專利名稱：制造有機發(fā)光顯示裝置的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例涉及制造有機發(fā)光顯示裝置的方法。
背景技術(shù)：
通常，寬視角、高對比度和快速的響應是有機發(fā)光顯示裝置相對于其它顯示裝置所具有的優(yōu)點。有機發(fā)光顯示裝置基于通過使分別從陽極和陰極注入到發(fā)光層中的空穴和電子 復合而發(fā)射光的原理來實現(xiàn)顏色。有機發(fā)光顯示裝置具有發(fā)光層形成在陽極和陰極之間的結(jié)構(gòu)。另外，因為通過這樣的結(jié)構(gòu)可能獲得不了高發(fā)光效率，所以通常分別在陽極與發(fā)光層之間以及陰極與發(fā)光層之間形成諸如空穴注入-傳輸層和電子注入-傳輸層的中間層。有機發(fā)光顯示裝置的電極、包括電極的薄膜以及發(fā)光層通常通過沉積工藝形成。換言之，在準備具有與要形成的薄膜相同的圖案的掩模并在基底上布置掩模之后，通過沉積用于形成薄膜的材料來形成具有期望的圖案的薄膜。在上述沉積工藝中使用的掩模的類型是用于精細圖案化的精細金屬掩模(FMM)和開口掩模，F(xiàn)MM允許在顯示區(qū)域中的預定區(qū)域上進行沉積，開口掩模用于在整個顯示區(qū)域上形成公共薄膜。例如，對于發(fā)光層，當需要在顯示區(qū)域中的規(guī)定位置上精確地沉積薄膜層時，使用FMM。對于空穴注入-傳輸層和電子注入-傳輸層，當需要在整個顯示區(qū)域上沉積公共薄膜層時，使用具有整個開口區(qū)域的開口掩模。自然地，在開口掩模的情況下，不需要與FMM具有相同水平的精確度的高精確度圖案。然而，雖然不需要高精確度，當使用開口掩模時，必須提供用于運送、對準和清洗(在沉積后)開口掩模的設備，每當執(zhí)行沉積工藝時，必須執(zhí)行使用這些設備的運送、對準和清洗。因此，在相對簡單地使用開口掩模方面，工作量大。此外，近來，隨著有機發(fā)光顯示裝置的尺寸增大，相應的開口掩模的尺寸也增大。因此，大開口掩模的運送也需要大的工作量。因此，增加的工作量會導致產(chǎn)率降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供了一種制造有機發(fā)光顯示裝置的方法，其中，可以在不使用伴隨有大工作量的大開口掩模的情況下沉積公共薄膜層。根據(jù)本發(fā)明實施例的一方面，提供了一種制造有機發(fā)光顯示裝置的方法，所述方法包括在基底的除了所述基底的顯示區(qū)域之外的區(qū)域上形成沉積阻擋膜；通過在其上形成有所述沉積阻擋膜的所述基底上進行沉積來在所述顯示區(qū)域中形成公共薄膜層；以及在沉積完成后從所述基底去除所述沉積阻擋膜。
所述沉積阻擋膜可以包括粘合膜，所述粘合膜能夠結(jié)合到所述基底的除了所述顯示區(qū)域之外的區(qū)域并能夠與所述基底的除了所述顯示區(qū)域之外的區(qū)域分離。形成沉積阻擋膜的步驟可以包括準備材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜；沿與所述基底緊密接觸而旋轉(zhuǎn)的壓輥的外圓周移動所述材料膜；通過使所述材料膜在所述壓輥和所述基底之間穿過來將所述粘合膜附著到所述基底；以及通過在附著到所述基底的所述材料膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來從所述粘合膜去除所述基片。形成沉積阻擋膜的步驟可以包括準備材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜；將所述材料膜的邊緣結(jié)合到中心區(qū)域被暴露的外框架構(gòu)件；在將所述外框架構(gòu)件放置在所述基底上之后通過使用壓輥按壓所述材料膜來將所述粘合膜附著到所述基底；以及通過在附著到所述基底的所述材料膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來將所述基片從所述粘合膜移開。 去除沉積阻擋膜的步驟可以包括通過在附著到所述基底的所述粘合膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來將所述粘合膜從所述基片移開。所述方法還可以包括使所述粘合膜的附著點和所述基底的附著點對準。對準結(jié)合點的步驟可以包括分別在所述粘合膜和所述基底上形成對準標記；以及通過使用相機檢驗所述對準標記的對準來對準所述粘合膜和所述基底的結(jié)合點。所述沉積阻擋膜可以包括涂覆膜。形成沉積阻擋膜的步驟可以包括將涂覆材料涂覆在所述基底上；以及通過干燥涂覆的涂覆材料來形成所述涂覆膜。去除沉積阻擋膜的步驟可以包括通過在形成在所述基底上的所述涂覆膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來將所述粘合膜從所述基片移開。所述公共薄膜層可以包括空穴注入-傳輸層、電子注入-傳輸層、面對像素電極的相對電極和密封所述顯示區(qū)域的薄膜密封層中的至少一種，所述空穴注入-傳輸層用于將空穴供給到包括在所述顯示區(qū)域中的每個像素中的發(fā)光層，所述電子注入-傳輸層用于將電子供給到所述發(fā)光層，所述發(fā)光層設置在所述相對電極和所述像素電極之間。如上所述，按照根據(jù)本發(fā)明實施例的制造有機發(fā)光顯示裝置的方法，因為可以在不使用開口掩模的情況下容易地沉積公共薄膜層，所以簡化了制造工藝，相應地，提高了產(chǎn)率。


通過參照附圖詳細地描述示例性實施例，本發(fā)明實施例的以上和其它特征及方面將變得更加明顯，在附圖中圖I是根據(jù)本發(fā)明實施例的有機發(fā)光顯示裝置的示意性剖視圖；圖2A和圖2B是根據(jù)本發(fā)明實施例的可附于沉積阻擋膜和可與沉積阻擋膜分離的基底的透視圖；圖3是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的在圖2A和圖2B中示出的實施例的基底上進行沉積的狀態(tài)的示意圖；圖4A至圖4C是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的形成并去除在圖2A和圖2B中示出的實施例的沉積阻擋膜的工藝的示意圖；圖5A至圖5C是示出根據(jù)本發(fā)明另一實施例的形成并去除在圖2A和圖2B中示出的實施例的沉積阻擋膜的工藝的示意圖；圖6A至圖6B是示出根據(jù)本發(fā)明又一實施例的形成并去除在圖2A和圖2B中示出的實施例的沉積阻擋膜的工藝的示意圖。
具體實施例方式在下文中，將參照附圖更充分地描述本發(fā)明的實施例，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實施例。
圖I是根據(jù)本發(fā)明實施例的有機發(fā)光顯示裝置的示意性剖視圖。有機發(fā)光顯示裝置具有這樣的結(jié)構(gòu)，S卩，作為陽極的像素電極202、空穴注入-傳輸層203、發(fā)光層204、電子注入-傳輸層205、作為陰極的相對電極206和薄膜密封層207以所述順序依次堆疊在基底200上。雖然未示出，但在基底200上形成電結(jié)合到像素電極202的薄膜晶體管(TFT)(未示出)，當電流由于來自TFT的信號而在像素電極202和相對電極206之間流動時，在發(fā)光層204中發(fā)生光發(fā)射。薄膜密封層207是防止?jié)駳獯┩傅接袡C發(fā)光顯示裝置中的保護層，并具有有機膜207a和無機膜207b交替地堆疊的結(jié)構(gòu)。這里,空穴注入-傳輸層203、電子注入-傳輸層205、相對電極206和薄膜密封層207是形成在整個顯示區(qū)域210上的公共薄膜層。因此，發(fā)光層204必須精確地形成在與像素對應的位置。因此，通過使用允許精確圖案化的FMM來形成發(fā)光層204。然而，因為上述公共薄膜層需要只是均勻地沉積在整個顯示區(qū)域210上，所以像用于發(fā)光層204的精確圖案化一樣的精確圖案化是不必要的。因此，在本實施例中，為了更簡單地形成公共薄膜層，如在圖2A和圖2B中所示，作為沉積阻擋膜的粘合膜100附于基底200。換言之，如上所述，金屬開口掩模傳統(tǒng)上用于形成公共薄膜層，對金屬開口掩模的管理需要的工作量增加。然而，在本實施例中，如在圖2A和圖2B中所示，粘合膜100附于基底200，以用作掩模，由此極大地減少工作量。換言之，因為傳統(tǒng)的金屬開口掩模每次都必須移動、對準和清洗，所以其難以管理，代替使用傳統(tǒng)的金屬開口掩模，將作為沉積阻擋膜的粘合膜100附著到基底200上的與顯示區(qū)域210分開的剩余區(qū)域220，并且如圖3所示，執(zhí)行來自沉積源300的材料的沉積，然后在整個顯示區(qū)域210上容易地形成公共薄膜層。然后，在沉積完成之后，從基底200去除粘合膜100。根據(jù)本發(fā)明的實施例，基底200可以是其上僅形成有一個顯示區(qū)域210的單個單位單元基底。然而，如在圖2A和圖2B中示出的，基底200可以是其上形成有多個顯示區(qū)域210的多單元基底。在任一情況下，當暴露將執(zhí)行沉積的顯示區(qū)域210，并通過附著粘合膜100來擋住剩余區(qū)域220時，可以容易地形成公共薄膜層而沒有使用難以管理的金屬開口掩模。在圖4A和圖4B中示出了將粘合膜100附著到基底200的工藝。首先，將粘合膜100與基片110結(jié)合，從而以材料膜105的形式形成為一體。如圖4A所示，材料膜105沿著與基底200緊密接觸而旋轉(zhuǎn)的壓輥400的外圓周移動，當材料膜105在基底200和壓輥400之間穿過時，粘合膜100附著到基底200。輸送輥(例如，輸送機輥)410和420的設置是示例性的，因此可以以各種方式改變。例如，類似于在圖4A中示出的輸送輥410，如果在基底200之前存在接觸材料膜105的粘合膜100的輸送輥，則可以通過對輸送輥執(zhí)行適當?shù)耐扛蔡幚韥矸乐拐澈夏?00粘附到相應的輸送輥。因此，根據(jù)本發(fā)明的不同實施例，可以將輸送輥410和420設置在各種位置。在主要的附著操作開始之前，可以使用相機500執(zhí)行對準操作。換言之，如圖4A所示，首先使用相機500檢查分別形成在粘合膜100和基底200上的對準標記101和201 (見圖2A)，以確定它們是否彼此充分地對準，如果需要，則通過控制基底200來對準粘合膜100的附著位置。然后，如圖4B所示，執(zhí)行主要的附著操作。在其外圓周上具有粘合力的移除輥430使基片110恢復在壓輥400的后端上。換言之，作為經(jīng)由粘合膜100附著到基底200的材料膜105的上片的基片110由于粘合力而與粘合膜100分離，并恢復。一旦基片110的端部由于粘合力而開始卷繞在移除輥430上，基片110由于移除輥430的卷繞力而繼續(xù)被牽拉并與粘合膜100分離。 以這種方式，如圖2B所示，準備了由于粘合膜100而僅暴露顯示區(qū)域210的基底200。當以這種情形執(zhí)行沉積工藝時，如圖3所示，在顯示區(qū)域210中形成期望的公共薄膜層。然后，為了移除粘合膜100，如圖4C所示，再使用移除輥430。換言之，當在其外圓周上具有粘合力的移除輥430對著粘合膜100緊密地卷動時，粘合膜100通過附著到移除輥430的外圓周而從基底200移開。因此，可以通過將粘合膜100附著到基底200并將粘合膜100與基底200分離的簡單操作而不是使用難以管理的開口掩模來容易地形成公共薄膜層。公共薄膜層可以是空穴注入-傳輸層203、電子注入-傳輸層205、相對電極206和/或薄膜密封層207，并可以在形成所有公共薄膜層之后移除粘合膜100。明顯地，在形成有機發(fā)光顯示裝置的過程中，使用FMM(未示出)執(zhí)行精確的圖案化，以形成發(fā)光層204。然而，發(fā)光層204形成在顯示區(qū)域210中的像素位置上。因此，當將粘合膜100附于基底200時，可以形成用于形成發(fā)光層204的圖案。因此，如上所述，當根據(jù)本發(fā)明的實施例使用利用粘合膜100的方法時，可以容易地沉積公共薄膜層而無需使用難以管理的開口掩模。因此，可以使制造簡化，因此提高了產(chǎn)率。在以上實施例中，沿壓輥400的外圓周移動的材料膜105附著到基底200。然而，如圖5A和圖5B所示，當粘合膜100固定在外框架構(gòu)件600上時，粘合膜100可以附著到基底200。換言之，材料膜105的邊緣與中心區(qū)域被暴露的外框架構(gòu)件600結(jié)合，并且如圖5A所示，得到的結(jié)構(gòu)置于基底200上。然后，通過利用壓輥401按壓材料膜105來將材料膜105附著到基底200。結(jié)果，材料膜105的粘合膜100的一面粘附到基底200。在使用壓輥401之前，可以使用相機500執(zhí)行對準操作。換言之，使用相機500檢查分別形成在粘合膜100和基底200上的對準標記101和201 (見圖2A)，以確定它們是否彼此對準，如果需要，則通過控制基底200來對準粘合膜100的附著位置。然后，通過使用壓輥401來執(zhí)行主要的附著操作。然后，如圖5B所示，在使用移除輥430分離基片110之后，準備了通過粘合膜100僅暴露顯示區(qū)域210的基底200,如圖2B所示。在這種情況下,如圖3所示，當執(zhí)行沉積工藝時，在顯示區(qū)域210中形成期望的公共薄膜層。在沉積完成之后，如圖5C所示，通過再次使用移除輥430將粘合膜100從基底200移除。因此，可以通過使用根據(jù)本實施例的方法容易地形成公共薄膜層。作為本發(fā)明的另一實施例，如圖6A和圖6B所示，可以使用涂覆膜700作為沉積阻擋膜。換言之，通過印刷方法或分配方法在基底200上的除了顯示區(qū)域210之外的區(qū)域(例如，剩余區(qū)域220)上涂覆涂覆膜700，在干燥涂覆膜700之后，形成上面描述的用作粘合膜100的沉積阻擋膜。當如圖3所示使用涂覆膜700執(zhí)行沉積操作時，可以在顯示區(qū)域210中形成期望的公共薄膜層。在完成沉積之后，如圖6B所示，使用在其外圓周上具有粘合力的移除輥431將涂覆膜700從基底200去除。這里，本實施例的移除輥431可以具有比在之前的實施例中使用的移除輥430的直徑大的直徑。這是因為在之前的實施例中，移除輥430將結(jié)合為一體的基片110或粘合膜100分離，一旦基片110和粘合膜100中每個的邊緣粘附到移除輥430，基片110和粘合膜100便由于移除輥430的卷繞力而分離。然而，在本實施例中，待分離的目標是通過印刷方法或分配方法形成的涂覆膜700，因此，當僅利用邊緣的粘附執(zhí) 行卷繞時，整個涂覆膜700可能會被牽拉，并且可能不分離(例如，涂覆膜700可能不像粘合膜100和基片110那樣能夠承受相同程度的拉力，由此阻礙了從基底200的有效移除)。因此，安全的是，使用外圓周長度比待分離的涂覆膜700的外圓周長度大的移除輥431。因此，可以在不使用開口掩模的情況下通過使用根據(jù)本實施例的方法容易地形成公共薄膜層。如上所述，當使用根據(jù)本發(fā)明實施例的制造有機發(fā)光顯示裝置的方法時，可以在不使用需要增加的工作量的開口掩模的情況下容易地形成公共薄膜層。因此，可以極大地提高工作能力和產(chǎn)率。雖然已經(jīng)參照本發(fā)明的示例性實施例具體示出并描述了本發(fā)明的實施例，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應當理解，在不脫離如權(quán)利要求及其等價物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以在此做出形式和細節(jié)方面的各種改變。
權(quán)利要求
1.一種制造有機發(fā)光顯示裝置的方法，所述方法包括 在基底的除了所述基底的顯示區(qū)域之外的區(qū)域上形成沉積阻擋膜； 通過在其上形成有所述沉積阻擋膜的所述基底上進行沉積，在所述顯示區(qū)域中形成公共薄膜層；以及 在沉積完成后從所述基底去除所述沉積阻擋膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，所述沉積阻擋膜包括粘合膜，所述粘合膜能夠附著到所述基底的除了所述顯示區(qū)域之外的區(qū)域并能夠與所述基底的除了所述顯示區(qū)域之外的區(qū)域分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，形成沉積阻擋膜的步驟包括 準備材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜； 沿與所述基底緊密接觸而旋轉(zhuǎn)的壓輥的外圓周移動所述材料膜； 通過使所述材料膜在所述壓輥和所述基底之間穿過來將所述粘合膜附著到所述基底；以及 通過在附著到所述基底的所述材料膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來從所述粘合膜去除所述基片。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，形成沉積阻擋膜的步驟包括 準備材料膜，所述材料膜包括基片和粘附到所述基片的所述粘合膜； 將所述材料膜的邊緣結(jié)合到中心區(qū)域被暴露的外框架構(gòu)件； 在將所述外框架構(gòu)件放置在所述基底上之后通過使用壓輥按壓所述材料膜來將所述粘合膜附著到所述基底；以及 通過在附著到所述基底的所述材料膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來使所述基片與所述粘合膜分離。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，去除沉積阻擋膜的步驟包括通過在附著到所述基底的所述粘合膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來使所述粘合膜與所述基片分離。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，所述方法還包括使所述粘合膜的附著點和所述基底的附著點對準。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，使附著點對準的步驟包括 分別在所述粘合膜和所述基底上形成對準標記；以及 通過使用相機檢驗所述對準標記的對準來使所述粘合膜的附著點和所述基底的附著點對準。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，所述沉積阻擋膜包括涂覆膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，形成沉積阻擋膜的步驟包括 將涂覆材料涂覆在所述基底上；以及 通過干燥涂覆的涂覆材料來形成所述涂覆膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，去除沉積阻擋膜的步驟包括通過在形成在所述基底上的所述涂覆膜上緊密地移動在其外圓周上具有粘合力的移除輥來使所述粘合膜與所述基片分離。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，所述公共薄膜層包括空穴注入-傳輸層、電子注入-傳輸層、面向像素電極的相對電極和密封所述顯示區(qū)域的薄膜密封層中的至少一種，所述空穴注入-傳輸層用于將空穴供給到包括在所述顯示區(qū)域中的每個像素中的發(fā)光層，所述電子注入-傳輸層用于將電子供給到所述發(fā)光層，所述發(fā)光層設置在所述相對電極和所述像素電極之間。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種制造有機發(fā)光顯示裝置的方法，所述方法包括在基底的除了所述基底的顯示區(qū)域之外的區(qū)域上形成沉積阻擋膜；通過在其上形成有所述沉積阻擋膜的所述基底上進行沉積而在所述顯示區(qū)域中形成公共薄膜層；以及在沉積完成后將所述沉積阻擋膜從所述基底去除。
文檔編號H01L21/77GK102856346SQ201210152118
公開日2013年1月2日 申請日期2012年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月14日
發(fā)明者林在夏 申請人:三星顯示有限公司