技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體裝置及制備方法，該半導(dǎo)體裝置包含一基材、一字元線、一絕緣材料，以及一蝕刻停止材料?；陌恢w，且該柱體包含一有源區(qū)。字元線形成于基材上。絕緣材料形成于字元線上。蝕刻停止材料形成于絕緣材料上并圍繞著柱體。蝕刻停止材料可在蝕刻工藝中保護(hù)絕緣材料，而可避免發(fā)生短路或降低裝置性能等問題。

技術(shù)研發(fā)人員：楊廣軍;羅素·班森
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南亞科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201310192035
技術(shù)研發(fā)日：2013.05.22
技術(shù)公布日：2016.12.28