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半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法

文檔序號(hào):7166415閱讀:124來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法,且特別是涉及一種具有共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法。
背景技術(shù)
在集成電路的制作中,芯片(chip)是經(jīng)由晶片(wafer)制作、形成集成電路以及切割晶片(wafer sawing)等步驟而完成。當(dāng)晶片內(nèi)部的集成電路完成之后,可將線路層配置于晶片的表面上,并透過(guò)形成多個(gè)連接晶片的表面與背面的貫孔的方式,來(lái)分別暴露出線路層的多個(gè)接墊。然而,由于這些接墊彼此分離,因此最終由晶片切割所形成的芯片無(wú)法直接經(jīng)由這些貫孔所暴露出的這些接墊直接與外部電路電性連接。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法,其工藝步驟簡(jiǎn)單,可減少工藝時(shí)間及生產(chǎn)成本。本發(fā)明提出一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其包括半導(dǎo)體基底、線路層、多個(gè)導(dǎo)電通孔以及導(dǎo)電層。半導(dǎo)體基底具有正面與背面以及至少一連接正面與背面的貫孔。線路層配置于半導(dǎo)體基底的正面上,且具有多個(gè)接墊,其中這些貫孔分別暴露出部分這些接墊。這些導(dǎo)電通孔分別配置于這些貫孔內(nèi)。導(dǎo)電層配置于半導(dǎo)體基底的背面上,且覆蓋背面,其中這些導(dǎo)電通孔分別電性連接這些接墊與導(dǎo)電層。本發(fā)明還提出一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,其包括以下步驟。提供半導(dǎo)體基底以及線路層。半導(dǎo)體基底具有正面與背面,且線路層配置于半導(dǎo)體基底的正面上。線路層具有至少一位于正面上的接墊。形成至少一個(gè)連接半導(dǎo)體基底的正面與背面的貫孔,其中貫孔暴露出部分接墊。形成導(dǎo)電膠以填滿貫孔且覆蓋半導(dǎo)體基底的背面,而構(gòu)成至少一分別位于貫孔內(nèi)的導(dǎo)電通孔以及位于背面上的導(dǎo)電層,其中導(dǎo)電通孔電性連接接墊與導(dǎo)電層。基于上述,本發(fā)明是透過(guò)網(wǎng)版印刷的方式來(lái)同時(shí)形成這些導(dǎo)電通孔及連接這些導(dǎo)電通孔的導(dǎo)電層,其中這些導(dǎo)電通孔分別連接線路層的這些接墊。因此,本發(fā)明的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)可具有共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)(即導(dǎo)電層與這些導(dǎo)電通孔)的設(shè)計(jì),而本發(fā)明的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法可具有工藝步驟簡(jiǎn)單及可減少工藝時(shí)間及生產(chǎn)成本的優(yōu)勢(shì)。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并配合附圖作詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖IA至圖IG為本發(fā)明的實(shí)施例的一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法的剖面示意圖。圖2A至圖2B為本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法的局部步驟的剖面示意圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明
100半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)
110半導(dǎo)體基底
112正面
114背面
116貫孔
120線路層
122接墊
130、,130a、130b 導(dǎo)電膠
140導(dǎo)電通孔
145導(dǎo)電層
150網(wǎng)板
160刀具
C 共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)
具體實(shí)施例方式圖IA至圖IG為本發(fā)明的實(shí)施例的一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法的剖面示意圖。依照本實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,首先,請(qǐng)參考圖1A,提供半導(dǎo)體基底110以及線路層 120,其中半導(dǎo)體基底110具有彼此相對(duì)的正面112與背面114,且線路層120配置于半導(dǎo)體基底110的正面112上。需說(shuō)明的是,在本實(shí)施例中,線路層120是由現(xiàn)行的半導(dǎo)體集成電路工藝所制作,且線路層120可由至少一介電層、至少一線路層以及至少一電子元件,其中電子元件例如是有源元件(active device)、無(wú)源元件(passive device)或微機(jī)電系統(tǒng)元件 (Microelectromechanical system device, MEMS device),在此并不力口以限制。接著,請(qǐng)參考圖1B,利用干式蝕刻方式或是激光切割方式形成至少一個(gè)連接半導(dǎo)體基底110的正面112與背面114的貫孔116(圖IB中僅示意地繪示三個(gè)),其中這些貫孔 116分別暴露出線路層120的至少一個(gè)接墊122(圖IB中僅示意地繪示三個(gè)),且這些接墊 122是位于半導(dǎo)體基底110的正面112上。接著,進(jìn)行網(wǎng)版印刷步驟,其中網(wǎng)版印刷步驟包括以下步驟。首先,請(qǐng)參考圖1C, 放置網(wǎng)版(stencil) 150于半導(dǎo)體基底110的背面114上,其中網(wǎng)版150暴露出半導(dǎo)體基底 110的部分背面114。接著,請(qǐng)參考圖1D,使導(dǎo)電膠130填滿這些貫孔116并覆蓋未被網(wǎng)版 150所覆蓋的半導(dǎo)體基底110的背面114。之后,請(qǐng)參考圖1E,移除網(wǎng)版150以暴露出半導(dǎo)體基底110的部分背面114,并對(duì)導(dǎo)電膠130進(jìn)行真空烘烤步驟,以移除導(dǎo)電膠130內(nèi)的溶劑,而形成至少一個(gè)分別位于這些貫孔116內(nèi)的導(dǎo)電通孔140以及位于半導(dǎo)體基底110的背面114上的導(dǎo)電層145。特別是,在本實(shí)施例中,這些導(dǎo)電通孔140分別連接這些貫孔116所暴露出的線路層120的這些接墊122,而導(dǎo)電層145連接這些導(dǎo)電通孔140。換言之,這些接墊122可透過(guò)這些導(dǎo)電通孔140而結(jié)構(gòu)性且電性連接至導(dǎo)電層145。再者,導(dǎo)電層145的厚度與網(wǎng)版 150(請(qǐng)參考圖1C)的厚度實(shí)質(zhì)上相同。也就是說(shuō),可依據(jù)所需的導(dǎo)電層145的厚度來(lái)選擇網(wǎng)板150的厚度。
最后,請(qǐng)同時(shí)參考圖IF與圖1G,沿著半導(dǎo)體基底110被暴露出的部分背面114透過(guò)刀具160切割半導(dǎo)體基底110與線路層120,而形成至少一半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100 (圖IE中僅示意地繪示一個(gè))。于此,是以網(wǎng)版150(請(qǐng)參考圖1C)的位置來(lái)定義出刀具160進(jìn)行切割的位置,但并不以此為限。至此,已完成半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的制作。值得一提的是,圖1C、圖ID及圖IE所繪示的網(wǎng)版印刷步驟僅是作為舉例說(shuō)明之用。于其他實(shí)施例中,亦可采用涂布的方式來(lái)形成導(dǎo)電膠130a。詳細(xì)來(lái)說(shuō),請(qǐng)參考圖2A,可于圖IB的步驟后,即形成這些連接半導(dǎo)體基底110的正面112與背面114的貫孔116之后, 透過(guò)涂布的方式使導(dǎo)電膠130a填滿這些貫孔116并覆蓋該半導(dǎo)體基底110的背面112。接著,請(qǐng)參考圖2B,對(duì)導(dǎo)電膠130a進(jìn)行薄化程序,以減少導(dǎo)電膠130a的厚度,而形成具有較薄厚度的導(dǎo)電膠130b。最后,再對(duì)導(dǎo)電膠130b進(jìn)行圖IE的真空烘烤步驟,以移除導(dǎo)電膠 130b內(nèi)的溶劑,而形成這些分別位于這些貫孔116內(nèi)的導(dǎo)電通孔140以及位于半導(dǎo)體基底 110的背面114上的導(dǎo)電層145。上述圖2A至圖2B采用涂布步驟來(lái)形成導(dǎo)電膠130a此仍屬于本發(fā)明可采用的技術(shù)方案,不脫離本發(fā)明所欲保護(hù)的范圍。在結(jié)構(gòu)上,請(qǐng)?jiān)賲⒖紙D1G,本實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100包括半導(dǎo)體基底110、線路層120、這些導(dǎo)電通孔140以及導(dǎo)電層145。半導(dǎo)體基底110具有彼此相對(duì)的正面112與背面114以及這些連接正面112與背面114的貫孔116。線路層120配置于半導(dǎo)體基底110 的正面112上,且具有這些接墊122,其中這些貫孔116分別暴露出線路層120的部分這些接墊122。這些導(dǎo)電通孔140分別配置于這些貫孔116內(nèi)。導(dǎo)電層145配置于半導(dǎo)體基底 110的背面114上,且覆蓋背面114,其中這些導(dǎo)電通孔140分別連接線路層120的這些接墊122,而導(dǎo)電層145連接這些導(dǎo)電通孔140,且導(dǎo)電層145與這些導(dǎo)電通孔140皆是由導(dǎo)電膠130所構(gòu)成。換言之,導(dǎo)電層145與這些導(dǎo)電通孔140實(shí)質(zhì)上一體成形。此外,導(dǎo)電層 145與這些導(dǎo)電通孔140構(gòu)成共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)C。由于本實(shí)施例是透過(guò)網(wǎng)版印刷的方式來(lái)同時(shí)形成這些導(dǎo)電通孔140及連接這些導(dǎo)電通孔140的導(dǎo)電層145,因此本實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的制作方法具有工藝步驟簡(jiǎn)單及可減少工藝時(shí)間及生產(chǎn)成本的優(yōu)勢(shì)。再者,由于線路層120的這些接墊122可透過(guò)這些導(dǎo)電通孔140而結(jié)構(gòu)性且電性連接至導(dǎo)電層145。意即,這些接墊122分別經(jīng)由這些導(dǎo)電通孔140連接至同一接點(diǎn)(即導(dǎo)電層14 。因此,所形成的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100可透過(guò)此共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)C(即導(dǎo)電層145與這些導(dǎo)電通孔140)的設(shè)計(jì)與外部電路(未繪示)電性連接,亦或, 可將此導(dǎo)電層145視為接地層,可有效擴(kuò)充半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的應(yīng)用范圍。綜上所述,本發(fā)明是透過(guò)網(wǎng)版印刷的方式來(lái)同時(shí)形成這些導(dǎo)電通孔及連接這些導(dǎo)電通孔的導(dǎo)電層,其中這些導(dǎo)電通孔分別連接線路層的這些接墊。因此,本發(fā)明的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)可具有共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)(即導(dǎo)電層與這些導(dǎo)電通孔)的設(shè)計(jì),而本發(fā)明的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法可具有工藝步驟簡(jiǎn)單及可減少工藝時(shí)間及生產(chǎn)成本的優(yōu)勢(shì)。雖然本發(fā)明已以實(shí)施例披露如上,然其并非用以限定本發(fā)明,任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾,故本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求所界定為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,包括提供半導(dǎo)體基底以及線路層,該半導(dǎo)體基底具有正面與背面,且該線路層配置于該半導(dǎo)體基底的該正面上,其中該線路層具有至少一位于該正面上的接墊;形成至少一個(gè)半導(dǎo)體基底的該正面與該背面的貫孔,其中該貫孔暴露出接墊;以及形成導(dǎo)電膠以填滿該貫孔且覆蓋該半導(dǎo)體基底的該背面,而構(gòu)成至少一位于該貫孔內(nèi)的導(dǎo)電通孔以及位于該背面上的導(dǎo)電層,其中該導(dǎo)電通孔電性連接該接墊與該導(dǎo)電層。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,其中形成該導(dǎo)電膠的方法包括網(wǎng)版印刷步驟。
3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,其中該網(wǎng)版印刷步驟包括 放置網(wǎng)版于該半導(dǎo)體基底的該背面上,其中該網(wǎng)版暴露出部分該背面;以及以該導(dǎo)電膠填滿該貫孔并覆蓋未被該網(wǎng)版所覆蓋的該背面。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,還包括對(duì)該導(dǎo)電膠進(jìn)行真空烘烤步驟,以移除該導(dǎo)電膠內(nèi)的溶劑,而形成該導(dǎo)電通孔與該導(dǎo)電層。
5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,還包括于進(jìn)行該真空烘烤步驟之后,沿著該半導(dǎo)體基底被暴露出的部分該背面切割該半導(dǎo)體基底與該線路層,而形成至少一半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,其中形成該導(dǎo)電膠的方法包括涂布法。
7.如權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,還包括對(duì)該導(dǎo)電膠進(jìn)行真空烘烤步驟,以移除該導(dǎo)電膠內(nèi)的溶劑,而形成該導(dǎo)電通孔與該導(dǎo)電層。
8.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,還包括于進(jìn)行該真空烘烤步驟之前,對(duì)該導(dǎo)電膠進(jìn)行薄化程序,以減少該導(dǎo)電膠的厚度。
9.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法,其中該至少一接墊包括多個(gè)接墊,而該至少一貫孔包括多個(gè)貫孔,至少一導(dǎo)電通孔包括多個(gè)導(dǎo)電通孔,且該多個(gè)導(dǎo)電通孔與該導(dǎo)電層構(gòu)成共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)。
10.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括半導(dǎo)體基底,具有正面與背面以及至少一連接該正面與該背面的貫孔; 線路層,配置于該半導(dǎo)體基底的該正面上,且具有多個(gè)接墊,其中該多個(gè)貫孔分別暴露出部分該多個(gè)接墊;多個(gè)導(dǎo)電通孔,分別配置于該多個(gè)貫孔內(nèi);以及導(dǎo)電層,配置于該半導(dǎo)體基底的該背面上,且覆蓋該背面,其中該多個(gè)導(dǎo)電通孔分別電性連接于該多個(gè)接墊和該導(dǎo)電層。
11.如權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其中該導(dǎo)電層與該多個(gè)導(dǎo)電通孔一體成形。
12.如權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其中該導(dǎo)電層與該多個(gè)導(dǎo)電通孔為同一導(dǎo)電膠所組成。
13.如權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其中該多個(gè)導(dǎo)電通孔與該導(dǎo)電層構(gòu)成共接點(diǎn)結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法。該制作方法包括提供半導(dǎo)體基底以及線路層。半導(dǎo)體基底具有彼此相對(duì)的正面與背面。線路層配置于半導(dǎo)體基底的正面上,且線路層具有至少一位于正面上的接墊。形成至少一個(gè)連接半導(dǎo)體基底的正面與背面的貫孔。貫孔暴露出部分接墊。形成導(dǎo)電膠以填滿貫孔且覆蓋半導(dǎo)體基底的背面,而構(gòu)成至少一位于貫孔內(nèi)的導(dǎo)電通孔以及位于背面上的導(dǎo)電層。導(dǎo)電通孔電性連接接墊與導(dǎo)電層。
文檔編號(hào)H01L23/522GK102437109SQ20111039131
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2011年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月30日
發(fā)明者王永輝, 郭進(jìn)成 申請(qǐng)人:日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司
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