150照射激光時(shí)產(chǎn)生的異物。

異物吸入單元170可以包括配置成吸入異物的噴嘴171、連接到噴嘴171的異物引導(dǎo)管172以及安裝在異物引導(dǎo)管172的異物吸入泵173。噴嘴171可被形成為各種形狀。例如，噴嘴171可被形成為圓形形狀(環(huán)形形狀)或橢圓形形狀。作為另一示例，噴嘴171可被形成為直線形狀。作為另一示例，噴嘴171可被形成為多邊形形狀。當(dāng)噴嘴171被形成為圓形形狀、橢圓形形狀或多邊形形狀時(shí)，噴嘴171的中心部分可以被形成為傳送激光，并且其外周部分可以被形成為吸入異物。

類似于激光照射單元150，照相機(jī)單元180可被設(shè)置在外部。照相機(jī)單元180可拍攝基底211，以檢測(cè)基底211的位置。

除了上述部件，顯示裝置制造裝置100可以包括控制各個(gè)部件的控制單元190以及控制室111的內(nèi)部壓力的壓力控制單元113?？刂茊卧?90可以是一般的個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)、筆記本電腦或便攜式終端，控制單元190和各個(gè)部件之間的通信可以通過(guò)線進(jìn)行或者無(wú)線地進(jìn)行。另外，壓力控制單元113可以包括被連接到室111的連接管113a以及被安裝在連接管113a的真空泵113b。

關(guān)于顯示裝置制造裝置100的操作，每層可以被形成在基底211上，然后顯示部分(未示出)可以被形成在基底211上。顯示部分被形成在其中的區(qū)域可以被定義為顯示區(qū)(未示出)，顯示部分未被形成在其中的區(qū)域可被定義為非顯示區(qū)。

在將顯示部分(特別是有機(jī)發(fā)光器件)形成在基底211上之后，基底211可通過(guò)機(jī)械臂(未圖示)被供應(yīng)到顯示裝置制造裝置100。

當(dāng)基底211如上那樣被供應(yīng)時(shí)，控制單元190可以打開閘閥112。在這種情況下，室111的內(nèi)部可以處于大氣狀態(tài)。

當(dāng)基底211被裝載到室111內(nèi)時(shí)，基底211被反轉(zhuǎn)，以使顯示部分(未示出) 面對(duì)室111的底表面。并且控制單元190可以控制驅(qū)動(dòng)部分124，以提升操作升降器122和距離控制升降器123。在這種情況下，操作升降器122可接觸并操作對(duì)準(zhǔn)部分121，并且距離控制升降器123可以支撐基底211。

當(dāng)操作升降器122接觸對(duì)準(zhǔn)部分121時(shí)，接觸部分122b可以推壓傳遞部分121a。在這種情況下，傳遞部分121a可以通過(guò)移動(dòng)輥部分121b并使輥彼此接近來(lái)推壓基底211的邊緣部分。特別地，每個(gè)對(duì)準(zhǔn)部分121可以被安裝在基底211的邊緣部分，以推壓基底211的邊緣部分，由此將基底211對(duì)準(zhǔn)。

此后，控制單元190可以控制驅(qū)動(dòng)部分124，以降低操作升降器122和距離控制升降器123。在這種情況下，基底211可以被安置在卡盤板132上。

在上述操作期間，傳感器單元130b可以檢測(cè)基底211的邊緣部分，并向控制單元190傳送檢測(cè)結(jié)果值。在這種情況下，基于傳感器單元130b的檢測(cè)結(jié)果值，控制單元190可確定基底211的位置是否被對(duì)準(zhǔn)。

當(dāng)確定基底211的位置被對(duì)準(zhǔn)時(shí)，控制單元190可以向卡盤板132供電，以將基底211固定到卡盤板132。由于通過(guò)卡盤板132固定基底211的方法與通過(guò)一般的靜電卡盤固定基底的方法相同或相似，所以其詳細(xì)描述將被省略。

當(dāng)上述操作完成時(shí)，控制單元190可以操作驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142，以旋轉(zhuǎn)卡盤板132。在這種情況下，由驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生部分142產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力可以通過(guò)減速部分143被傳遞到旋轉(zhuǎn)軸145，并且旋轉(zhuǎn)軸145可被旋轉(zhuǎn)，以旋轉(zhuǎn)卡盤板132。

在這種情況下，為了得到卡盤板132的旋轉(zhuǎn)半徑，控制單元190可以控制驅(qū)動(dòng)部分124以將操作升降器122和距離控制升降器123降低到卡盤單元130之下。

在卡盤板132旋轉(zhuǎn)期間或之后，控制單元190可以操作線性驅(qū)動(dòng)單元160，以將基底211移動(dòng)到設(shè)置激光照射單元150的地方。在這種情況下，照相機(jī)單元180可以捕獲基底211的圖像，并將所捕獲的圖像傳送到控制單元190。

基于所捕獲的基底211的圖像，控制單元190可以確定激光照射單元150和基底211的位置是否對(duì)應(yīng)于預(yù)定位置?；诖_定結(jié)果，控制單元190可以操作線性驅(qū)動(dòng)單元160，以改變基底211的位置，以將基底211和激光照射單元150對(duì)準(zhǔn)。

當(dāng)上述操作完成時(shí)，激光照射單元150可以向非顯示區(qū)照射激光,并且當(dāng)激光照射單元150照射激光時(shí)，室111的內(nèi)部處于真空狀態(tài)。在這種情況下，當(dāng)所述激光照射單元150向基底211照射激光時(shí)，控制單元190可以控制線性驅(qū)動(dòng)單元160以恒定的速度移動(dòng)卡盤單元130和反轉(zhuǎn)單元140，由此以恒定的速度(勻速)移動(dòng)基底211。

當(dāng)如上那樣照射激光時(shí)，可以移除在有機(jī)發(fā)光器件的沉積中被沉積在非顯示 區(qū)中的有機(jī)材料。在這種情況下，控制單元190可以操作異物吸入泵173以排出由于激光照射產(chǎn)生的顆?；驓怏w。

此后，當(dāng)上述操作完成時(shí)，基底211可以被移動(dòng)到初始位置，被反轉(zhuǎn)，并且通過(guò)機(jī)械臂等從室111移出。此外，當(dāng)上述操作完成時(shí)，密封劑可被涂覆到基底211的非顯示區(qū)，并且顯示部分可以由封裝基底(未示出)密封。

因此，顯示裝置制造裝置100可以通過(guò)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)快速并準(zhǔn)確地移除有機(jī)材料。

另外，通過(guò)使在移除有機(jī)材料的過(guò)程中由照射激光產(chǎn)生的諸如顆粒的異物落下，或者通過(guò)將異物通過(guò)異物吸入單元170排出到外部，顯示裝置制造裝置100可以使在移除有機(jī)材料的過(guò)程中產(chǎn)生的對(duì)顯示部分和基底211的污染最小。

此外，通過(guò)從涂覆密封劑的部分有效地移除諸如有機(jī)材料的異物，顯示裝置制造裝置100可以增加密封劑的粘合力和封裝基底的密封力。

圖6是由圖1中示出的顯示裝置制造裝置制造的顯示裝置的示意圖。圖7是圖6中示出的顯示裝置的局部剖視圖。

參見圖6和圖7，顯示裝置200可以包括基底211和顯示部分E。另外，顯示裝置200可以包括形成在顯示部分E上的封裝基底212。由于封裝基底212和一般的顯示裝置中使用的封裝基底相同或相似，所以其詳細(xì)描述將被省略。

顯示裝置200可以包括形成在基底211和封裝基底212之間的密封劑213。由于密封劑213與附接基底211和封裝基底212以密封顯示部分E的一般的密封劑相同或相似，所以其詳細(xì)說(shuō)明將被省略。

顯示裝置200可以包括設(shè)置在基底211和封裝基底212之間的吸氣劑214。由于吸氣劑214與吸入水分或氧氣的一般材料相同或相似，所以其詳細(xì)說(shuō)明將被省略。

顯示裝置200可以包括顯示部分E被形成在其中的顯示區(qū)DA以及顯示部分E未被形成在其中的非顯示區(qū)NDA。

顯示部分E可以被形成在基底211上。顯示部分E可包括薄膜晶體管TFT。鈍化層270可以被形成為覆蓋薄膜晶體管TFT，并且有機(jī)發(fā)光器件280可以被形成在鈍化層270上。

基底211可以由玻璃材料形成。然而，示例性實(shí)施例不限于此，并且基底211也可以由塑料材料或者諸如不銹鋼(SUS)或鈦(Ti)的金屬材料形成。另外，基底211可以由聚酰亞胺(PI)形成。為了便于描述，以下描述將集中在基底211由玻璃材料形成的情況。

緩沖層220可以被形成在基底211上。緩沖層220可以由有機(jī)化合物和/或諸如SiO_x(x≥1)或SiN_x(x≥1)的無(wú)機(jī)化合物形成。

以預(yù)定圖案布置的有源層230可被形成在緩沖層220上，然后有源層230可由柵絕緣層240覆蓋。有源層230可以包括源區(qū)231、漏區(qū)233和設(shè)置在源區(qū)231和漏區(qū)233之間的溝道區(qū)232。

有源層230可以包括各種材料。例如，有源層230可以包括諸如非晶硅或晶體硅的無(wú)機(jī)半導(dǎo)體材料。作為另一示例，有源層230可以包括氧化物半導(dǎo)體材料。作為另一示例，有源層230可以包括有機(jī)半導(dǎo)體材料。為了便于描述，以下描述將集中在有源層230由非晶硅形成的情況。

有源層230可通過(guò)在緩沖層220上形成非晶硅層、將非晶硅層晶化為多晶硅層、并圖案化多晶硅層而形成。取決于TFT的類型，諸如驅(qū)動(dòng)TFT(未示出)和開關(guān)TFT(未示出)，有源層230的源區(qū)231和漏區(qū)233可以被摻雜有摻雜劑。

對(duì)應(yīng)于有源層230的柵電極250和覆蓋柵電極250的層間絕緣層260可以被形成在柵絕緣層240上。

接觸孔H1可以被形成在層間絕緣層260和柵絕緣層240中，然后源電極271和漏電極272可以被形成在層間絕緣層260上，以分別接觸源區(qū)231和漏區(qū)233。

鈍化層270可以被形成在所得到的薄膜晶體管TFT上，有機(jī)發(fā)光器件280的像素電極281可以被形成在鈍化層270上。像素電極281通過(guò)形成在鈍化層270中的通孔H2接觸薄膜晶體管TFT的漏電極272。鈍化層270可以包括由無(wú)機(jī)材料和/或有機(jī)材料形成的單層或者兩層或更多層。鈍化層270可以被形成為平坦化層，以便不管下層的曲率如何均具有被平坦化的頂表面，或者沿著下層的彎曲部分可以被形成為彎曲的。另外，鈍化層270可以由透明絕緣體形成，以實(shí)現(xiàn)共振效應(yīng)。

在像素電極281被形成在鈍化層270上之后，像素限定層290可以由有機(jī)材料和/或無(wú)機(jī)材料形成，以覆蓋像素電極281和鈍化層270，并且可以被開口以暴露像素電極281。

然后，中間層282和相對(duì)電極283可以被至少形成在像素電極281上。

像素電極281可以用作陽(yáng)極電極，相對(duì)電極283可以用作陰極電極。此外，像素電極281可以用作陰極電極，相對(duì)電極283可以用作陽(yáng)極電極。

像素電極281和相對(duì)電極283可通過(guò)中間層282被絕緣，不同極性的電壓可以被施加到中間層282，以使有機(jī)發(fā)射層發(fā)射光。

中間層282可以包括有機(jī)發(fā)射層。作為另一示例，中間層282可以包括有機(jī)發(fā)射層，并且可以進(jìn)一步包括空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子傳 輸層(ETL)和電子注入層(EIL)中的至少一個(gè)。

單位像素P可以包括可以發(fā)射不同顏色光的多個(gè)子像素R、G和B。例如，多個(gè)子像素R、G和B可以包括發(fā)射紅色光、綠色光和藍(lán)色光的子像素R、G和B，或者發(fā)射紅色光、綠色光、藍(lán)色光和白色光的子像素(未示出)。

多個(gè)子像素R、G和B可以包括中間層282，中間層282包括發(fā)射不同顏色的光的有機(jī)發(fā)射層。例如，多個(gè)子像素R、G和B可以包括中間層282，中間層282包括發(fā)射紅色光、綠色光和藍(lán)色光的有機(jī)發(fā)射層。

在形成有機(jī)發(fā)光器件280之后，顯示裝置制造裝置100可以通過(guò)激光從非顯示區(qū)NDA移除諸如有機(jī)材料的異物。

因此，通過(guò)從非顯示區(qū)NDA有效地移除諸如有機(jī)材料的異物、向非顯示區(qū)NDA涂覆密封劑213、然后由封裝基底212密封所得到的結(jié)構(gòu)，顯示裝置200的壽命可以增加。

如上所述，根據(jù)上述示例性實(shí)施例中的一個(gè)或多個(gè)，顯示裝置的電特性可以被改進(jìn)。

應(yīng)當(dāng)理解，本文所描述的示例性實(shí)施例應(yīng)當(dāng)僅以描述性的含義被考慮，而不應(yīng)當(dāng)被用于限制的目的。對(duì)每個(gè)示例性實(shí)施例中的特征或方面的描述通常應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為可用于其它示例性實(shí)施例中的其它類似特征或方面。

盡管已經(jīng)參考圖描述了一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施例，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將會(huì)理解，在不脫離由以下權(quán)利要求書限定的發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍的情況下，可以進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種改變。