專利名稱：包含阻擋件的氣刀腔的制作方法
包含阻擋件的氣刀腔技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及一種氣刀腔，更具體而言，涉及一種被構(gòu)造為允許沿著隔斷墻向下流的水(或清洗液)在隔斷墻(或裂縫)前方落下的氣刀腔，使得能夠通過氣刀有效地去除水， 并最終導(dǎo)致降低了基板的缺陷比例。
背景技術(shù)：
一般來說，使液晶顯示器(IXD)、等離子顯示板(PDP)等的玻璃基板受到濕式(清洗)工藝，在該工藝中，供應(yīng)例如純水的清洗液來處理玻璃基板。清洗工藝之后，使基板經(jīng)受額外的工藝，以去除附著在基板表面的殘留清洗液。這種額外的工藝包括清洗液處理和干燥。
圖1中示出了用于清洗液處理的工藝。參考圖1，在將基板I通過進入口 11輸送到密閉的腔體10后，將來自氣刀14的高壓空氣或高壓惰性氣體噴射到移動的基板I上，以去除例如水(或清洗液)的雜質(zhì)。將已去除雜質(zhì)的基板I通過排出口 12排出到外部。
附著在基板I上的例如水(或清洗液)的雜質(zhì)被高壓空氣或高壓惰性氣體吹走。將被吹走的水(或清洗液)粒子通過排出口 13排出到外部。從氣刀14釋放出的大量空氣或惰性氣體在腔體10內(nèi)部產(chǎn)生復(fù)雜的氣流。這種空氣流造成部分水(或清洗液)粒子附著在隔斷墻16上。
附著在隔斷墻16上的水(或清洗液)沿著隔斷墻16向下流，并且落在基板I上。沿著隔斷墻16向下流的部分水(或清洗液)落在從氣刀14噴射出的空氣或惰性氣體的后方。 因此，將仍沒有去除水(或清洗液)的基板I排出到外部。
像這樣，當將附著在基板I上的殘留水(或清洗液)排出到外部時，最終產(chǎn)品中的缺陷數(shù)量會增加。發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
本公開被設(shè)計為用于解決先前技術(shù)的問題，因此，本公開的目的之一是提供一種被構(gòu)造為允許沿著隔斷墻向下流的水(或清洗液)在隔斷墻(或裂縫)前方落下的氣刀腔，使得能夠通過氣刀有效地去除水，并最終導(dǎo)致降低了基板的缺陷比例。
技術(shù)方案
根據(jù)本公開的一個優(yōu)選實施例，一種氣刀腔包括腔體，該腔體具有使基板進入的進入口和使基板排出的排出口 ；隔斷墻，該隔斷墻在所述腔體內(nèi)部被設(shè)置在所述進入口與所述排出口之間，以將所述腔體的內(nèi)部空間劃分為與所述進入口連通的前部和與所述排出口連通的后部，并且該隔斷墻具有能夠使所述基板通過的裂縫；阻擋件，該阻擋件被設(shè)置在所述隔斷墻上位于所述裂縫的上方；以及氣刀，該氣刀適于噴射高壓氣體，以去除所述基板中存在的水，其中，阻擋件防止沿著隔斷墻向下流的水落在基板上。
優(yōu)選地，隔斷墻和阻擋件相對于基板的移動方向傾斜地設(shè)置。
氣刀優(yōu)選地被放置為在隔斷墻后方處靠近裂縫，以便高壓空氣能夠通過裂縫向前部噴射。
氣刀也可以被放置在阻擋件下方，以允許從氣刀噴射出的高壓空氣將落在基板上的水從阻擋件的末端推向進入口。
優(yōu)選地，阻擋件向下傾斜。在這種情況下，沿著隔斷墻向下流的水沿著阻擋件向下流，并在裂縫前方落下。優(yōu)選地，阻擋件以與水平面成20° 35°的角度向下傾斜。
或者，阻擋件可以向上傾斜。在這種情況下，沿著隔斷墻向下流的水沿著阻擋件橫向流動，并在腔體的側(cè)面向下流。
優(yōu)選地，阻擋件被放置在從底層基板起9cnTllCm的高度處，并且具有9cm到13cm 的長度(U。


將參考附圖詳細描述本公開，在附圖中，示出了本公開的優(yōu)選實施例。因此，本公開的技術(shù)精神不應(yīng)該被理解為局限于附圖。
圖1是示出了根據(jù)先前技術(shù)的氣刀腔的構(gòu)造的側(cè)視圖。
圖2是示出了根據(jù)本公開的一個優(yōu)選實施例的氣刀腔的構(gòu)造的側(cè)視圖。
圖3是沿著圖2的線II1-1IΓ的剖視圖。
圖4是圖2的部分IV的放大圖。
圖5是示出了根據(jù)本公開的將氣刀設(shè)置在阻擋件下方的氣刀腔的放大圖。
圖6是根據(jù)圖2的氣刀腔中的阻擋件的位置比較附著在危險區(qū)域(D)的水量的圖表。
圖7是根據(jù)圖2的氣刀腔中的阻擋件的角度(Θ )比較附著在危險區(qū)域(D)的水量的圖表。
圖8是根據(jù)圖2的氣刀腔中的阻擋件的長度(L)比較附著在危險區(qū)域(D)的水量的圖表。
具體實施方式
在下文中，將參考附圖詳細地描述本公開的優(yōu)選實施例。在描述之前，要理解的是，在本說明書和附加的權(quán)利要求書中所使用的術(shù)語不應(yīng)當被理解為局限于一般的和字典上的含義，而是基于允許發(fā)明人適當?shù)囟x術(shù)語以獲得最佳解釋的原則，根據(jù)與本公開的技術(shù)方面對應(yīng)的含義和概念進行解釋。因此，僅提供這里所描述的實施例用于說明目的，而并非旨在限制本公開的技術(shù)范圍。同樣地，要理解的是，在遞交本申請時可以對本申請做出其他的等效變化和修改。
圖2是示出了根據(jù)本公開的一個優(yōu)選實施例的氣刀腔的構(gòu)造的側(cè)視圖，圖3是示出氣刀腔的平面圖(即沿著線ΙΙΙ-ΙΙΓ的剖視圖)，并且圖4是圖2的部分IV的放大圖。
參考這些附圖，氣刀腔100包括腔體20 ;隔斷墻30，設(shè)置在腔體20的內(nèi)部；阻擋件40，設(shè)置在隔斷墻30上；以及氣刀14，適于噴射高壓空氣。
腔體20包括使基板I進入的進入口 21、使基板I排出的排出口 22以及適于移動基板I的傳送滾筒23。通過進入口 21進入腔體20的基板I借助于傳送滾筒23進行移動，并通過排出口 22排出到外部。傳送滾筒23通過驅(qū)動電機(未示出)進行旋轉(zhuǎn)，以移動基板I。
腔體20可以進一步包括使空氣和/或水(或清洗液)粒子排出到外部的通風口 25。
隔斷墻30在腔體20內(nèi)部設(shè)置在進入口 21與排出口 22之間，以將腔體20的內(nèi)部空間劃分為與進入口 21連通的前部(A)和與排出口 22連通的后部(B)。隔斷墻30具有能夠使基板I通過的裂縫32。隔斷墻30連同氣刀14防止水(或清洗液)粒子和空氣從前部 (A)移到后部(B)。
通過空氣過濾器(未示出)將空氣供應(yīng)到后部(B)。這種空氣供應(yīng)可以更有·效地防止空氣和/或水粒子從前部(A)進入到后部(B)。
阻擋件40設(shè)置在隔斷墻30上位于裂縫32的上方。
阻擋件40阻擋沿著隔斷墻30向下流的水落向裂縫32。即是，沿著隔斷墻30向下流的水(或清洗液)沿著阻擋件40向下流，并且在裂縫32前方落下。隔斷墻40優(yōu)選的尺寸是長度等于或大于裂縫32的寬度。
阻擋件40以與水平面呈預(yù)定的角度(Θ )向下傾斜。優(yōu)選地，該角度(Θ)在 20° 35°之間。如果角度(Θ)小于20°，則水被吸附到阻擋件40的下表面，這是不可取的。同時，如果角度(Θ )大于35°，則在阻擋件40下方產(chǎn)生渦流，這將不利地阻礙氣刀14 的操作。更優(yōu)選地，該角度(Θ )約為27. 5°。
優(yōu)選地，將阻擋件40放置在從底層基板起9cm到I Icm的高度處。優(yōu)選地，阻擋件 40的長度(L)在約9cm和約13cm之間。
或者，阻擋件40可以被配置為向上傾斜。在這種情況下，可以將沿著隔斷墻30向下流的水收集到阻擋件40中。
又或者，阻擋件40可以被配置為向上傾斜，并指向腔體20的一側(cè)。在這種情況下， 沿著隔斷墻30向下流的水沿著阻擋件流向腔體20的該側(cè)。水可以通過在腔體20的該側(cè)形成的排水孔(未示出)排出。
氣刀14噴射高壓空氣或高壓惰性氣體，以去除附著在基板I上的水(或清洗液)。 將一對氣刀布置為在通過的基板I的上方和下方彼此相對。
將氣刀14放置為靠近裂縫32。優(yōu)選地，氣刀傾斜，以便高壓空氣可以通過裂縫32 向前部(A)噴射，如圖4所示。
雖然圖4示出了將氣刀14設(shè)置為靠近裂縫32，但考慮到待被去除的水(或清洗液) 量，可以進一步設(shè)置至少一個氣刀。例如，除設(shè)置為靠近裂縫32的氣刀14之外，可以在前部(A)設(shè)置額外的一個氣刀14。
如圖3所示，優(yōu)選地，所有的隔斷墻30、阻擋件40以及氣刀14相對于基板I的移動方向傾斜。利用該結(jié)構(gòu)，使得更大量的高壓空氣被噴射到基板I上，提高了可以去除附著在基板I上的例如水(或清洗液)的雜質(zhì)的可能性。為了便于理解和方便起見，在圖3中將傳送滾筒23和基板I省略。
如圖5所示，氣刀14可以被進一步設(shè)置在阻擋件40的下方。優(yōu)選地，將額外的氣刀14放置在阻擋件40末端的后方。這種布置允許從氣刀14噴射出的高壓氣體將落在基板上的水從阻擋件40的末端推向進入口 21。
圖6是根據(jù)阻擋件40的位置比較附著在危險區(qū)域(在圖4中由D表示)的水量的圖表。具體地說，根據(jù)具有圖2至圖4的構(gòu)造的氣刀腔100中的阻擋件40的位置(即從底層基板起的距離)，圖6圖示地比較了附著在危險區(qū)域(D)(即面對進入口 21并且放置在阻擋件下方的隔斷墻一側(cè)的表面區(qū)域)的水量。將阻擋件40的角度(Θ )和長度(L)分別設(shè)置為 27. 5。和 Ilcm0
如同從圖6的圖表中可以看出的，當阻擋件40設(shè)置在從底層基板起9cnTllcm的高度處時，附著在危險區(qū)域(D)的水量少于沒有設(shè)置阻擋件時的水量。尤其是，當阻擋件40 設(shè)置在從底層基板起IOcm的高度處時，附著在危險區(qū)域(D)的水量最少為無。
圖7是根據(jù)具有圖2至圖4的構(gòu)造的氣刀腔100中的阻擋件40的角度(Θ )比較附著在危險區(qū)域(D)的水量的圖表。阻擋件40設(shè)置在從底層基板起IOcm的高度處，并且具有Ilcm的長度(L)。
如同從圖7的圖表中可以看出的，當阻擋件40的傾斜角度(Θ )為20° 35°時， 附著在危險區(qū)域(D)的水量要少于沒有設(shè)置阻擋件時的水量。尤其是，當阻擋件40的傾斜角度(Θ )是27. 5°時，附著在危險區(qū)域(D)的水量最少。
圖8是根據(jù)具有圖2至圖4的構(gòu)造的氣刀腔100中的阻擋件40的長度(L)比較附著在危險區(qū)域(D)的水量的圖表。阻擋件40設(shè)置在從底層基板起IOcm的高度處，并且傾斜角度(0)是27.5°。
如同從圖8的圖表中可以看出的，當阻擋件40的長度(L)為9cm到13cm時，附著在危險區(qū)域(D)的水量要少于沒有設(shè)置阻擋件時的水量。尤其是，當阻擋件40的長度(L) 是Ilcm時，附著在危險區(qū)域(D)的水量最少為無。
根據(jù)本公開的氣刀腔100的操作步驟將在下面進行說明。
首先，將經(jīng)受過清洗工藝的基板I通過進入口 21輸送到腔體20內(nèi)?；錓借助于傳送滾筒23進行移動。
在清洗工藝中使用的水(或清洗液)仍附著在基板I上。當基板I通過裂縫32時， 附著在基板I上的水(或清洗液)被 從氣刀14噴射出的高壓空氣吹走。通過前部(A)中的空氣流移動被吹走的水(或清洗液)粒子。將移動的水(或清洗液)粒子的一部分通過通風口 25排出到外面，并且移動的水(或清洗液)粒子的殘留部分附著在隔斷墻30等上。附著在隔斷墻30上的水(或清洗液)沿著隔斷墻30和阻擋件40向下流，并落在基板I上。由于阻擋件40以角度(Θ )向下傾斜，從而水(或清洗液)落在裂縫32前方的基板I上，并且可以由氣刀14去除。
如果沒有阻擋件40，則沿著隔斷墻30向下流的水(或清洗液)落向裂縫32，并且部分水(或清洗液)存在于從氣刀14噴射出的高壓氣體的后方并且因此不能被去除。通過本公開的被構(gòu)造為允許水(或清洗液)在裂縫32前方落下的氣刀腔100，解決了該問題。
從氣刀14噴射出的高壓氣體所吹走的部分水(或清洗液)可能會附著在阻擋件40 的下表面和阻擋件40下方的部分隔斷墻30上。附著在阻擋件40的下表面和阻擋件40下方的部分隔斷墻30上的水分別沿著阻擋件40的下表面和隔斷墻30向下流，并且可以再一次落在基板I上。可以由氣刀14去除下落的水。像這樣，附著在阻擋件40的下表面和阻擋件40下方的部分隔斷墻30上的水(或清洗液)量要遠小于附著在阻擋件40上方的部分隔斷墻30上的水(或清洗液)量，這大大降低了污染基板I的可能性。
工業(yè)實用性
本公開的氣刀腔被構(gòu)造為允許沿著隔斷墻向下流的水(或清洗液)在隔斷墻(或裂縫)前方落下。由于這種構(gòu)造，使得能夠通過氣刀有效地去除水，從而有助于降低基板缺陷的比 例。
權(quán)利要求
1.一種氣刀腔，包括 腔體，該腔體具有使基板進入的進入口和使所述基板排出的排出口； 隔斷墻，該隔斷墻在所述腔體內(nèi)部被設(shè)置在所述進入口與所述排出口之間，以將所述腔體的內(nèi)部空間劃分為與所述進入口連通的前部和與所述排出口連通的后部，并且該隔斷墻具有能夠使所述基板通過的裂縫； 阻擋件，該阻擋件被設(shè)置在所述隔斷墻上位于所述裂縫的上方；以及 氣刀，該氣刀適于噴射高壓氣體，以去除所述基板中存在的水， 其中，所述阻擋件防止沿著所述隔斷墻向下流的水落在所述基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣刀腔，其中，所述隔斷墻、所述阻擋件以及所述氣刀相對于所述基板的移動方向傾斜地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣刀腔，其中，所述氣刀被放置為在所述隔斷墻后方處靠近所述裂縫，使得所述高壓氣體能夠通過所述裂縫向所述前部噴射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣刀腔，其中，所述氣刀被放置在所述阻擋件下方，以允許從所述氣刀噴射出的所述高壓氣體將落在所述基板上的水從所述阻擋件的末端推向所述進入口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣刀腔，其中，所述阻擋件向下傾斜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣刀腔，其中，沿著所述隔斷墻向下流的水沿著所述阻擋件向下流，并在所述裂縫前方落下。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣刀腔，其中，所述阻擋件以與水平面成20° 35°的角度向下傾斜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣刀腔，其中，所述阻擋件向上傾斜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氣刀腔，其中，沿著所述隔斷墻向下流的水沿著所述阻擋件橫向流動，并在所述腔體的側(cè)面向下流。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣刀腔，其中，所述阻擋件被放置在從所述底層基板起9cm到Ilcm的高度處,并具有9cm到13cm的長度(L)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種被構(gòu)造為允許沿著隔斷墻向下流的水在裂縫前方落下的氣刀腔。由于這種構(gòu)造，使得能夠通過氣刀有效地去除水，從而有助于降低基板的缺陷比例。
文檔編號H01L21/302GK103003922SQ201180034690
公開日2013年3月27日 申請日期2011年7月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月14日
發(fā)明者樸壽贊, 林藝勛, 閔庚勛 申請人:Lg化學株式會社