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半導(dǎo)體裝置的制造方法

文檔序號:11541939閱讀:來源:國知局
半導(dǎo)體裝置的制造方法

技術(shù)特征:
1.一種顯示裝置,包括晶體管,所述晶體管包括:在襯底之上的第一柵電極;在所述第一柵電極之上的第一柵極絕緣層;在所述第一柵極絕緣層之上的氧化物半導(dǎo)體層;以及在所述第一柵電極之上的第二柵電極;平坦化絕緣層;像素電極,電連接至所述氧化物半導(dǎo)體層;包括氮化硅的絕緣層,位于所述像素電極與所述平坦化絕緣層之間,并且位于所述第二柵電極和所述平坦化絕緣層之間;陽電極,在所述包括氮化硅的絕緣層之上;以及阻擋膜,與所述陽電極重疊,其中,所述陽電極具有透光性質(zhì),其中,所述氧化物半導(dǎo)體層、所述陽電極以及所述阻擋膜彼此重疊,其中,所述氧化物半導(dǎo)體層包括所述晶體管的溝道形成區(qū),并且其中,所述第二柵電極和所述像素電極通過處理透明導(dǎo)電膜而形成。2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述氧化物半導(dǎo)體層包含銦和鋅。3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述氧化物半導(dǎo)體層包含銦、鎵和鋅。4.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述襯底包含塑料。5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述晶體管是溝道蝕刻型。6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述氧化物半導(dǎo)體層是非單晶。7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,進(jìn)一步包括在所述氧化物半導(dǎo)體層之上的源電極和漏電極。8.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述溝道形成區(qū)包括I型區(qū)。
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