有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【專利摘要】一種有機(jī)電致發(fā)光器件，包括依次層疊的散射層、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及陰極，所述陽極為銦錫氧化物玻璃、鋁鋅氧化物玻璃或銦鋅氧化物玻璃，所述散射層由二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%～15%。上述有機(jī)電致發(fā)光器件的出光效率較高。本發(fā)明還提供一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法。
【專利說明】有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光原理是基于在外加電場(chǎng)的作用下，電子從陰極注入到有機(jī)物的最低未占有分子軌道(LUMO)，而空穴從陽極注入到有機(jī)物的最高占有軌道(HOMO)。電子和空穴在發(fā)光層相遇、復(fù)合、形成激子，激子在電場(chǎng)作用下遷移，將能量傳遞給發(fā)光材料，并激發(fā)電子從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，激發(fā)態(tài)能量通過輻射失活，產(chǎn)生光子，釋放光能。
[0003]在傳統(tǒng)的發(fā)光器件中，器件內(nèi)部的光只有18%左右是可以發(fā)射到外部去的，而其他的部分會(huì)以其他形式消耗在器件外部，界面之間存在折射率的差(如玻璃與ITO之間的折射率之差，玻璃折射率為1.5，ITO為1.8，光從ITO到達(dá)玻璃，就會(huì)發(fā)生全反射)，引起了全反射的損失，從而導(dǎo)致整體出光性能較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于此，有必要提供一種出光效率較高的有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。
[0005]—種有機(jī)電致發(fā)光器件，包括依次層疊的散射層、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及陰極，所述陽極為銦錫氧化物玻璃、鋁鋅氧化物玻璃或銦鋅氧化物玻璃，所述散射層由 二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%~15%。
[0006]在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述散射層的厚度為5μm~30μηι。
[0007]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm。
[0008]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述氧化鋅的粒徑為20nnTl00nm。
[0009]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光層的材料選自4- (二腈甲基)-2- 丁基-6-( I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9，10- 二 - β -亞萘基蒽、4，4’ -雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1， -聯(lián)苯及8-羥基喹啉鋁中的至少一種。
[0010]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0011]在陽極的背面蒸鍍制備散射層，所述陽極為銦錫氧化物玻璃、鋁鋅氧化物玻璃或銦鋅氧化物玻璃，所述散射層由二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%~15% ;及
[0012]在所述陽極的正面依次蒸鍍形成空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及陰極。
[0013]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述散射層的厚度為5 μ m~30 μ m。
[0014]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm，所述氧化鋅的粒徑為20nnTl00nm。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述散射層的制備是將所述二氧化鈦和所述氧化鋅溶解在溶劑中，形成懸浮液。所述懸浮液中還含有乙酰丙酮和曲拉通，所述懸浮液中所述二氧化鈦占溶劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為15%~45%，所述乙酰丙酮的用量為2ml~20ml，所述曲拉通的用量為1ml~5ml，將所述懸浮液刮涂在所述陽極的背面，并在300°C飛00°C下煅燒20分鐘~60分鐘。
[0016]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述溶劑為水、乙醇、異丙醇或正丁醇。
[0017]上述有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法，通過在陽極背面制備摻雜有氧化鋅的二氧化鈦?zhàn)鳛樯⑸鋵樱?jīng)過高溫煅燒后，二氧化鈦形成銳礦結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)空隙率高，比表面積大，具有納米網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，可對(duì)光進(jìn)行散射，提高出光效率，并且，氧化鋅是高度結(jié)晶的材料，晶體內(nèi)分子排列整齊，使光通過該結(jié)構(gòu)時(shí)加強(qiáng)散射能力，進(jìn)一步提高出光率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法的流程圖；
[0020]圖3為實(shí)施例1制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的電壓與亮度關(guān)系圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法進(jìn)一步闡明。
[0022]請(qǐng)參閱圖1，一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光器件100包括依次層疊的散射層層10、陽極30、空穴注入層40、空穴傳輸層50、發(fā)光層60、電子傳輸層70及陰極80。
[0023]陽極30為銦錫氧化物玻璃(ΙΤ0)、鋁鋅氧化物玻璃(AZO)或銦鋅氧化物玻璃(ΙΖ0)，優(yōu)選為ΙΤ0。陽極30的一面形成有導(dǎo)電層，形成有導(dǎo)電層的一面為正面，沒有形成導(dǎo)電層的一面為背面。散射層10形成于陽極30的背面，空穴注入層40、空穴傳輸層50、發(fā)光層60、電子傳輸層70及陰極80形成于陽極30的正面。
[0024]散射層10由二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%~15%，散射層10的厚度為5 μ m-30 μ m, 二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm，氧化鋅的粒徑為 20nm~lOOnm。
[0025]空穴注入層40的材料選自三氧化鑰(Mo03)、三氧化鎢(WO3)及五氧化二釩(V2O5)中的至少一種，優(yōu)選為V2O5?？昭ㄗ⑷雽?0的厚度為20nnT80nm。優(yōu)選30nm。
[0026]空穴傳輸層50的材料選自I, 1-二 [4_[N,N' -二(p-甲苯基)氨基]苯基]環(huán)己烷(TAPC)、4，4’，4〃 -三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)及 N，N’- (1-萘基)-N，N’- 二苯基-4，4’-聯(lián)苯二胺(NPB)中的至少一種，優(yōu)選為TCTA?？昭▊鬏攲?0的厚度為20nnT60nm，優(yōu)選為40nm。
[0027]發(fā)光層60的材料選自4- (二腈甲基)-2- 丁基-6- (1，1，7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB),9, 10- 二 - β -亞萘基蒽(ADN)、4，4’ -雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1，I’-聯(lián)苯(BCzVBi)及8-羥基喹啉鋁(Alq3),優(yōu)選為DCJTB。發(fā)光層60的厚度為5nm~40nm,優(yōu)選為7nm。
[0028]電子傳輸層70的材料選自4，7- 二苯基-1，10-菲羅啉(Bphen)、1，2，4_三唑衍生物(如TAZ)及N-芳基苯并咪唑(TPBI)中的至少一種，優(yōu)選為Bphen。電子傳輸層70的厚度為40nm~80nm,優(yōu)選為60nm。
[0029]陰極80的材料選自銀(Ag)、鋁(Al)、鉬(Pt)及金(Au)中的至少一種，優(yōu)選為Al。陰極80的厚度為80nnT250nm，優(yōu)選為lOOnm。
[0030]上述有機(jī)電致發(fā)光器件100，通過在陽極30背面制備摻雜有氧化鋅的二氧化鈦?zhàn)鳛樯⑸鋵?0，經(jīng)過高溫煅燒后，二氧化鈦形成銳礦結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)空隙率高，比表面積大，具有納米網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，可對(duì)光進(jìn)行散射，提高出光效率，并且，氧化鋅是高度結(jié)晶的材料，晶體內(nèi)分子排列整齊，使光通過該結(jié)構(gòu)時(shí)加強(qiáng)散射能力，進(jìn)一步提高出光率。
[0031]可以理解，該有機(jī)電致發(fā)光器件100中也可以根據(jù)需要設(shè)置其他功能層。
[0032]請(qǐng)同時(shí)參閱圖2，一實(shí)施例的有機(jī)電致發(fā)光器件100的制備方法，其包括以下步驟:
[0033]步驟S110、在陽極30的背面蒸鍍制備散射層10。
[0034]陽極30為銦錫氧化物玻璃(IT0)、鋁鋅氧化物玻璃(AZO)或銦鋅氧化物玻璃(IZ0)，優(yōu)選為IT0。陽極30的一面形成有導(dǎo)電層，形成有導(dǎo)電層的一面為正面，沒有形成導(dǎo)電層的一面為背面。
[0035]本實(shí)施方式中，在陽極30的背面蒸鍍散射層10之前先對(duì)陽極30進(jìn)行預(yù)處理。對(duì)陽極30預(yù)處理為:將陽極30先進(jìn)行光刻處理，剪裁成所需要的大小后，依次采用洗潔精、去離子水、丙酮、乙醇、異丙酮各超聲波清洗15min，以去除陽極30表面的有機(jī)污染物。[0036]散射層10的制備是將所述二氧化鈦和所述氧化鋅溶解在溶劑中，形成懸浮液。所述懸浮液中還含有乙酰丙酮和曲拉通，懸浮液中二氧化鈦占溶劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為15%~45%，乙酰丙酮的用量為2ml~20ml，曲拉通的用量為Iml~5ml，將所述懸浮液刮涂在所述陽極的背面，并在300°C飛00°C下煅燒20分鐘飛O分鐘。
[0037]優(yōu)選的，散射層的厚度為5 μ πM30 μ m。
[0038]優(yōu)選的，二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm,氧化鋅的粒徑為20nnTl00nm。
[0039]優(yōu)選的，溶劑為水、乙醇、異丙醇或正丁醇。
[0040]步驟S130、在陽極30的正面依次蒸鍍形成空穴注入層40、空穴傳輸層50、發(fā)光層60、電子傳輸層70及陰極80。
[0041]空穴注入層40由蒸鍍制備。空穴注入層40的材料選自三氧化鑰(Mo03)、三氧化鎢(WO3)及五氧化二釩(V2O5)中的至少一種，優(yōu)選為V205?？昭ㄗ⑷雽?0的厚度為20nnT80nm。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為2父10-%~5父10-^1，蒸鍍速率為0.lnm/s~10nm/s。
[0042]空穴傳輸層50由蒸鍍制備?？昭▊鬏攲?0的材料選自I, 1-二 [4_[N, N' -二(P-甲苯基)氨基]苯基]環(huán)己烷(TAPC)、4，4’，4〃 -三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)及N，N’ - (1-萘基)-N，N’ - 二苯基-4,4’-聯(lián)苯二胺(NPB)中的至少一種，優(yōu)選為TCTA?？昭▊鬏攲?0的厚度為20nnT60nm，優(yōu)選為40nm。蒸鍍時(shí)，2 X KT5Pa~5 X 10_3Pa，蒸鍍速率為
0.lnm/s~10nm/so
[0043]發(fā)光層60由蒸鍍制備。發(fā)光層60的材料選自4- (二腈甲基)_2_ 丁基-6- (I, 1,7, 7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB)、9，10-二-β-亞萘基蒽(ADN)、4，4’ -雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)_1，I’ -聯(lián)苯(BCzVBi)及8-羥基喹啉鋁(Alq3),優(yōu)選為DCJTB。發(fā)光層60的厚度為5nnT40nm，優(yōu)選的7nm。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為2 X 10 5Pa~5 X 10 3Pa,蒸鍍速率為 0.lnm/IOnm/s。
[0044]電子傳輸層70由蒸鍍制備。電子傳輸層70的材料選自4，7_ 二苯基-1，10-菲羅啉(Bphen)、l，2，4-三唑衍生物(如TAZ)及N-芳基苯并咪唑(TPBI)中的至少一種，優(yōu)選為Bphen。電子傳輸層70的厚度為40nnT80nm,優(yōu)選為60nm。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為2 X 10 5Pa?5 X 10 3Pa,蒸鍍速率為 0.lnm/IOnm/s。
[0045]陰極80由蒸鍍制備。陰極80的材料選自銀(Ag)、鋁(Al)、鉬(Pt)及金(Au)中的至少一種，優(yōu)選為Al。陰極80的厚度為80nnT250nm,優(yōu)選為lOOnm。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為2 X 10 5Pa?5 X 10 3Pa,蒸鍍速率為 0.lnm/IOnm/s。
[0046]上述有機(jī)電致發(fā)光器件制備方法，通過在陽極30背面制備摻雜有氧化鋅的二氧化鈦?zhàn)鳛樯⑸鋵?0，經(jīng)過高溫煅燒后，二氧化鈦形成銳礦結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)空隙率高，比表面積大，具有納米網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，可對(duì)光進(jìn)行散射，提高出光效率，并且，氧化鋅是高度結(jié)晶的材料，晶體內(nèi)分子排列整齊，使光通過該結(jié)構(gòu)時(shí)加強(qiáng)散射能力，進(jìn)一步提高有機(jī)電致發(fā)光器件的出光效率。
[0047]以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0048]本發(fā)明實(shí)施例及對(duì)比例所用到的制備與測(cè)試儀器為:高真空鍍膜設(shè)備(沈陽科學(xué)儀器研制中心有限公司，壓強(qiáng)〈IX 10_3Pa)、電流-電壓測(cè)試儀(美國(guó)Keithly公司，型號(hào):2602)、電致發(fā)光光譜測(cè)試儀(美國(guó)photo research公司，型號(hào):PR650)以及屏幕亮度計(jì)(北京師范大學(xué)，型號(hào):ST-86LA)。
[0049]實(shí)施例1
[0050]本實(shí)施例制備結(jié)構(gòu)為Ti02:Zn0/IT0玻璃/V205/TCTA/DCJTB/Bphen/Al的有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0051]先將ITO玻璃基底依次用洗潔精，去離子水，超聲15min，去除玻璃表面的有機(jī)污染物，然后在導(dǎo)電陽極基板背面(沒有導(dǎo)電層的一面)制備散射層，散射層為Ti02:Zn0，二氧化鈦的粒徑為IOOnm,氧化鋅的粒徑為50nm,稱取氧化鋅3.5g, 二氧化鈦35g,加入IOOg正丁醇，攪拌混合得到懸浮液，并加入分散劑乙酰丙酮10ml，乳化劑曲拉通2ml，玻璃棒刮涂法來回多次刮涂，刮涂后就直接在450°C下煅燒30分鐘，得到厚度為15 μ m的散射層，然后在導(dǎo)電陽極基板正面(具有導(dǎo)電層的一面)鍍空穴注入層:材料為V2O5，厚度為30nm;蒸鍍空穴傳輸層:材料為TCTA，厚度為40nm ;蒸鍍發(fā)光層:所選材料為DCJTB，厚度為7nm ;蒸鍍電子傳輸層，材料為Bphen,厚度為60nm ;蒸鍍陰極,材料為Al,厚度為IOOnm ;最后得到所需要的電致發(fā)光器件。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為5X10_5Pa，蒸鍍有機(jī)層的速率為0.2nm/s，蒸鍍陰極的速率為5nm/s。
[0052]請(qǐng)參閱圖3，所示為實(shí)施例1中制備的結(jié)構(gòu)為TiO2: ZnO/ITO玻璃/V205/TCTA/DCJTB/Bphen/Al的有機(jī)電致發(fā)光器件(曲線I)與對(duì)比例制備的結(jié)構(gòu)為ITO玻璃/V205/TCTA/DCJTB/Bphen/Al的有機(jī)電致發(fā)光器件(曲線2)的亮度與電壓的關(guān)系。對(duì)比例制備有機(jī)電致發(fā)光器件的步驟及各層厚度與實(shí)施例1均相同。
[0053]從圖上可以看到，實(shí)施例1的亮度都比對(duì)比例的要大，在10V時(shí)，實(shí)施例1的亮度為13056cd/m2，而對(duì)比例的僅為8107cd/m2，這就說明，通過在導(dǎo)電陽極基板反面制備散射層，可對(duì)光進(jìn)行強(qiáng)烈的散射，提高出光效率，而氧化鋅結(jié)晶化程度高，穩(wěn)定，晶體內(nèi)分子排列整齊，規(guī)整有序，可以使光在通過的時(shí)候，加強(qiáng)散射能力，更有利于提高出光效率。
[0054]以下各個(gè)實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的流明效率都與實(shí)施例1相類似，各有機(jī)電致發(fā)光器件也具有類似的流明效率，在下面不再贅述。
[0055]實(shí)施例2[0056]本實(shí)施例制備結(jié)構(gòu)為Ti02:Zn0/AZ0玻璃/Mo03/TAPC/Alq3/TPBi/Au的有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0057]先將AZO玻璃基底依次用洗潔精，去離子水，超聲15min，去除玻璃表面的有機(jī)污染物，然后在導(dǎo)電陽極基板背面(沒有導(dǎo)電層的一面)制備散射層，散射層為Ti02:Zn0，二氧化鈦的粒徑為200nm,氧化鋅的粒徑為20nm,稱取氧化鋅2.25g, 二氧化鈦15g,加入IOOg水，攪拌混合得到懸浮液，并加入分散劑乙酰丙酮2ml，乳化劑曲拉通5ml，玻璃棒刮涂法來回多次刮涂，刮涂后就直接在500°C下煅燒20分鐘，得到厚度為30 μ m的散射層，然后在導(dǎo)電陽極基板正面(具有導(dǎo)電層的一面)蒸鍍空穴注入層:材料為MoO3，厚度為20nm;蒸鍍空穴傳輸層:材料為TAPC，厚度為60nm ;蒸鍍發(fā)光層:所選材料為Alq3,厚度為40nm ;蒸鍍電子傳輸層，材料為TPBi，厚度為75nm ;蒸鍍陰極，材料為Au，厚度為SOnm ;最后得到所需要的電致發(fā)光器件。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為5X10_3Pa，蒸鍍有機(jī)層的速率為lnm/s，蒸鍍陰極的速率為 lnm/sο
[0058]實(shí)施例3
[0059]本實(shí)施例制備結(jié)構(gòu)為TiO2: ZnO/ITO玻璃/W03/NPB/AND/TAZ/Pt的有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0060]先將ITO玻璃基底依次用洗潔精，去離子水，超聲15min，去除玻璃表面的有機(jī)污染物，然后在導(dǎo)電陽極基板背面(沒有導(dǎo)電層的一面)制備散射層，散射層為Ti02:Zn0，二氧化鈦的粒徑為20nm,氧化鋅的粒徑為IOOnm,稱取氧化鋅2.25g, 二氧化鈦45g,加入IOOg乙醇，攪拌混合得到懸浮液，并加入分散劑乙酰丙酮20ml，乳化劑曲拉通5ml，玻璃棒刮涂法來回多次刮涂，刮涂后就直接在300°C下煅燒60分鐘，得到厚度為5 μ m的散射層，然后在導(dǎo)電陽極基板正面(具有導(dǎo)電層的一面)蒸鍍空穴注入層:材料為WO3，厚度為55nm ;蒸鍍空穴傳輸層:材料為NPB，厚度為45nm ;蒸鍍發(fā)光層:所選材料為AND，厚度為12nm ;蒸鍍電子傳輸層，材料為TAZ，厚度為50nm ;蒸鍍陰極，材料為Pt，厚度為IOOnm ;最后得到所需要的電致發(fā)光器件。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為2 X10_5Pa，蒸鍍有機(jī)層的速率為0.lnm/s，蒸鍍陰極的速率為 10nm/s。
[0061]實(shí)施例4
[0062]本實(shí)施例制備結(jié)構(gòu)為Ti02:Zn0/IZ0玻璃/Mo03/TCTA/BCzVBi/Bphen/Ag的有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0063]先將IZO玻璃基底依次用洗潔精，去離子水，超聲15min，去除玻璃表面的有機(jī)污染物，然后在導(dǎo)電陽極基板背面(沒有導(dǎo)電層的一面)制備散射層，散射層為Ti02:Zn0，二氧化鈦的粒徑為150nm,氧化鋅的粒徑為80nm,稱取氧化鋅3.6g, 二氧化鈦20g,加入IOOg乙醇，攪拌混合得到懸浮液，并加入分散劑乙酰丙酮8ml，乳化劑曲拉通3.5ml，玻璃棒刮涂法來回多次刮涂，刮涂后就直接在450°C下煅燒40分鐘，得到厚度為20 μ m的散射層，然后在導(dǎo)電陽極基板正面(具有導(dǎo)電層的一面)蒸鍍空穴注入層:材料為MoO3，厚度為SOnm ;蒸鍍空穴傳輸層:材料為TCTA，厚度為60nm ;蒸鍍發(fā)光層:所選材料為BCzVBi，厚度為40nm ;蒸鍍電子傳輸層，材料為Bphen,厚度為35nm ;然后蒸鍍陰極,材料為Ag,厚度為250nm ;最后得到所需要的電致發(fā)光器件。蒸鍍時(shí)，壓強(qiáng)為4X 10_4Pa，蒸鍍有機(jī)層的速率為0.4nm/s，蒸鍍陰極的速率為8nm/s。
[0064]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，包括依次層疊的散射層、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及陰極，所述陽極為銦錫氧化物玻璃、鋁鋅氧化物玻璃或銦鋅氧化物玻璃，所述散射層由二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%?15%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述散射層的厚度為5 μ m?30 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述氧化鋅的粒徑為20nnTl00nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述發(fā)光層的材料選自4- (二腈甲基)-2- 丁基-6- (1，1，7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9，10- 二 - β -亞萘基蒽、4，4’ -雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1，I’ -聯(lián)苯及8-羥基喹啉鋁中的至少一種。
6.一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 在陽極的背面蒸鍍制備散射層，所述陽極為銦錫氧化物玻璃、鋁鋅氧化物玻璃或銦鋅氧化物玻璃，所述散射層由二氧化鈦和氧化鋅組成，所述氧化鋅占二氧化鈦的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%?15% ;及 在所述陽極的正面依次蒸鍍形成空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層及陰極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于:所述散射層的厚度為5 μ m?30 μ m。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于:所述二氧化鈦的粒徑為20nnT200nm,所述氧化鋅的粒徑為20nnTl00nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于:所述散射層的制備是將所述二氧化鈦和所述氧化鋅溶解在溶劑中，形成懸浮液。所述懸浮液中還含有乙酰丙酮和曲拉通，所述懸浮液中所述二氧化鈦占溶劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為15%?45%，所述乙酰丙酮的用量為2ml?20ml,所述曲拉通的用量為Iml?5ml,將所述懸浮液刮涂在所述陽極的背面，并在300°C?500°C下煅燒20分鐘?60分鐘。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于:所述溶劑為水、乙醇、異丙醇或正丁醇。
【文檔編號(hào)】H01L51/50GK103682127SQ201210319828
【公開日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2012年8月31日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月31日
【發(fā)明者】周明杰, 王平, 黃輝, 陳吉星 申請(qǐng)人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司