濕刻蝕設備及方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及液晶顯示器制造領域，提出了一種濕刻蝕設備，其包括：能夠噴淋刻蝕液的噴淋裝置；能夠存儲刻蝕液的儲液槽；以及用于夾持待刻蝕的玻璃基板的夾持機構(gòu)，其中，所述夾持機構(gòu)能夠沿所述儲液槽的深度方向運動，并相應地帶動所述玻璃基板沿所述儲液槽的深度方向運動。本發(fā)明還提出了相應的方法。以此方式，在根據(jù)本發(fā)明的設備和方法中，可以對玻璃基板同時進行或選擇性地進行兩種濕刻蝕的模式，且每種模式刻蝕力度可控。
【專利說明】濕刻蝕設備及方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及液晶顯示器制造領域，尤其涉及一種濕刻蝕設備及相應的方法。
【背景技術】
[0002] 隨著信息社會的發(fā)展，對顯示設備的要求越來越高，因而也推動了液晶面板行業(yè) 的快速發(fā)展。面板尺寸越做越大，使用者對視角、能耗、顯示品質(zhì)等方面的要求也越來越高， 對薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD)生產(chǎn)工藝及相關的設備也提出了更高的要求。
[0003] 由于受到濕刻蝕設備和制程的限制，目前的薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-IXD)的 陣列基板因均一性不佳導致了較為嚴重的顏色（深淺）不均（mura)問題?？梢酝ㄟ^調(diào)整 制程參數(shù)或改變刻蝕模式來改善均一性問題。典型的濕刻蝕模式例如噴淋模式（spray)、浸 漬模式（dip)等。
[0004] 噴淋模式（spray)指通過噴嘴將刻蝕液噴淋到玻璃基板上來進行刻蝕的方式；而 浸漬模式（dip)指將玻璃基板浸沒到裝有刻蝕液的儲液槽中來進行刻蝕的方式。
[0005] 兩種模式各有利弊，但由于受到設備本身設計的限制，總地來講，每種模式都會造 成色不均現(xiàn)象。且一旦將玻璃基板置入相應的刻蝕設備中，就只能采用相應的模式進行刻 蝕，無法靈活和有針對性地選擇或結(jié)合不同的濕刻蝕模式，致使色不均問題始終無法得到 有效的改善，典型地例如目前存在的陣列基板的四角色不均（mura)現(xiàn)象。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006] 如上所述，由于受到設備本身設計的限制，在現(xiàn)有技術中，通過噴淋模式或浸漬模 式來進行濕刻蝕，都會導致一定程度的色不均問題。因而在本發(fā)明中，提出了一種改進的濕 刻蝕設備及相應的方法，使得能夠靈活且有針對性地選擇或結(jié)合不同的濕刻蝕模式，顯著 緩解了色不均問題，進而提升了產(chǎn)品的顯示效果。
[0007] 本發(fā)明提出了一種濕刻蝕設備，其包括：能夠噴淋刻蝕液的噴淋裝置；能夠存儲 刻蝕液的儲液槽；以及用于夾持待刻蝕的玻璃基板的夾持機構(gòu)，所述夾持機構(gòu)與所述儲液 槽的側(cè)壁內(nèi)壁相鄰地設置，并使得所述玻璃基板的具有光學膜層的一側(cè)能夠承接來自所述 噴淋裝置的刻蝕液，
[0008] 其中，所述夾持機構(gòu)能夠沿所述儲液槽的深度方向運動，并相應地帶動所述玻璃 基板沿所述儲液槽的深度方向運動。
[0009] 以此方式，在根據(jù)本發(fā)明的設備中，可以對玻璃基板同時進行兩種濕刻蝕的模式。 夾持機構(gòu)的位置越靠上，噴淋模式的作用越顯著，浸漬模式的作用越微弱，直至完全實施噴 淋模式；同理，夾持機構(gòu)的位置越靠下，浸漬模式的作用越顯著，噴淋模式的作用越微弱，直 至沒入刻蝕液一定深度后完全實施浸漬模式。
[0010] 優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)包括：位于所述玻璃基板的背離所述儲液槽的底部的一側(cè) 的夾具；以及位于所述玻璃基板的朝向所述儲液槽的底部的一側(cè)的托持件。
[0011] 優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)還包括夾具轉(zhuǎn)軸，所述夾具轉(zhuǎn)軸的軸向方向垂直于所述儲 液槽的深度方向，且平行于與其相鄰的所述儲液槽的側(cè)壁的延伸方向，所述夾具能夠圍繞 所述夾具轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
[0012] 優(yōu)選地，所述夾具和所述托持件均構(gòu)造為從與所述儲液槽的側(cè)壁相鄰的位置處延 伸出來的具有平坦表面的板體，且在垂直于所述夾具轉(zhuǎn)軸的軸向方向的方向上，所述托持 件的尺寸大于相應的所述夾具的尺寸。如此設計，夾具所造成的負載壓力較小，而托持件亦 可將所承受的負載壓力分散到較大的面積中。
[0013] 優(yōu)選地，所述夾具能夠在平行且貼合于所述玻璃基板的位置和垂直于所述玻璃基 板的位置之間轉(zhuǎn)動，所述托持件垂直于所述儲液槽的側(cè)壁。以此方式，當夾具位于平行且貼 合于所述玻璃基板的位置時，可以固定住玻璃基板，防止其發(fā)生不期望的晃動或抖動；當夾 具位于垂直于所述玻璃基板的位置時，不會阻擋放入和取出玻璃基板。
[0014] 優(yōu)選地，所述夾持機構(gòu)構(gòu)造為通過軌道、鏈條、頂桿、電磁部件或位于所述儲液槽 的側(cè)壁內(nèi)壁上的卡槽中的一種或多種方式來運動。
[0015] 優(yōu)選地，沿俯視視角觀測，所述儲液槽為矩形，在所述矩形的長邊和短邊上均等間 隔地布置有所述夾持機構(gòu)。如此設置，更有利于維持玻璃基板的靜態(tài)平衡。
[0016] 優(yōu)選地，在所述儲液槽下部設置有運輸輥，所述儲液槽通過所述運輸輥進行移動。 儲液槽可通過運輸輥來進行移動，使得所處理的玻璃基板能夠在整個設備的腔室內(nèi)部移 動。
[0017] 本發(fā)明還提出了一種濕刻蝕方法，其特征在于，包括：
[0018] a)設置根據(jù)本發(fā)明所述的濕刻蝕設備；
[0019] b)向所述儲液槽中添加設定量的刻蝕液；
[0020] c)通過所述夾持機構(gòu)將待刻蝕的玻璃基板夾持?。?br>
[0021] d)當需要采用浸漬模式來進行刻蝕時，所述夾持機構(gòu)沿深度方向朝向所述儲液槽 的底部運動，使得所述玻璃基板浸沒于所述儲液槽中的刻蝕液中；
[0022] 當需要采用噴淋模式來進行刻蝕時，所述夾持機構(gòu)沿深度方向背離所述儲液槽的 底部運動，使得所述玻璃基板與所述儲液槽中的刻蝕液分離并承接來自所述噴淋裝置的刻 蝕液。
[0023] 優(yōu)選地，在步驟d)中，針對同一個玻璃基板，其相對兩側(cè)的所述夾持機構(gòu)在所述 儲液槽的深度方向上的位置不同，以使所述玻璃基板傾斜。因此可以造成玻璃基板的一部 分區(qū)域通過噴淋模式來進行刻蝕，而另一部分區(qū)域通過浸漬模式來進行刻蝕。從而，可以針 對一個玻璃基板的不同部分進行刻蝕力度的調(diào)適，保證均勻性。
[0024] 根據(jù)本發(fā)明的改進的可用于薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-IXD)的陣列基板的濕 刻蝕設備及相應的方法，可以提升濕刻蝕設備的制程優(yōu)化空間，并通過不同模式的配合而 進一步改善濕刻蝕制程均一性，解決或至少緩解了色不均（mura)問題，提升了液晶顯示器 的品質(zhì)。
[0025] 上述技術特征可以各種適合的方式組合或由等效的技術特征來替代，只要能夠達 到本發(fā)明的目的。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0026] 在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細的描述。其中：
[0027] 圖1示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備，圖中為以噴淋模式進行濕刻蝕的位 置；
[0028] 圖2示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備，圖中為以浸漬模式進行濕刻蝕的位 置；以及
[0029] 圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備的局部俯視圖。
[0030] 在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標記。附圖并未按照實際的比例。
【具體實施方式】
[0031] 下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
[0032] 圖1示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100,圖中為以噴淋模式進行濕刻蝕 的位置。在所示的實施例中，玻璃基板15實施為薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD)的陣列 基板。在圖中，其涂覆有待刻蝕的光學膜層的一側(cè)朝向上方。當然，這并非限定性的，本領 域技術人員容易理解，根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備1〇〇可用于任何具有與薄膜晶體管液晶顯 示器（TFT-LCD)的陣列基板類似的制程的玻璃基板，因為這樣的玻璃基板必然由于同樣或 類似的設備設計而具有刻蝕不均（尤其是四角刻蝕不均）的缺陷。
[0033] 由圖1可看出，濕刻蝕設備100包括能夠噴淋刻蝕液19. 2的噴淋裝置18和能夠 存儲刻蝕液19. 1的儲液槽11。
[0034] 噴淋裝置18能夠?qū)⒖涛g液19. 2噴淋到在上側(cè)涂覆有光學膜層的玻璃基板15上。 以此方式，通過噴淋裝置18可以噴淋模式完成濕刻蝕過程。噴淋模式（spray)即通過噴嘴 將刻蝕液噴淋到玻璃基板上來進行刻蝕的方式，此處噴淋裝置18可具體地構(gòu)造為噴嘴、花 灑型噴射器等。
[0035] 參照圖1，濕刻蝕設備100還包括用于夾持待刻蝕的玻璃基板15的夾持機構(gòu)20。 從圖中可直觀而明顯地看出，夾持機構(gòu)20與儲液槽11的側(cè)壁內(nèi)壁相鄰地設置，并使得玻璃 基板15的具有光學膜層的一側(cè)（在附圖所示的實施例中為上側(cè)）能夠承接來自噴淋裝置 18的刻蝕液19. 2。
[0036] 在根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100中，夾持機構(gòu)20能夠沿儲液槽11的深度方向運 動，并相應地帶動待刻蝕的玻璃基板15也沿儲液槽11的深度方向運動。在圖1中，儲液槽 11的深度方向通過雙向箭頭D來表示，即夾持機構(gòu)20能夠沿雙向箭頭D所表示的兩個方向 (在本實施例中即設備的上下方向）移動。
[0037] 具體地，參照圖1，夾持機構(gòu)20包括位于玻璃基板15的背離儲液槽11的底部11. 1 的一側(cè)的夾具14,以及位于玻璃基板15的朝向儲液槽11的底部11. 1的一側(cè)的托持件16。 夾具14和托持件16分別位于玻璃基板15的兩側(cè)，用于將其固定住，防止其在進行濕刻蝕 的過程中（相對于儲液槽11而言）發(fā)生松動，影響工藝效果或造成刻蝕不均，最終導致顯 示不均。
[0038] 夾持機構(gòu)20還包括夾具轉(zhuǎn)軸12,夾具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向垂直于儲液槽11的深度 方向D，且平行于與其相鄰的儲液槽11的側(cè)壁的延伸方向。實際上在圖1所示的情況中，夾 具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向即與紙面垂直的方向。夾具14能夠圍繞夾具轉(zhuǎn)軸12轉(zhuǎn)動。
[0039] 在附圖所示的實施例中，夾具14和托持件16均構(gòu)造為從與儲液槽11的側(cè)壁內(nèi)壁 相鄰的位置處延伸出來的具有平坦表面的板體。將夾具14和托持件16的構(gòu)形選擇為具有 平坦表面的板體，是因為：板體最能夠縮減夾持機構(gòu)20在深度方向D上的尺寸；其次，板體 旋轉(zhuǎn)起來很輕便，而因為接觸面積較大，其蓋在玻璃基板15上時可有效地將其夾持?。涣?夕卜，同樣因為接觸面積較大，板體在平置時穩(wěn)定性更好，不易發(fā)生晃動，從而使得玻璃基板 15在濕刻蝕的過程中至少相對于儲液槽11能夠處于穩(wěn)定的靜止狀態(tài)，避免了玻璃基板15 由于晃動而使得局部部位刻蝕力度過大或過小，從而產(chǎn)生色不均現(xiàn)象。
[0040] 同時，在圖1中可明顯看出，托持件16在垂直于夾具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向的方向上 的尺寸大于相應的夾具14在垂直于夾具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向的方向上的尺寸。優(yōu)選地，托 持件16在垂直于夾具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向的方向上的尺寸可以是相應的夾具14在垂直于 夾具轉(zhuǎn)軸12的軸向方向的方向上的尺寸的1. 5-2. 5倍。如此設置，是出于靜力學的角度來 考慮的。一方面，將位于玻璃基板15下方的托持件16的尺寸設置得較大，可以有效分散來 自玻璃基板15的負載力，使得托持件16更持久、耐用，并防止其承受過大的壓強而形變彎 曲。另一方面，將位于玻璃基板15上方的夾具14的尺寸設置得較小，可以盡可能減小夾具 14所附加的負載，即使得夾具14能夠夾住玻璃基板15,但又不會增加對托持件16的壓力。 以此方式，可使得夾持機構(gòu)20整體上更持久耐用。
[0041] 參照圖1，容易理解，夾具14能夠在平行且貼合于玻璃基板15的位置13. 2和垂 直于玻璃基板15的位置13. 1之間轉(zhuǎn)動。在圖1中，玻璃基板15處于進行噴淋刻蝕的過程 中，因此夾具14位于平行且貼合于玻璃基板15的位置13. 2中。因此可以在圖中看到，在 位置13. 2處用實線框示意性顯示了位于平行且貼合于玻璃基板15的位置13. 2處的夾具 14 ;而在附圖中用虛線框示意性顯示了夾具14的垂直于玻璃基板15的位置13. 1，因為此 刻處于噴淋刻蝕的過程中，夾具14暫時不位于該位置處。然而在需要將玻璃基板15放入 夾持機構(gòu)20中時，或需要將玻璃基板15從夾持機構(gòu)20中取出時，則需要將夾具14圍繞夾 具轉(zhuǎn)軸12旋轉(zhuǎn)至虛線框所表示的垂直于玻璃基板15的位置13. 1處，此時夾具14不再發(fā) 揮夾持功能，則玻璃基板15可無阻礙地放入或取出。
[0042] 剛剛在上文介紹過，在根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100中，夾持機構(gòu)20能夠沿雙向 箭頭D所表示的儲液槽11的深度方向（在本實施例中即設備100的上下方向）移動。這 可通過多種機械或電動的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)。例如，夾持機構(gòu)20可構(gòu)造為通過沿著儲液槽11的 深度方向D設置的軌道、鏈條、頂桿、電磁部件（其產(chǎn)生的磁力沿方向D)或位于儲液槽11 的側(cè)壁內(nèi)壁上的卡槽等方式來運動，可以是單獨采用某種上述具體的實現(xiàn)方式，也可以采 用多種方式相互結(jié)合。而從操作管理上講，可通過電子程序，或手工操作機械結(jié)構(gòu)來控制夾 持機構(gòu)20上升和下降的位置。
[0043] 在圖1中，用虛線示意性顯示了儲液槽11中的刻蝕液19. 1的液位。可以看到玻 璃基板15位于刻蝕液19. 1的液位之上，與刻蝕液19. 1完全分離。同時，來自噴淋裝置18 的刻蝕液19. 2噴淋到玻璃基板15的上表面?？梢姶藭r正通過噴淋模式來進行刻蝕。
[0044] 圖2示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100,圖中為以浸漬模式進行濕刻蝕 的位置。在圖2中同樣用虛線示意性顯示了儲液槽11中的刻蝕液19. 1的液位?？梢钥吹?玻璃基板15位于的刻蝕液19. 1的液位之下，此時通過浸漬模式來進行刻蝕。
[0045] 當然，圖1和圖2僅顯示了兩個典型的位置，如果將夾持機構(gòu)20的位置移動到兩 個附圖所顯示的位置之間，則可以同時進行兩種濕刻蝕的模式，只是根據(jù)位置的不同，二者 的作用強度會此消彼長。
[0046] 圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100的局部俯視圖（為了清晰起見，在圖3 中未顯示噴淋裝置18)。從圖3中可清晰地看出夾持機構(gòu)20的布置方式。參照圖3,沿俯 視視角觀測，可以看到儲液槽11為矩形，且在所述矩形的長邊和短邊上均等間隔地布置有 夾持機構(gòu)20 (在俯視視角中，夾具14、夾具轉(zhuǎn)軸12以及托持件16位于重疊的位置處）。在 圖3中，沿著矩形的兩個相對的長邊均布置有5個夾持機構(gòu)20,而沿著矩形的兩個相對的短 邊均布置有3個夾持機構(gòu)20。當然，這并非限定性的，每條邊上夾持機構(gòu)20的數(shù)量可以根 據(jù)所生產(chǎn)的玻璃基板的尺寸、重量來合理地設置。顯然地，將夾持機構(gòu)20等距間隔地設置 更有利于維持玻璃基板15的靜態(tài)平衡。
[0047] 再次參照圖1，可以看到，儲液槽11下部設置有運輸輥17,儲液槽11可通過運輸 輥17來進行移動，使得所處理的玻璃基板15能夠在整個設備的腔室內(nèi)部移動，以刻蝕所需 的部位。這可協(xié)助完成均勻的刻蝕。
[0048] 本發(fā)明還提出了一種濕刻蝕方法，包括：
[0049] a)設置根據(jù)本發(fā)明的濕刻蝕設備100。
[0050] b)向儲液槽11中添加設定量的刻蝕液19. 1。可直接將儲液槽11與液體源相連， 使得在進行刻蝕處理之前或在進行刻蝕處理的過程中，能夠根據(jù)需要自由地控制儲液槽11 中的刻蝕液19. 1的液位。
[0051] c)通過夾持機構(gòu)20將待刻蝕的玻璃基板15夾持住。具體地可通過旋轉(zhuǎn)夾具14 的位置來放入和取出玻璃基板15,這很容易理解。
[0052] d)在進行刻蝕的過程中，當需要采用浸漬模式來進行刻蝕時，控制夾持機構(gòu)20沿 深度方向D朝向儲液槽11的底部11. 1運動，使得玻璃基板15浸沒于儲液槽11中的刻蝕 液19. 1中（即位于刻蝕液19. 1的液位之下一定距離）。
[0053] 此時，參照圖2。由于玻璃基板15浸沒于儲液槽11中的刻蝕液19. 1中，來自噴淋 裝置18的刻蝕液19. 2噴淋到儲液槽11中的刻蝕液19. 1中，而并非直接噴淋到玻璃基板 15的上表面上，因此來自噴淋裝置18的刻蝕液19. 2對玻璃基板15影響較小，此時不通過 噴淋模式來進行刻蝕；而另一方面，由于玻璃基板15的需要刻蝕的光學膜層全部浸沒于儲 液槽11中的刻蝕液19. 1中，刻蝕液19. 1與其發(fā)生化學反應從而進行刻蝕，因此此時可通 過浸漬模式來進行刻蝕。
[0054] 另一方面，參照圖1。當需要采用噴淋模式來進行刻蝕時，控制夾持機構(gòu)20沿深度 方向D背離儲液槽11的底部11. 1而運動，使得玻璃基板15與儲液槽11中的刻蝕液19. 1 分離（即位于刻蝕液19. 1的液位之上一定距離）并直接承接來自噴淋裝置18的刻蝕液 19. 2。此時，玻璃基板15的位置上升，玻璃基板15已經(jīng)與儲液槽11中的刻蝕液19. 1分離， 因此儲液槽11中的刻蝕液19. 1不再與玻璃基板15中的光學膜層發(fā)生化學作用，因此玻璃 基板15也不再通過儲液槽11中的刻蝕液19. 1來刻蝕，因此此時不通過浸漬模式來進行刻 蝕；而反過來，來自噴淋裝置18的刻蝕液19. 2直接噴淋在了玻璃基板15的具有光學膜層 的上表面上，因此此時通過噴淋模式來進行刻蝕。
[0055] 在根據(jù)本發(fā)明的進一步改進的實施例中，在步驟d)中，針對同一個玻璃基板15, 可以使位于玻璃基板15的相對兩側(cè)的夾持機構(gòu)20在儲液槽11的深度方向D上的位置有 所不同，以使玻璃基板15傾斜。因此可以造成玻璃基板15的一部分區(qū)域通過噴淋模式來 進行刻蝕，而另一部分區(qū)域通過浸漬模式來進行刻蝕?？梢姼鶕?jù)本發(fā)明的設備和方法非常 靈活，操作的自由度很高。
[0056] 當然，如果兩條長邊和兩條短邊上的夾持機構(gòu)20在儲液槽11的深度方向D上的 位置均不同，則會導致沿玻璃基板15的對角線的傾斜，即玻璃基板15的一角沉入刻蝕液 19. 1中，此方案可尤其用來克服現(xiàn)有技術中的玻璃基板四角刻蝕不均的問題。
[0057] 當然，在根據(jù)本發(fā)明的設備100和相應方法中，浸漬模式和噴淋模式并非非此即 彼的。剛剛只是結(jié)合圖1和圖2講述了在兩個極端位置時的極端情況，如果將夾持機構(gòu)20 的位置移動到兩個附圖所顯示的位置之間，則可以同時進行兩種濕刻蝕的模式。位置越靠 上，噴淋模式的作用越顯著，浸漬模式的作用越微弱，直至完全實施噴淋模式；同理，位置越 靠下，浸漬模式的作用越顯著，噴淋模式的作用越微弱，直至沒入刻蝕液一定深度后，會完 全實施浸漬模式。
[0058] 根據(jù)本發(fā)明的改進的可用于薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-IXD)的陣列基板的濕 刻蝕設備及相應的方法具有許多優(yōu)點：
[0059] 可以提升濕刻蝕設備的制程優(yōu)化空間，以合理而巧妙的構(gòu)造，在一個設備中集成 了浸漬模式刻蝕和噴淋模式刻蝕兩種功能，節(jié)省生產(chǎn)空間和運輸成本；
[0060] 同時，由于浸漬模式刻蝕和噴淋模式刻蝕的力度可以相互協(xié)調(diào)、靈活選擇，從而彌 補了現(xiàn)有技術中的設備位置力度死板不可控的缺陷，進一步改善了濕刻蝕制程均一性，解 決或至少緩解了色不均（mura)問題，提升了液晶顯示器的品質(zhì)，帶來了非常顯著的進步。
[0061] 雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況 下，可以對其進行各種改進并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖 突，各個實施例中所提到的各項技術特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文 中公開的特定實施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術方案。
【權(quán)利要求】
1. 一種濕刻蝕設備，其特征在于，包括： 能夠噴淋刻蝕液的噴淋裝置； 能夠存儲刻蝕液的儲液槽；以及 用于夾持待刻蝕的玻璃基板的夾持機構(gòu)，所述夾持機構(gòu)與所述儲液槽的側(cè)壁內(nèi)壁相 鄰地設置，并使得所述玻璃基板的具有光學膜層的一側(cè)能夠承接來自所述噴淋裝置的刻蝕 液， 其中，所述夾持機構(gòu)能夠沿所述儲液槽的深度方向運動，并相應地帶動所述玻璃基板 沿所述儲液槽的深度方向運動。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕刻蝕設備，其特征在于，所述夾持機構(gòu)包括： 位于所述玻璃基板的背離所述儲液槽的底部的一側(cè)的夾具；以及 位于所述玻璃基板的朝向所述儲液槽的底部的一側(cè)的托持件。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕刻蝕設備，其特征在于，所述夾持機構(gòu)還包括夾具轉(zhuǎn)軸，所 述夾具轉(zhuǎn)軸的軸向方向垂直于所述儲液槽的深度方向，且平行于與其相鄰的所述儲液槽的 側(cè)壁的延伸方向，所述夾具能夠圍繞所述夾具轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕刻蝕設備，其特征在于，所述夾具和所述托持件均構(gòu)造為 從與所述儲液槽的側(cè)壁相鄰的位置處延伸出來的具有平坦表面的板體，且在垂直于所述夾 具轉(zhuǎn)軸的軸向方向的方向上，所述托持件的尺寸大于相應的所述夾具的尺寸。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的濕刻蝕設備，其特征在于，所述夾具能夠在平行且貼合于所 述玻璃基板的位置和垂直于所述玻璃基板的位置之間轉(zhuǎn)動，所述托持件垂直于所述儲液槽 的側(cè)壁。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕刻蝕設備，其特征在于，所述夾持機構(gòu)構(gòu)造為通過軌道、鏈 條、頂桿、電磁部件或位于所述儲液槽的側(cè)壁內(nèi)壁上的卡槽中的一種或多種方式來運動。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一項所述的濕刻蝕設備，其特征在于，沿俯視視角觀測，所 述儲液槽為矩形，在所述矩形的長邊和短邊上均等間隔地布置有所述夾持機構(gòu)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一項所述的濕刻蝕設備，其特征在于，在所述儲液槽下部設 置有運輸輥，所述儲液槽通過所述運輸輥進行移動。
9. 一種濕刻蝕方法，其特征在于，包括： a) 設置根據(jù)權(quán)利要求1到8中任一項所述的濕刻蝕設備； b) 向所述儲液槽中添加設定量的刻蝕液； c) 通過所述夾持機構(gòu)將待刻蝕的玻璃基板夾持?。? d) 當需要采用浸漬模式來進行刻蝕時，所述夾持機構(gòu)沿深度方向朝向所述儲液槽的底 部運動，使得所述玻璃基板浸沒于所述儲液槽中的刻蝕液中； 當需要采用噴淋模式來進行刻蝕時，所述夾持機構(gòu)沿深度方向背離所述儲液槽的底 部運動，使得所述玻璃基板與所述儲液槽中的刻蝕液分離并承接來自所述噴淋裝置的刻蝕 液。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在步驟d)中，針對同一個玻璃基板，其相 對兩側(cè)的所述夾持機構(gòu)在所述儲液槽的深度方向上的位置不同，以使所述玻璃基板傾斜。
【文檔編號】H01L21/306GK104064456SQ201410276096
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年6月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月19日
【發(fā)明者】柴立 申請人:深圳市華星光電技術有限公司