專利名稱：配置部件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及配置部件的方法。
背景技術(shù)：
有源型液晶顯示元件和有機電致發(fā)光顯示元件形成在玻璃基板上。在基板上以矩陣狀配置的像素，由配置在該像素附近的薄膜晶體管控制。即使使用現(xiàn)有技術(shù)，由晶體半導(dǎo)體構(gòu)成的薄膜晶體管也不能夠形成在玻璃基板上。因此，使用非晶硅或多晶硅薄膜的薄膜晶體管用于像素的控制。薄膜晶體管正在大面積的基板上低價地制成。但是，薄膜晶體管具有如下缺點:由于具有比結(jié)晶硅低的移動度，所以高速的動作受到阻礙。為了克服該問題，預(yù)先在硅晶片上制作多個晶體管后，從晶片切出，配置在基板上。在專利文獻I中公開了，如圖1OA所示，準備具備多個親水性區(qū)域11和圍繞該親水性區(qū)域11的憎水性區(qū)域12的基板10。接著，如圖1OB所示，準備將配置于基板的部件40分散于實質(zhì)上不溶解于水的溶劑30而得到的部件分散液60。圖1OB示意性地表示放入容器70的部件分散液60。部件40的一個面是親水性的，與基板10接合，該面以外的部件40的面是憎水性的。接著，如圖1OC所示,使用第一刮板(squeegee) 51在多個親水性區(qū)域11配置水20。之后,如圖1OD所不,使用第二刮板52,涂敷部件分散液60,使部件分散液60與配置在親水性區(qū)域11的水21接觸。在該過程中，部件40在配置于親水性區(qū)域11的水21中移動。之后，水21和部件 分散液60中包含的溶劑被除去，將部件40固定于親水性區(qū)域11。此外，參照標記61表示配置于親水性區(qū)域11的部件分散液60。先行技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:美國專利第7730610號公報(對應(yīng)于專利第4149507號公報)專利文獻2:日本專利第4531862號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術(shù)問題專利文獻I記載的方法是將部件40配置于基板10的良好方法。本發(fā)明的目的在于，提供一種提高部件在親水性區(qū)域配置的概率的方法。用于解決技術(shù)問題的技術(shù)手段本發(fā)明為將部件配置在基板上的方法，具備以下的工序:準備上述基板、第一液體和部件分散液的工序(a)，其中上述基板具備憎水性區(qū)域和多個親水性區(qū)域，上述憎水性區(qū)域包圍上述多個親水性區(qū)域，各上述親水性區(qū)域具備親水性主體區(qū)域和親水性線，上述親水性線相互平行地配置，
Y方向為上述多個親水性線的平行方向，Z方向為上述基板的法線方向，+X方向是與上述Y方向和上述Z方向中的任一個都正交的方向，-X方向是上述+X方向的反方向，上述多個親水性區(qū)域沿上述+X方向和上述Y方向配置，各上述親水性區(qū)域中包含的上述親水性線和上述親水性主體區(qū)域沿上述+X方向以該順序進行配置，上述親水性主體區(qū)域和上述親水性線，沿上述+X方向交替配置，Dl表示各上述親水性區(qū)域中包含的上述親水性主體區(qū)域和上述親水性線之間的沿上述+X方向的間隔，D2表示上述親水性主體區(qū)域的沿上述Y方向的長度，D3表示上述親水性線的沿上述Y方向的長度，D4表示上述親水性線的寬度，D5表示沿上述Y方向配置的2個相鄰的上述親水性線之間的間隔，D1/D2的值為0.1以上1.2以下，D3的值為5微米以上，
`
D4的值比上述部件的最小長度小，D5的值為10微米以上，上述第一液體為親水性，上述部件分散液包含上述部件和第二液體，上述第二液體不溶解于上述第一液體，上述部件具備親水性的表面；將上述第一液體連續(xù)地沿上述+X方向涂敷在上述基板上，將上述第一液體在上述親水性線和上述親水性主體區(qū)域交替地沿上述+X方向配置的工序(b)；使上述部件分散液與在上述親水性主體區(qū)域配置的上述第一液體接觸的工序(C);和通過從上述基板除去上述第一液體和上述第二液體，將上述部件配置于上述親水性主體區(qū)域的工序(d)。本說明書中的用語“配置”包含“安裝”的含義。本說明書中的“部件”的例子為電子部件。發(fā)明的效果本發(fā)明提高部件在親水性區(qū)域配置的概率。


圖1A表示具備親水性主體區(qū)域111、親水性線112和憎水性區(qū)域120的基板100。圖1B表示具備親水性主體區(qū)域111、親水性線112和憎水性區(qū)域120的基板100。圖2A是用于對Dl D5的值進行說明的頂視圖。圖2B是用于對Dl D5的值進行說明的頂視圖。圖3A是用于對Dl D5的值進行說明的頂視圖。
圖3B是用于對Dl D5的值進行說明的頂視圖。圖3C是用于對Dl D5的值進行說明的頂視圖。圖4示意性地表示含有部件400的部件分散液600。圖5A是用于說明部件的最小長度的立體圖。圖5B是用于說明部件的最小長度的立體圖。圖5C是用于說明部件的最小長度的立體圖。圖是用于說明部件的最小長度的立體圖。圖6A與圖6B和圖6C —起表示涂敷于憎水性區(qū)域121的第一液體200在基板100上移動的情況。圖6B與圖6A和圖6C —起表示涂敷于憎水性區(qū)域121的第一液體200在基板100上移動的情況。 圖6C與圖6A和圖6B —起表示涂敷于憎水性區(qū)域121的第一液體200在基板100上移動的情況。圖7A表示配置部件400前的基板100。圖7B表示工序(b)。圖7C表示工序(c )。圖7D表示配置了部件400后的基板100。圖8是表示第一刮板510在基板100上移動的情況的頂視圖。圖9A是用于說明比較例5的配置部件的方法的頂視圖。圖9B是用于說明比較例11的配置部件的方法的頂視圖。圖1OA與圖1OB 圖1OD —起表示記載于專利文獻I的方法。圖1OB與圖10A、圖1OB和圖1OC —起表示記載于專利文獻I的方法。圖1OC與圖10A、圖1OB和圖1OD —起表示記載于專利文獻I的方法。圖1OD與圖1OA 圖1OC —起表示記載于專利文獻I的方法。
具體實施例方式參照附圖對本發(fā)明的實施方式在下面進行說明。在附圖中，為了便于對本說明書的理解，省略了陰影。(工序(a))在工序(a)中，準備基板100、第一液體200和部件分散液600。圖1A和圖1B表示基板100?；?00在表面具備親水性區(qū)域110和憎水性區(qū)域120。憎水性區(qū)域120包圍親水性區(qū)域110。如圖1A和圖1B所示，定義有+X方向、-X方向、Y方向和Z方向。即，Y方向為親水性線112的長度方向。Z方向為基板100的法線的方向。+X方向是與+Y方向和+Z方向中的任一個都正交的方向。-X方向是+X方向的反方向。親水性線112和親水性主體區(qū)域111沿+X方向以該順序進行配置。在本發(fā)明中，設(shè)置有多個親水性區(qū)域110。如圖1A、圖1B和圖8所示，準確地說，4個以上的親水性區(qū)域110沿+X方向和Y方向配置。更準確地說，在+X方向設(shè)置有2個以上的親水性區(qū)域110，且在Y方向設(shè)置有2個以上的親水性區(qū)域110。
各親水性區(qū)域110具備親水性主體區(qū)域111和親水性線112。各親水性區(qū)域110中包含的親水性線112和親水性主體區(qū)域111沿+X方向以該順序進行配置。在+X方向設(shè)置有2個以上的親水性區(qū)域110，所以親水性主體區(qū)域111和親水性線112沿+X方向交替配置。親水性線112相互平行地配置。如圖2A所示，沿Y方向相鄰的多個親水性區(qū)域110中包含的親水性線112，包含與Y方向平行的I個假想線804。親水性主體區(qū)域111和親水性線112的水相對的濕潤性，比憎水性區(qū)域120的水相對的濕潤性高。接著說明Dl D5的值。(Dl)如圖2A 圖3C所示，Dl表示親水性線112和親水性主體區(qū)域111之間的沿+X方向的間隔。準確地說，如圖2A和圖2B所示，DI表示沿圖2A和圖2B所示的假想線803的、親水性線112和親水性主體區(qū)域111之間的間隔。假想線803將親水性主體區(qū)域111的重心801與親水性線112的重心802之間連結(jié)。(D2)如圖2A 圖3C所示，D2表示親水性主體區(qū)域111的沿Y方向的長度。D3表示親水性線112的沿Y方向的長度。(D1/D2 的值)
本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)D1/D2的值需要在0.1以上1.2以下的范圍內(nèi)。在D1/D2的值不足0.1時，部件400配置于親水性主體區(qū)域111的概率降低(參照后面敘述的比較例I)。換言之，(配置有部件400的親水性主體區(qū)域111的數(shù)量Np)/(親水性主體區(qū)域111的數(shù)量)的值小時，意味著效率低。同樣地，D1/D2的值超過1.2時，部件400配置于親水性主體區(qū)域111的概率也降低(參照后面敘述的比較例2 4)。(D3 的值)本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)D3的值需要為5μπι以上。在D3的值不足5 μ m時，部件400配置于親水性主體區(qū)域111的概率降低(參照后面敘述的比較例6 9)。D3的值優(yōu)選為1000 μ m 以下。(D4 的值)在本發(fā)明中，表示親水性線112的寬度的D4的值，需要比部件400的最小長度短。D4與部件400的最小長度相同或比其更大時，部件400能夠配置在親水性線112。優(yōu)選D4的值為部件400的最小值的二分之一以下。在此使用圖5A 圖對“部件400的最小長度”進行詳細說明。如圖5A所示，在部件400為具備2個面(P1)、面積為面(Pl)以上的2個面(P2)、面積比面(P2)大的2個面(P3)的長方體時，設(shè)各邊的長度為(LI)、(L2)和(L3)。在親水性主體區(qū)域111的形狀和大小與面(P3)的形狀和大小相同時，部件400的一個面(P3)配置為與設(shè)置于基板100的親水性主體區(qū)域111的面相對。此時，“部件400的最小長度”是指構(gòu)成作為安裝(mount)的面的面(P3)的邊的長度(LI)和邊的長度(L2)之中較短的邊的長度(LI)。此外，本說明書中的“形狀和大小相同”的意思在后面敘述。如圖5B所示，構(gòu)成部件400的面中，與基板100的親水性主體區(qū)域111相對配置的面(P3)的形狀為三角形時，“部件400的最小長度”是指構(gòu)成三角形的邊(LI)、邊(L2)、邊(L3)之中，其長度最短的邊的長度(LI)。如圖5C所示，構(gòu)成部件400的面中，與基板100的親水性主體區(qū)域111相對配置的面(P3)的形狀為六邊形時，“部件400的最小長度”是指構(gòu)成六邊形的邊(LI) 邊(L6)之中長度最短的邊的長度(LI)。如圖所示，構(gòu)成部件400的面中，與基板100的親水性主體區(qū)域111相對配置的面(P3)的形狀為圓形時，“部件400的最小長度”是指面(P3)的直徑的長度(LI)。為橢圓時指的是短軸長。被安裝的部件400的最小長度優(yōu)選為10 μ m以上。另外，部件400為具備上述面(P1)、上述面(P2)和上述面(P3)的長方體時，作為安裝面的面(P3)的長邊(圖5A中長度(L2)的邊)優(yōu)選為1 000 μ m以下。(D5 的值)如圖2A 圖3C所示，D5表示沿Y方向配置的2個相鄰的親水性線112之間的間隔。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)D5的值需要為10 μ m以上。在D5的值不足10 μ m時，部件400配置于親水性主體區(qū)域111的概率降低(參照后面敘述的比較例11)。如圖2A和圖2B所示，以多個親水性線112包含于在Y方向平行描繪的I條假想線804的方式，配置多個親水性線112。假想線804的寬度等于D4。在工序(a)中準備第一液體。第一液體和第二液體都在后面詳細說明。在工序(a)中，準備部件分散液600。部件分散液600包含部件400和第二液體300。圖4是示意性地表示部件分散液600的截面圖。圖4示意性地表示放入容器700的部件分散液600。部件分散液600包含第二液體300和在第二液體300中分散的部件400。第二液體300中，水實質(zhì)上不溶解。具體的第二液體300為己烷。第二液體300的其他的具體例在后面敘述。本說明書中的用語“分散”是指部件400不在第二液體300中凝集的狀態(tài)。為了使部件400分散，攪拌部件分散液600。第一液體200和第二液體300，考慮到在第一液體200和第二液體300之間的界面起作用的界面張力、以及相對于部件400的表面相對于第一液體200和第二液體300的各個濕潤性，能夠適當選擇。第一液體200需要實質(zhì)上不溶解于第二液體300。由于第一液體200實質(zhì)上不溶解于第二液體300，所以在第二液體300接觸第一液體200時，第一液體200穩(wěn)定地停止于親水性主體區(qū)域111。于是，由于界面張力，部件400在第一液體200中移動?！皩嵸|(zhì)上不溶解”意思是指通過在IOOml第二液體中溶解的第一液體的重量定義的溶解度為IOg以下，進一步優(yōu)選為Ig以下的情況。第一液體200和第二液體300的組合，例如為極性大的液體作為第一液體200，與比第一液體200極性小的液體作為第二液體300的組合。即，第一液體200為親水性的，且第二液體300為疏水性的。第一液體200的例子為水。也可以取代水而使用甲醇、乙醇、乙二醇和丙三醇這樣的醇、水和醇的混合液。水具有大的表面張力，因此,能夠?qū)⒉考?00牢固地保持在親水性主體區(qū)域111，所以是優(yōu)選的。第二液體300的例子為:
己燒、庚燒、羊燒、壬燒、癸燒、十一燒、十_■燒、十二燒、十四燒、十五燒、十TK燒這樣的烷烴，甲苯、苯、二甲苯這樣的芳香烴類，一氯甲烷、二氯甲烷、三氯甲烷、四氯甲烷(四氯化碳)、一氯丁烷、二氯丁烷、一氯戊烷和二氯戊烷這樣的氯類溶劑，乙醚、石油醚這樣的醚，乙酸乙酯、乙酸丁酯這樣的酯類，硅油、全氟辛烷、全氟壬烷，或者，它們的混合液。第二液體300優(yōu) 選為氯類溶劑。對于基板100的材質(zhì)沒有限定。能夠使用由無機材料、高分子樹脂材料或者由無機材料和高分子樹脂材料的復(fù)合材料形成的基板。作為無機材料，能夠使用氧化鋁這樣的陶瓷、硅和玻璃。作為高分子樹脂材料，能夠使用聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂和聚碳酸酯樹脂。作為無機材料與高分子樹脂材料的復(fù)合材料，例如能夠使用包含由玻璃、陶瓷或金屬構(gòu)成的纖維和高分子樹脂材料的復(fù)合材料。也能夠使用SOI基板和化合物半導(dǎo)體基板。能夠使用公知的方法調(diào)制部件400和部件分散液600。專利文獻I公開了該公知的方法。使用水這樣的具有大的極性的液體作為第一液體200時，部件400優(yōu)選具有高的表面能。更具體而言，該表面能為40mJ/m2以上。在部件400具有小的表面能時,優(yōu)選對部件400的表面進行處理,增大其表面能。部件400在表面具有硅時,在臭氧氣氛中對該表面照射紫外線,增大其表面能。在部件400的表面，形成對第一液體200具有親和性的薄膜，能夠增大部件400的表面能。在第一液體200為水時，該薄膜的例子能夠為親水膜。例如，氧化硅、氮化硅或氧化鈦的親水膜，能夠通過真空濺射法或熱CVD法形成在部件400的表面。在親水膜形成后，能夠在臭氧氣氛中在部件400的表面照射紫外線。例如以在末端具有氨基、羧基或羥基的硅烷偶聯(lián)劑修飾部件400的表面，能夠增大部件400的表面能。在部件400的表面具有金屬時，能夠以在末端具有氨基、羧基或羥基的硫醇(thiol)修飾表面。如圖1A和圖1B所示，親水性線112可以是直線狀，也可以是曲線狀。親水性主體區(qū)域111的形狀，能夠根據(jù)安裝于該親水性主體區(qū)域111的部件400的形狀而決定。親水性主體區(qū)域111的形狀，例如為三角形、四邊形、六邊形這樣的多邊形、圓形、橢圓形。親水性主體區(qū)域111優(yōu)選具有與被安裝的部件400的面(即被安裝于基板100的狀態(tài)下與基板100相對的、部件400的面)的形狀相同的形狀。“相同的形狀”是指親水性主體區(qū)域111的形狀和被安裝的部件400的面(安裝于基板100的狀態(tài)下與基板100相對的面)，在數(shù)學(xué)概念上的等同或者相似的關(guān)系。SI定義為，在配置于基板時，部件400的與基板相對的表面的面積。S2定義為I個親水性主體區(qū)域111的面積。S2/S1的值優(yōu)選具有0.64以上1.44以下的值。S2/S1的值在比0.64小時，親水性主體區(qū)域111具有顯著少的水，所以能夠使配置部件400的概率減小。S2/S1的值在比1.44大時，親水性主體區(qū)域111具有顯著多的水。因此，能夠在I個親水性主體區(qū)域111配置多個部件400。
親水性主體區(qū)域111、親水性線112和憎水性區(qū)域120，例如能夠通過光刻法在親水性的基板選擇性地形成憎水膜而制作。形成親水性主體區(qū)域111、親水性線112和憎水性區(qū)域120的方法，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠通過閱讀國際公開第2010/058516號公報(其對應(yīng)于美國專利申請編號12/827,255。該專利申請被援引在本申請中)的第0049 0057段記載的方法而明確。在本實施方式中，親水性主體區(qū)域111，優(yōu)選具有與親水性線112相同的表面能。但是，只要憎水性區(qū)域120的表面能比親水性主體區(qū)域111的表面能和親水性線112的表面能中的任一個都低，親水性主體區(qū)域111就能夠具有與親水性線112不同的表面能。水的相對于固體表面的濕潤性，不僅與固體的表面能有關(guān)，而且與水的表面張力也有關(guān)系。親水性的固體的表面能的具體的值，優(yōu)選為40mJ/m2以上。優(yōu)選為60mJ/m2以上1000mJ/m2以下。憎水性的固體的表面能的具體的值，優(yōu)選為5mJ/m2以上、不足40mJ/m2。進一步優(yōu)選為5mJ/m2以上25mJ/m2以下。(工序(b))在工序(b)中，如圖6A 圖6C和圖7所示，將第一液體200在基板100沿+X方向連續(xù)涂敷。這樣，將第一液體200交替配置于親水性線112和親水性主體區(qū)域111。第一液體200先配置于親水性線112，接著配置于親水性主體區(qū)域111。參照標記211表示配置于親水性主體區(qū)域111的第一液體200。參照標記212表示配置于親水性線112的第一液體200。具體而言,使用第一刮板510。該第一刮板510沿+X方向移動。憎水性區(qū)域120包圍親水性主體區(qū)域111和親水性線112，所以在工序(b)中在親水性主體區(qū)域111和親水性線112配置的親水性的第一液體200 (例如水)不會溢出。在此對工序(b )進行更詳細的說明。

圖6A 圖6C是不意性地表不工序(b)的頂視圖。如圖6A所不,第一刮板510從基板100的一端側(cè)(圖6的左側(cè))移動到另一端側(cè)(圖6A的右側(cè))。在該過程中，水可以配置在親水性線112和親水性主體區(qū)域111中的任意個。而且，水也暫時性地配置在夾于親水性線112和親水性主體區(qū)域111的、憎水性區(qū)域121。這是由于，水在基板100連續(xù)地涂敷。憎水性區(qū)域121在圖6A中為圓形的被包圍的區(qū)域。之后，如圖6B和圖6C所示，配置于憎水性區(qū)域121的水移動，配置于親水性主體區(qū)域111。憎水性區(qū)域121的相對于水的較低的濕潤性，使水發(fā)生移動。圖6C中的箭頭示意性地表示水的移動方向。其結(jié)果是，配置于親水性主體區(qū)域111的水的體積會增大。配置于親水性主體區(qū)域111的水的體積的增大，使得部件400在親水性主體區(qū)域111配置的概率提高。由上述說明可知，第一液體200 (水)在憎水性區(qū)域121暫時地配置，所以第一液體200 (水)需要在基板100的表面連續(xù)地涂敷。另一方面，如圖1OA 圖1OD所示，即使在使用未形成有親水性線112的基板10時，第一液體(水)也在憎水性區(qū)域12上鋪開。但是，部件配置于親水性區(qū)域11的概率，比本實施方式的方法低(參照后述的比較例6)。(工序(C))接著，對工序(C)進行說明。圖7B示意性地表示用于實施本實施方式的安裝方法的安裝裝置的結(jié)構(gòu)和動作。如圖7B所示，安裝裝置具備第一刮板510和第二刮板520。在工序(b)中，通過第一刮板510，基板100暴露于第一液體200，在親水性線112和親水性主體區(qū)域111上配置第一液體211 212。接著，在工序(C)中，使部件分散液600與配置于親水性主體區(qū)域111的第一液體211接觸。如圖7B和圖7C所示，通過第二刮板520，基板100暴露于部件分散液600。優(yōu)選第一刮板510和第二刮板520 —邊維持其間隔一邊在基板100上沿+X方向移動。固定刮板的機構(gòu)和移動的機構(gòu)未圖示。也可以取代使用第二刮板520，而是在工序(b)之后將基板100浸潰于部件分散液600,將基板100暴露于部件分散液600。由于第一液體200 (水)實質(zhì)上不溶解于第二液體300，所以第一液體(水)211 212穩(wěn)定地停止于親水性主體區(qū)域111和親水性線112上。在該過程中，由于在部件400起作用的界面張力，部件400移動至配置于親水性主體區(qū)域111的水211的內(nèi)部?；蛘撸考?00移動至第二液體300與水211形成的界面。此外，參照標記611表示配置于親水性主體區(qū)域111的部件分散液600。參照標記612表示配置于親水性線112的部件分散液600。在圖7B和圖7C中，第一刮板510和第二刮板520沿+X方向移動，基板100不移動。但是，也可以是第一刮板510和第二刮板520不移動,而是基板100沿-X方向移動?；蛘?，也可以是第一刮板510和第二刮板520沿+X方向移動,而且基板100沿-X方向移動。在工序(b)中，在基板100的一端配置第一液體200。之后，使基板100傾斜，將第一液體200在親水性主體區(qū)域111和親水性線112按照順序配置。(工序(d))最后，對工序(d)進彳丁說明。從基板100，除去第一液體(水)211 212和第二液體300，如圖7D所示，將部件400配置于親水性主體區(qū)域111。水211 212和第二液體300，通過公知的干燥方法除去。例如，能夠使用從自然干燥 、通過真空干燥器(vacuum desiccator)進行的干燥、吹送空氣或氣體的干燥或通過加熱和/或減壓進行的干燥這樣的公知的干燥方法中選擇的適當?shù)母稍锓椒?。在干燥前清洗基?00。(實施例)以下的實施例中，對本發(fā)明進行的配置方法進行更詳細的說明。(實施例1)在實施例1中，氧化硅板使用本發(fā)明的配置方法配置于基板?！椿宓闹谱鳌凳紫龋辉魉詤^(qū)域120包圍的多個親水性主體區(qū)域111和多個親水性線112，在由硅形成的基板100按以下方式形成。由具有525 μ m的厚度和4英寸的直徑的硅形成的基板100，在氧氣氣氛下暴露于等離子體處理，將基板100的表面氧化。由此，基板100的整個面為親水性。接著，通過光刻法，形成與親水性主體區(qū)域111和親水性線112相當?shù)恼钥刮g劑圖案。在干燥氣氛中，具有抗蝕劑圖案的基板100，浸潰于含有l(wèi)vol%濃度的CF3(CF2)7C2H4SiCl3 (以下簡稱為FS-17)的全氟辛烷溶液20分鐘。之后，基板100在純粹的全氟辛烷中清洗，接著除去溶劑。進而抗蝕劑圖案通過丙酮被除去。這樣，被憎水性區(qū)域120包圍的親水性主體區(qū)域111和親水性線112形成在硅基板100上。
對于在實施例1中形成的親水性主體區(qū)域111，在下面詳細地記述。形狀:長方形(參照圖2A)沿X方向的寬度:40μπι沿Y方向的長度(D2):20 μ m沿X方向相鄰的2個親水性主體區(qū)域111之間的間隔:120 μ m沿Y方向相鄰的2個親水性主體區(qū)域111之間的間隔:120 μ m對于在實施例1中形成的親水性線112，在下面詳細地記述。形狀:長方形(參照圖2A)沿X方向的寬度(D4):5μπι沿Y方向的長度(D3):20 μ mDl:2ymD5: 100 μ m
〈部件分散液〉含有氧化硅板的部件分散液600，通過以下的方法調(diào)制。首先，在具有525 μ m的厚度的硅基板的表面，通過電子束蒸鍍法，形成具有IOOnm的厚度的鋁薄膜。接著，通過等離子體CVD法形成200nm的氧化硅薄膜。通過將抗蝕劑圖案作為掩模進行利用的干法蝕刻，氧化硅薄膜的一部分被除去。通過氧等離子體灰化處理，抗蝕劑圖案被剝離，形成多個氧化硅板。各氧化硅板具有縱20 μ mX橫40μηιΧ高0.2μηι的大小。接著,通過50°C的磷酸和硝酸的混合液(以下稱為“熱磷酸”)，鋁薄膜被蝕刻，將氧化硅板抬升(lift off)。接著，對分散于熱磷酸的氧化硅板使用過濾器進行吸引過濾。附著有氧化硅板的過濾器，在干燥氣氛中進行整夜干燥。之后，過濾器在含有l(wèi)vol%的1-氯乙基三氯硅烷的I，4-二氯丁烷溶液中，浸潰2小時。氧化硅板分散在溶液中。在干燥氮氣氣氛中使用過濾器吸引過濾硅氧化片。通過清洗除去未反應(yīng)的1-氯乙基三氯硅烷，在過濾器上得到具有經(jīng)過化學(xué)修飾的表面的氧化娃板。過濾器浸潰于1，4-二氯丁燒中,施加超聲波。超聲波的施力口，使得附著于過濾器的氧化硅板分散于1，4-二氯丁烷中。這樣，調(diào)制成部件分散液?！垂伟濉档谝还伟?10的下表面具備長度為20mm、寬度為0.5mm的狹縫。為了穩(wěn)定地保持水，在狹縫內(nèi)放入含水的脫脂棉。第二刮板520為聚乙烯制的刮刀。<配置方法>如圖7B所不,第一刮板510和第二刮板520配置于基板100的一端側(cè)。在第二刮板520的前方，通過玻璃吸液管配置具有大約50 μ L的體積的部件分散液600。第一刮板510的下表面與基板100的間隔，維持為大約0.2mm。第二刮板520的下表面與基板100的間隔，也維持為大約0.2mm。第一刮板510與第二刮板520的間隔維持為1mm。之后，以IOmm/秒的速度使第一刮板510和第二刮板520在+X方向移動。該操作
重復(fù)10次。對配置到基板100氧化硅板的配置狀態(tài)通過顯微鏡進行觀察。具體而言，選擇42處親水性主體區(qū)域111。從選擇的42處親水性主體區(qū)域111之中，統(tǒng)計出正確配置I個氧化硅板的親水性主體區(qū)域的數(shù)量(Np)。進而，統(tǒng)計出配置有多個氧化硅板的親水性主體區(qū)域的數(shù)量(NI)。也統(tǒng)計出傾斜配置有I個氧化硅板的親水性主體區(qū)域的數(shù)量(N2)。Ne為NI和N2之和。參照后述的表I。(實施例2 實施例5，和比較例I 比較例6)為了決定D1/D2的值的范圍，對實施例2 5和比較例I 比較例6進行實施。在實施例2 實施例5和比較例I 4中，進行形成有具有表I所示的Dl的值的親水性主體區(qū)域111和親水性線112、除此之外與實施例1同樣的實驗。在比較例5中，根據(jù)專利文獻2所記載的方法進行與實施例1同樣的實驗。(參照圖9A。參照標記113表示親水性主體區(qū)域。參照標記114表示親水性線。)比較例6中，進行除了未形成有親水性線112以外與實施例1同樣的實驗。表I示實施例1 5和比較例I 6的Np和Ne的值。表I
D1/D2 Dl D2 D3 D5
_____ Np Mc Nc/Np
__(微米)____
實施例1 0.10 220 20 IW 202 0.10
實施例 2 0.20 420100 254 0.16
實施例 3 0.40 820 20 100 284 0.14
實施例 4 0.80 16 20 20 100 233 0.13
|-0182] 實施例 5 1.20 ，4 20 20 100 223 0.14
比較例 I 0.05 I20 20 100 122 0.17
比較例 2 1.60 32 20 20 100 105 0.50
比較例 3 2.00 40 20 20 100 112 0.18
比較例 4 2 4U 48 20 20 IUU 123 0.25
比較例5在基板的一端側(cè)形成300條親水性線153 0.20
比較例6未形成112 0.18如表I所示，實施例1 5的Np的值為20 28。另一方面，比較例I 6的Np的值為10 15。這表示，在設(shè)置有親水性線112、且D1/D2的值為0.10以上1.20以下時，部件400配置于親水性主體區(qū)域111的概率提高。(實施例6 實施例21，和比較例7 比較例15)為了決定D3和D5的值，對實施例6 實施例21，和比較例7 比較例15進行實施。在實施例6 實施例2 1和比較例7 15中，進行形成有具有表2所示的Dl D5的值的親水性主體區(qū)域111和親水性線112、除此之外與實施例1同樣的實驗。在比較例11
中，如圖9B所示，D5的值為O。表2
權(quán)利要求
1.一種將部件配置在基板上的方法，其特征在于，包括以下工序: 準備所述基板、第一液體和部件分散液的工序(a)，其中 所述基板具備憎水性區(qū)域和多個親水性區(qū)域， 所述憎水性區(qū)域包圍所述多個親水性區(qū)域， 各所述親水性區(qū)域具備親水性主體區(qū)域和親水性線， 所述親水性線相互平行地配置， Y方向為所述多個親水性線的平行方向， Z方向為所述基板的法線方向， +X方向是與所述Y方向和所述Z方向中的任一個都正交的方向， -X方向是所述+X方向的反方向， 所述多個親水性區(qū)域沿所述+X方向和所述Y方向配置， 各所述親水性區(qū)域中包含的所述親水性線和所述親水性主體區(qū)域沿所述+X方向以該順序進行配置， 所述親水性主體區(qū)域和所述親水性線，沿所述+X方向交替配置， Dl表示各所述親水性區(qū)域中包含的所述親水性主體區(qū)域和所述親水性線之間的沿所述+X方向的間隔， D2表示所述親水性主體區(qū)域的沿所述Y方向的長度， D3表示所述親水性線的沿所述Y方向的長度， D4表示所述親水性線的寬度， D5表示沿所述Y方向配置的2個相鄰的所述親水性線之間的間隔， D1/D2的值為0.1以上1.2以下， D3的值為5微米以上， D4的值比所述部件的最小長度小， D5的值為10微米以上， 所述第一液體為親水性， 所述部件分散液包含所述部件和第二液體， 所述第二液體不溶解于所述第一液體， 所述部件具備親水性的表面； 將所述第一液體連續(xù)地沿所述+X方向涂敷在所述基板上，將所述第一液體在所述親水性線和所述親水性主體區(qū)域交替地沿所述+X方向配置的工序(b)； 使所述部件分散液與在所述親水性主體區(qū)域配置的所述第一液體接觸的工序(c);和通過從所述基板除去所述第一液體和所述第二液體，將所述部件配置于所述親水性主體區(qū)域的工序(d)。
2.如權(quán)利要求1所述的將部件配置在基板上的方法，其特征在于: 在所述工序(b)中，一邊使用第一刮板在所述基板連續(xù)地涂敷所述第一液體，一邊使所述第一刮板沿所述+X方向移動。
3.如權(quán)利要求1所述的將部件配置在基板上的方法，其特征在于: 在所述工序(b)中，一邊使用第一刮板在所述基板連續(xù)地涂敷所述第一液體，一邊使所述基板沿所述-X方向移動。
4.如權(quán)利要求2所述的將部件配置在基板上的方法，其特征在于:在所述工序(b)中，使所述基板沿所述-X方向移動。
5.如權(quán)利要求1所述的將部件配置在基板上的方法，其特征在于:所述 第一液體是水。
全文摘要
本發(fā)明為一種將部件配置在基板(100)上的方法，具備以下的工序準備基板(100)、第一液體和部件分散液的工序(a)；將第一液體在基板(100)上連續(xù)地沿+X方向涂敷，將第一液體在親水性線(112)和親水性主體區(qū)域(111)交替地沿+X方向配置的工序(b)；使部件分散液與在親水性主體區(qū)域(111)配置的第一液體接觸的工序(c)；和通過從基板(100)除去第一液體和第二液體，將部件配置于親水性主體區(qū)域(111)的工序(d)。
文檔編號H01L21/52GK103238209SQ201280003920
公開日2013年8月7日 申請日期2012年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月18日
發(fā)明者荒瀬秀和 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社