T形eh面支節(jié)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公布了一種T形EH面支節(jié)，包括耦合腔，端口A、端口B、端口C，過(guò)渡腔和至少一個(gè)一級(jí)、兩級(jí)或多級(jí)的匹配段。該匹配段的一端與耦合腔或過(guò)渡腔相連，另一端與端口A或端口B或端口C相連。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了緊湊型寬帶波導(dǎo)功分器，特別是其端口A的中心處的電場(chǎng)方向與兩個(gè)輸出端中心處的電場(chǎng)方向可以扭轉(zhuǎn)90度，同時(shí)兩個(gè)輸出端的信號(hào)的相位差可以在寬帶范圍內(nèi)保持在180度。本發(fā)明的T形EH面支節(jié)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，可以方便地與其它微波元器件作為一體一次性加工完成，可以成為集成波導(dǎo)系統(tǒng)的重要元器件。本發(fā)明具有高達(dá)41%的相對(duì)作帶寬，輸出端之間幅相精度高、輸入輸出極化方向旋轉(zhuǎn)和輸出端之間實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確180度相位差等特點(diǎn)。
【專利說(shuō)明】T形EH面支節(jié)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種功分器，具體地說(shuō)，是涉及一種幅度和相位一致性好的緊湊型寬 帶功率分配器。

【背景技術(shù)】
[0002] 功分器是現(xiàn)代微波通信和軍事電子系統(tǒng)中的一種通用元件。T形分支由于其功率 容量高、插入損耗低等特點(diǎn)，應(yīng)用十分廣泛。T形分支既可以單獨(dú)使用，也可以通過(guò)串接構(gòu) 成多路功分網(wǎng)絡(luò)，用于相控陣?yán)走_(dá)、天線陣以及功率合成等領(lǐng)域。T形分支可以為各種傳輸 線形式，但以波導(dǎo)T形支節(jié)最為普遍。已有的波導(dǎo)T形支節(jié)主要包括E面T形分支和Η面 Τ形分支。這些波導(dǎo)Τ形支節(jié)存在以下不足：1)帶寬不足。市場(chǎng)上的波導(dǎo)Ε面Τ形分支和 波導(dǎo)Η面Τ形分支的相對(duì)工作帶寬普遍在15%左右。2)極化方向限制，市場(chǎng)上的波導(dǎo)Ε面 Τ形分支和波導(dǎo)Η面Τ形分支的端口 Α和端口 Β，端口 Α和端口 C的中心處的電場(chǎng)方向都是 相互平行的，無(wú)法讓輸出電場(chǎng)方向在輸入電場(chǎng)方向的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)。3)相位限制，市場(chǎng)上 的E面T形波導(dǎo)分支和Η面T形波導(dǎo)分支的端口 B和端口 C的相位之間無(wú)法在全相對(duì)工作 帶寬內(nèi)實(shí)現(xiàn)180度的相位差。4)小型化限制，已有技術(shù)無(wú)法在很小的空間內(nèi)對(duì)端口 Α進(jìn)行 良好的全帶寬匹配。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在于提供幅度和相位一致性好，輸入輸出極化方向可實(shí)現(xiàn)90°旋 轉(zhuǎn)，兩個(gè)輸出端相位差可為180度，相對(duì)工作帶寬可以達(dá)到30%以上的緊湊型寬帶T形 面支節(jié)功率分配器。
[0004] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下： T形面支節(jié)，包括耦合腔，端口 A、端口 B、端口 C，和過(guò)渡腔，其特征在于，還包括至 少一個(gè)一級(jí)或兩級(jí)或多級(jí)的匹配段，該匹配段的一端與耦合腔相連，該匹配段的另一端與 端口 A或端口 B或端口 C相連。
[0005] 為了使輸入波導(dǎo)的極化方向在輸入波導(dǎo)極化方向的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)90度旋轉(zhuǎn)，所述 端口 A的中心處的電場(chǎng)方向在水平面內(nèi)，而端口 B和端口 C的中心處的電場(chǎng)方向與水平面 內(nèi)垂直。
[0006] 為了改善端口 A作為輸入端時(shí)，該T形E面支節(jié)在寬帶范圍內(nèi)的匹配，各匹配段的 寬度按如下方式設(shè)置：端口 A為輸入端，端口 A通過(guò)匹配段和過(guò)渡腔與耦合腔相連；對(duì)于與 端口 A相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接過(guò)渡腔中某一點(diǎn)和端口 A上另一點(diǎn)的 一條線段AX，該與端口 A相連的匹配段和端口 A在垂直于線段AX的某一平面內(nèi)的最大深度 沿從過(guò)渡腔到端口 A的方向不變或單調(diào)增大；端口 B通過(guò)匹配段和耦合腔相連，對(duì)于與端 口 B相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔中某一點(diǎn)和端口 B上另一點(diǎn)的一 條線段BY，該與端口 B相連的匹配段和端口 B在垂直于線段BY的某一平面內(nèi)的最大寬度沿 從耦合腔到端口 B的方向不變或單調(diào)變大；端口 C通過(guò)匹配段和耦合腔相連，對(duì)于與端口 C 相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔中某一點(diǎn)和端口 C上另一點(diǎn)的一條線 段CZ，該與端口 C相連的匹配段和端口 C在垂直于線段CZ的某一平面內(nèi)的最大寬度沿從耦 合腔到端口 C的方向不變或單調(diào)變大。
[0007] 為了改善端口 A作為輸入端時(shí)，該T形E面支節(jié)在寬帶范圍內(nèi)的匹配，各匹配段的 深度按如下方式設(shè)置：端口 A為輸入端，端口 A通過(guò)匹配段和過(guò)渡腔與耦合腔相連；對(duì)于與 端口 A相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接過(guò)渡腔中某一點(diǎn)和端口 A上另一點(diǎn)的 一條線段AX，該與端口 A相連的匹配段和端口 A在垂直于線段AX的某一平面內(nèi)的最大深度 沿從過(guò)渡腔到端口 A的方向不變或單調(diào)增大；端口 B通過(guò)匹配段和耦合腔相連，對(duì)于與端 口 B相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔中某一點(diǎn)和端口 B上另一點(diǎn)的一 條線段BY，該與端口 B相連的匹配段和端口 B在垂直于線段BY的某一平面內(nèi)的最大深度沿 從耦合腔到端口 B的方向不變或單調(diào)變大；端口 C通過(guò)匹配段和耦合腔相連，對(duì)于與端口 C 相連的匹配段，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔中某一點(diǎn)和端口 C上另一點(diǎn)的一條線 段CZ，該與端口 C相連的匹配段和端口 C在垂直于線段CZ的某一平面內(nèi)的最大深度沿從耦 合腔到端口 C的方向不變或單調(diào)變大。
[0008] 為了進(jìn)一步改善端口 A作為輸入端時(shí)該器件的匹配并拓展相對(duì)工作帶寬，在與端 口 B或端口 C相連的匹配段上設(shè)置有只與該匹配段的地面連接的金屬體。
[0009] 所述T形面支節(jié)內(nèi)部由空氣填充。為了器件的小型化，我們也可以使所述T形 面支節(jié)內(nèi)部由其它介質(zhì)填充。耦合腔和所有匹配段的總和結(jié)構(gòu)為結(jié)構(gòu)Q，結(jié)構(gòu)Q在三維 空間中的最大尺寸小于在無(wú)限大的該填充介質(zhì)中該T形EH面支節(jié)中心工作頻率對(duì)應(yīng)的波 長(zhǎng)的2. 5倍。
[0010] 為了便于利用普通數(shù)控銑床加工，便于該器件與其它微波器件的集成，該τ形 面支節(jié)的所有部分，包括耦合腔、端口 A、端口 B、端口 C、過(guò)渡腔和所有匹配段的上表面都為 同一個(gè)平面的一部分。這樣，該T形面支節(jié)和其它相連的微波器件可以分為底座和蓋板 加工完成。其中底座和蓋板之間沒(méi)有很高的對(duì)位要求。
[0011] 為了在兩個(gè)輸出端之間實(shí)現(xiàn)良好的幅度和相位一致性，該τ形面支節(jié)的所有部 分，包括耦合腔、端口 A、端口 B、端口 C、過(guò)渡腔和所有匹配段構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。即與端口 A連接的匹配段為鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)，其對(duì)稱平面為對(duì)稱平面X。該T形面支節(jié)的所有部分， 包括耦合腔、端口 A、端口 B、端口 C、過(guò)渡腔和所有匹配段相對(duì)于對(duì)稱平面X構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié) 構(gòu)。具體地講，耦合腔、過(guò)渡腔和端口A以對(duì)稱平面X為對(duì)稱面而自身成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。端 口 B以對(duì)稱平面X為對(duì)稱面與端口 C構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。連接端口 B的匹配段以對(duì)稱平 面X為對(duì)稱面與連接端口 C的匹配段構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。
[0012] 該T形面支節(jié)的端口 A、端口 B、端口 C可以分別為矩形波導(dǎo)、圓波導(dǎo)、脊波導(dǎo)、 基片集成波導(dǎo)或帶線中的任意一種。
[0013] 該T形面支節(jié)的端口 A的法線方向與端口 B或/和端口 C的法線方向之間的 夾角大于60度并小于120度，以90度最為常見(jiàn)。為了進(jìn)一步拓展該T形Η面支節(jié)的相對(duì) 工作帶寬，在所述耦合腔的與端口 Α相對(duì)的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有金屬柱，即耦合腔存在與端口 A 相對(duì)的內(nèi)側(cè)壁A，內(nèi)側(cè)壁A上設(shè)置有金屬柱?；蛘叨丝?A的法線方向與端口 B或/和端口 C的法線方向之間的夾角大于150度并小于210度，以180度最為常見(jiàn)。
[0014] 本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)緊湊T形面支節(jié)。其中，端口 A在寬帶范圍內(nèi)可以實(shí)現(xiàn) 良好匹配，端口 A和端口 B之間，端口 A和端口 C之間的極化方向可以旋轉(zhuǎn)90°。當(dāng)端口 B和端口 C都彎曲朝向同一個(gè)方向時(shí)，它們的信號(hào)之間的相位差為180°。由于該T形Ε? 面支節(jié)可以分為底座和蓋板，分別采用普通數(shù)控銑床一次性加工完成，在相互串接構(gòu)成多 路功分網(wǎng)絡(luò)時(shí)，所有電路都可以分為底座和蓋板，分別采用普通數(shù)控銑床一次性加工完成， 由此可以大大簡(jiǎn)化加工，同時(shí)更好地保證加工精度。與已有的Η面或E面T形分支相比， 該發(fā)明在相對(duì)工作帶寬、端口 Α匹配、端口 Α和端口 Β，端口 Α和端口 C極化方向旋轉(zhuǎn)90°、 兩個(gè)輸出端之間的相位差為180度等方面特點(diǎn)明顯。
[0015] 本發(fā)明的工作原理可以簡(jiǎn)述如下：當(dāng)微波信號(hào)通過(guò)端口 A進(jìn)入到耦合腔中被分 為兩路后，由于傳輸過(guò)程中的不連續(xù)性，信號(hào)在端口 A將被反射。通過(guò)在耦合腔中設(shè)置特殊 的空腔結(jié)構(gòu)并在端口 A或/和輸出端設(shè)置匹配段引入額外反射，可以使端口 A的反射在寬 頻段內(nèi)被抵消，從而實(shí)現(xiàn)寬帶良好的匹配。本發(fā)明讓多個(gè)不連續(xù)性直接緊密連接，從而實(shí)現(xiàn) 寬頻段內(nèi)的T形面支節(jié)的端口 A的良好匹配。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016] 圖1為本發(fā)明的俯視示意圖 圖2為實(shí)施實(shí)例1的DD向剖視示意圖 圖3為實(shí)施實(shí)例2的俯視圖 圖4為實(shí)施實(shí)例2的沿端口 A法線方向相反的方向的示意圖 附圖中標(biāo)號(hào)對(duì)應(yīng)名稱：1-耦合腔，2-端口 A，3-端口 B，4-端口 C，11-匹配段，5-金屬 柱，6-金屬體，7-過(guò)渡腔。
[0017] 本說(shuō)明書(shū)中部分名詞規(guī)定如下： 水平面，也就是本文中的紙面。水平方向，也就是位于水平面內(nèi)的方向。垂直方向，也 就是與水平面垂直的方向。
[0018] 法線方向：是指垂直于端口 A或端口 B或端口 C端面遠(yuǎn)離T形面支節(jié)的方向。 圖中箭頭P表示各個(gè)端口的法線方向。
[0019] 任意三維結(jié)構(gòu)在三維空間中的最大尺寸：該三維結(jié)構(gòu)中任意兩點(diǎn)的距離的最大 值。
[0020] 鏡像對(duì)稱：對(duì)于任意三維封閉空間,存在一平面對(duì)稱平面X,對(duì)于該三維封閉空間 中的任意點(diǎn)A，總存在該三維封閉空間中的對(duì)應(yīng)點(diǎn)B，使得線段AB與該平面X垂直，而且 線段AB與平面X的交點(diǎn)將線段AB分為長(zhǎng)度相等的兩部分。這時(shí)，該三維封閉空間稱為鏡 像對(duì)稱，平面X稱為鏡像對(duì)稱平面。
[0021] 相對(duì)工作帶寬：如果一只微波器件的工作平率范圍從Π 到f2，其相對(duì)工作帶寬 確定為：【2*(f2-flV(f2+fl)】的絕對(duì)值。
[0022] 匹配段和端口在垂直于線段AX的某一平面內(nèi)的最大寬度：匹配段和端口與垂直 于線段AX的某一平面的截面圖形在水平方向上的寬度的最大值。
[0023] 匹配段和端口在垂直于線段AX的某一平面內(nèi)的最大深度：匹配段和端口與垂直 于線段AX的某一平面的截面圖形在垂直方向上的深度的最大值。

【具體實(shí)施方式】
[0024] 實(shí)施實(shí)例1 如圖1和2所示。T形HI面支節(jié)，包括耦合腔1，端口 A2、端口 B3、端口 C4、過(guò)渡腔7， 還包括3個(gè)1級(jí)的匹配段11。該匹配段11的一端與耦合腔1相連，該匹配段11的另一端 與端口 A2或端口 B3或端口 C4相連. 所述端口 A2的中心處的電場(chǎng)方向位于水平面內(nèi)，而端口 B3和端口 C4的中心處的電場(chǎng) 方向與水平面垂直。
[0025] 為了改善端口 A作為輸入端時(shí)，該T形E面支節(jié)在寬帶范圍內(nèi)的匹配，各匹配段的 寬度按如下方式設(shè)置：端口 A2為輸入端，端口 A2通過(guò)匹配段11和過(guò)渡腔7與耦合腔1相 連；對(duì)于與端口 A2相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接過(guò)渡腔7中某一點(diǎn)和端 口 A2上另一點(diǎn)的一條線段AX，該與端口 A2相連的匹配段11和端口 A2在垂直于線段AX的 某一平面內(nèi)的最大深度沿從過(guò)渡腔7到端口 A2的方向單調(diào)增大；端口 B3通過(guò)匹配段11和 耦合腔1相連，對(duì)于與端口 B3相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔1中 某一點(diǎn)和端口 B3上另一點(diǎn)的一條線段BY，該與端口 B3相連的匹配段11和端口 B3在垂直 于線段BY的某一平面內(nèi)的最大寬度沿從耦合腔1到端口 B3的方向單調(diào)變大；端口 C4通過(guò) 匹配段11和耦合腔1相連，對(duì)于與端口 C4相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接 耦合腔1中某一點(diǎn)和端口 C4上另一點(diǎn)的一條線段CZ，該與端口 C4相連的匹配段11和端口 C4在垂直于線段CZ的某一平面內(nèi)的最大寬度沿從耦合腔1到端口 C4的方向單調(diào)變大。
[0026] 為了改善端口 A作為輸入端時(shí)，該T形E面支節(jié)在寬帶范圍內(nèi)的匹配，各匹配段的 深度按如下方式設(shè)置：端口 A2為輸入端，端口 A2通過(guò)匹配段11和過(guò)渡腔7與耦合腔1相 連；對(duì)于與端口 A2相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接過(guò)渡腔7中某一點(diǎn)和端 口 A2上另一點(diǎn)的一條線段AX，該與端口 A2相連的匹配段11和端口 A2在垂直于線段AX的 某一平面內(nèi)的最大深度沿從過(guò)渡腔7到端口 A2的方向單調(diào)增大；端口 B3通過(guò)匹配段11和 耦合腔1相連，對(duì)于與端口 B3相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔1中 某一點(diǎn)和端口 B3上另一點(diǎn)的一條線段BY，該與端口 B3相連的匹配段11和端口 B3在垂直 于線段BY的某一平面內(nèi)的最大深度沿從耦合腔1到端口 B3的方向單調(diào)變大；端口 C4通過(guò) 匹配段11和耦合腔1相連，對(duì)于與端口 C4相連的匹配段11，存在一條位于水平面內(nèi)并連接 耦合腔1中某一點(diǎn)和端口 C4上另一點(diǎn)的一條線段CZ，該與端口 C4相連的匹配段11和端口 C4在垂直于線段CZ的某一平面內(nèi)的最大深度沿從耦合腔1到端口 C4的方向單調(diào)變大。
[0027] 為了進(jìn)一步改善端口 A作為輸入端時(shí)該器件的匹配并拓展相對(duì)工作帶寬，在與端 口 B3和端口 C4相連的匹配段11上各設(shè)置有2根只與該匹配段11的地面連接的金屬體6。
[0028] 所述T形面支節(jié)內(nèi)部由空氣介質(zhì)填充。耦合腔1、過(guò)渡腔7和所有匹配段11的 總和結(jié)構(gòu)為結(jié)構(gòu)Q。結(jié)構(gòu)Q在三維空間中的最大尺寸小于在無(wú)限大的該填充介質(zhì)中該T形 EH面支節(jié)中心工作頻率對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)的2. 5倍。
[0029] 該T形面支節(jié)的所有部分，包括耦合腔1、端口 A2、端口 B3、端口 C4、過(guò)渡腔7 和所有匹配段11的上表面都為同一個(gè)平面的一部分。
[0030] 與端口 A2連接的匹配段11為鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)，其對(duì)稱平面為X。該T形面支節(jié) 的所有部分，包括耦合腔1、端口 A2、端口 B3、端口 C4、過(guò)渡腔7和所有匹配段11相對(duì)于對(duì) 稱平面X構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。具體來(lái)講，耦合腔1、端口 A2和過(guò)渡腔7以對(duì)稱平面X為對(duì)稱 面而自身成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。端口 B3以對(duì)稱平面X為對(duì)稱面與端口 C4構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。 連接端口 B3的匹配段11以對(duì)稱平面X為對(duì)稱面與連接端口 C4的匹配段11構(gòu)成鏡像對(duì)稱 結(jié)構(gòu)。
[0031] 所述端口 A2、端口 B3、端口 C4都為矩形波導(dǎo)。
[0032] 該T形面支節(jié)的端口 A2的法線方向與端口 B3和端口 C4的法線方向之間的夾 角等于90度。在所述耦合腔的與端口 A相對(duì)的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有一根金屬柱5,即耦合腔存 在與端口 A相對(duì)的內(nèi)側(cè)壁A，內(nèi)側(cè)壁A上設(shè)置有金屬柱。如果將端口 B和端口 C都彎曲朝向 與端口 A2的法線方向相反的方向，端口 B和端口 C的信號(hào)之間的相位差為180°。
[0033] 實(shí)施實(shí)例2 如圖3和4所示。與實(shí)施實(shí)例1相比，該實(shí)施實(shí)例的區(qū)別僅在于，所述端口 A2的法線 方向與端口 B3和端口 C4的法線方向相反。同時(shí)，不需要將端口 B3和端口 C4做任何彎曲， 端口 B3和端口 C4信號(hào)的相位差已經(jīng)是180°。另外，該實(shí)施實(shí)例中沒(méi)有設(shè)置金屬柱5。
[0034] 上述僅為舉例，給出了本發(fā)明的一些較佳的實(shí)現(xiàn)方式。實(shí)際生產(chǎn)中，耦合腔1可 以為各種形狀的空腔，內(nèi)部還可以設(shè)置各種金屬凸臺(tái)或凹槽。
[0035] 本發(fā)明的T形面支節(jié)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊、高達(dá)30%的相對(duì)帶寬、加工調(diào)試成本 低、輸出端之間幅度和相位精度高等特點(diǎn)。它們既可以單獨(dú)被使用，更可以用于構(gòu)成多路功 分器。兩個(gè)輸出端朝向同一方向時(shí)，二者的信號(hào)之間的相位差為180度。特別是其準(zhǔn)平面 結(jié)構(gòu)，這些器件都可以分為底座和蓋板，分別采用普通數(shù)控銑床一次性加工完成，很好地保 證了器件的加工精度并大大降低加工成本。該器件可以廣泛用于雷達(dá)、導(dǎo)彈制導(dǎo)、通信等軍 事及民用領(lǐng)域。
【權(quán)利要求】
1. T形HI面支節(jié)，包括耦合腔（1)，端口 A (2)、端口 B (3)、端口 C (4)，和過(guò)渡腔（7)， 其特征在于，還包括至少一個(gè)一級(jí)或兩級(jí)或多級(jí)的匹配段（11)，該匹配段（11)的一端與端 口 A (2)或端口 B (3)或端口 C (4)相連，該匹配段（11)的另一端直接與耦合腔（1)相連 或通過(guò)過(guò)渡腔（7 )與耦合腔（1)相連； 所述端口 A (2)的中心處的電場(chǎng)方向在水平面內(nèi)，而端口 B (3)和端口 C (4)的中心 處的電場(chǎng)方向與水平面內(nèi)垂直；端口 A (2)通過(guò)匹配段（11)和過(guò)渡腔（7)與耦合腔（1)相 連；對(duì)于與端口 A (2)相連的匹配段（11)，存在一條位于水平面內(nèi)并連接過(guò)渡腔（7)中某一 點(diǎn)和端口 A (2)上另一點(diǎn)的一條線段AX，該與端口 A (2)相連的匹配段（11)和端口 A (2) 在垂直于線段ΑΧ的某一平面內(nèi)的最大深度沿從過(guò)渡腔（7)到端口 A (2)的方向不變或單 調(diào)增大；端口 B (3)通過(guò)匹配段（11)和耦合腔（1)相連，對(duì)于與端口 B (3)相連的匹配 段（11)，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔（1)中某一點(diǎn)和端口 B (3)上另一點(diǎn)的一條 線段BY，該與端口 B (3)相連的匹配段（11)和端口 B (3)在垂直于線段BY的某一平面內(nèi) 的最大寬度沿從耦合腔（1)到端口 B (3)的方向不變或單調(diào)變大；端口 C (4)通過(guò)匹配段 (11)和耦合腔（1)相連，對(duì)于與端口 C (4)相連的匹配段（11)，存在一條位于水平面內(nèi)并 連接耦合腔（1)中某一點(diǎn)和端口 C (4)上另一點(diǎn)的一條線段CZ，該與端口 C (4)相連的匹 配段（11)和端口 C (4)在垂直于線段CZ的某一平面內(nèi)的最大寬度沿從耦合腔（1)到端口 C (4)的方向不變或單調(diào)變大。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的T形面支節(jié)，其特征在于，端口 B (3)通過(guò)匹配段（11)和 耦合腔（1)相連，對(duì)于與端口 B (3)相連的匹配段（11)，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合 腔（1)中某一點(diǎn)和端口 B (3)上另一點(diǎn)的一條線段BY，該與端口 B (3)相連的匹配段（11) 和端口 B (3)在垂直于線段BY的某一平面內(nèi)的最大深度沿從耦合腔（1)到端口 B (3)的方 向不變或單調(diào)變大；端口 C (4)通過(guò)匹配段（11)和耦合腔（1)相連，對(duì)于與端口 C (4)相 連的匹配段（11)，存在一條位于水平面內(nèi)并連接耦合腔（1)中某一點(diǎn)和端口 C (4)上另一 點(diǎn)的一條線段CZ，該與端口 C (4)相連的匹配段（11)和端口 C (4)在垂直于線段CZ的某 一平面內(nèi)的最大深度沿從耦合腔（1)到端口 C (4)的方向不變或單調(diào)變大。
3. 根據(jù)權(quán)利要1所述的T形面支節(jié)，其特征在于，在與端口 B (3)或端口 C (4)相 連的匹配段（11)上設(shè)置有只與該匹配段（11)的地面連接的金屬體（6)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的T形面支節(jié)，其特征在于，所述T形面支節(jié)內(nèi)部由空氣 介質(zhì)或其它介質(zhì)填充；耦合腔（1)、過(guò)渡腔（7)與所有匹配段（11)的總和結(jié)構(gòu)為結(jié)構(gòu)Q，結(jié) 構(gòu)Q在三維空間中的最大尺寸小于在無(wú)限大的該填充介質(zhì)中該T形EH面支節(jié)中心工作頻 率對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)的2. 5倍。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的T形面支節(jié)，其特征在于，耦合腔（1)、端口 A(2)、端口 B (3)、端口 C (4)、過(guò)渡腔（7)和所有匹配段（11)的上表面都為同一個(gè)平面的一部分。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的T形面支節(jié)，其特征在于，與端口 A (2)連接的匹配段 (11)為鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)，該匹配段（11)的對(duì)稱平面為對(duì)稱平面X;該T形面支節(jié)的所有部 分，包括耦合腔（1)、端口 A (2)、端口 B (3)、端口 C (4)、過(guò)渡腔（7)和所有匹配段（11)相 對(duì)于對(duì)稱平面X構(gòu)成鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的T形面支節(jié)，其特征在于，所述端口 A (2)、 端口 B (3)、端口 C (4)可以分別為矩形波導(dǎo)、圓波導(dǎo)、脊波導(dǎo)、基片集成波導(dǎo)或帶線中的任 意一種。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的T形HI面支節(jié)，其特征在于，端口 A (2)的法線方向與端口 B (3)或/和端口 C (4)的法線方向之間的夾角大于60度并小于120度，或者端口 A (2) 的法線方向與端口 B (3)或/和端口 C (4)的法線方向之間的夾角大于150度并小于210 度。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的T形面支節(jié)，其特征在于，耦合腔（1)存在與端口 A (2) 相對(duì)的內(nèi)側(cè)壁A，內(nèi)側(cè)壁A上設(shè)置有金屬柱（5)。
【文檔編號(hào)】H01P5/12GK104091995SQ201410352925
【公開(kāi)日】2014年10月8日 申請(qǐng)日期:2014年7月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月24日
【發(fā)明者】王清源 申請(qǐng)人:成都賽納賽德科技有限公司