專利名稱：一種基板固定裝置及制作方法以及固定基板的方法
技術領域：
本發(fā)明屬于平板顯示設備制造技術領域，具體涉及一種在顯示設備制造過程中用于將基板固定在工藝設備中的基板固定裝置以及固定基板的方法，同時還涉及該基板固定裝置的制作方法。
背景技術：
有機電致發(fā)光器件又稱為有機發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,簡稱OLED)，是一種新型的平板顯示器件，與液晶顯示器件相比，OLED具有主動發(fā)光、驅(qū)動電壓低、功耗低、發(fā)光亮度和效率高、超薄、制作工藝簡單、可較容易實現(xiàn)全彩平板顯示和柔性顯示、大視角以及工作溫度范圍寬等諸多優(yōu)點，被認為是下一代平板顯示器的新興應用技術。自從C. I Tang博士于1979年發(fā)現(xiàn)有機電致發(fā)光器件的發(fā)光原理后，世界各國都陸續(xù)投入大量的人力、物力致力于其研究和應用。目前，我國的OLED技術正處于實驗室研發(fā)、中試開發(fā)向量產(chǎn)轉(zhuǎn)化的并存階段，其中實驗室研發(fā)的科研成果、中試開發(fā)的實驗結(jié)果對量產(chǎn)產(chǎn)品的質(zhì)量起著至關重要的作用，一方面要不斷提高OLED的產(chǎn)品性能，另一方面還要使其能夠批量生產(chǎn)，這就要求OLED制造設備能夠標準化，以進一步降低成本。為了充分利用企業(yè)與學校、科研單位等多種不同環(huán)境和資源方面的各自優(yōu)勢，產(chǎn)學研各界進行了廣泛的技術合作。OLED顯示設備分為有源驅(qū)動方式(AMOLED)和無源驅(qū)動方式(PMOLED)兩種，在OLED顯示設備的制造中，基板作為所有元器件的載體，在整個制造流程中流動加工，不論是AMOLED方式還是PMOLED方式的OLED顯示設備的制造，均涉及基板制備、蒸鍍、封裝等三大步驟。在實驗室研發(fā)、中試開發(fā)的實驗過程中，各合作單位的OLED顯示設備樣品的制造數(shù)量較少、基板尺寸也有各自的規(guī)格以適應各自的制造設備，隨著研發(fā)與產(chǎn)業(yè)領域合作的加強，產(chǎn)學研各個合作單位之間制造設備存在的差異無疑成為技術交流和合作的軟肋。例如，在基板制備步驟中，PMOLED方式的顯示設備僅采用光刻工藝及相應的設備方式的顯示設備由于其在基板上為每個像素都集成了一組薄膜晶體管(ThinFilm Transistor，簡稱TFT)和存儲電容，外圍驅(qū)動電路和顯示陣列整個系統(tǒng)集成在同一基板上，因此不僅采用光刻工藝，還相應地涉及成膜、曝光、刻蝕等多種工藝及多種相應的設備，使得AMOLED方式的顯示設備的制造相對于PMOLED方式的顯示設備的制造而言，不僅所需設備多、而且對設備工藝精度要求高。在實際生產(chǎn)制造中，基板分別需要固定在成膜設備、曝光設備、刻蝕設備等不同工序的工藝設備中進行加工，這些設備對基板的固定是通過各不同工藝設備的基板托架(用于容置并托起基板)來實現(xiàn)的，由于不同型號的基板的尺寸各有不同，而在某一工藝設備中，基板托架僅采用一個或有限的幾個，在加工不同型號基板的過程中，有時會因為該基板的尺寸過小(相對于基板托架而言)而無法固定在工藝設備的基板托架上。同時，由于不同工序中的不同基板托架的尺寸也可能存在較大差異，當加工某種型號的基板時，會出現(xiàn)某類基板在某些工藝中能與該工藝中使用的基板托架的尺寸相適配，而在另一些工藝中不能與該工藝中使用的基板托架的尺寸相適配，當基板尺寸與基板托架尺寸不相適配時，基板在工藝設備中的固定效果不好，甚至會出現(xiàn)無法固定在工藝設備中的現(xiàn)象，從而影響基板的加工質(zhì)量。另外，在產(chǎn)學研各個合作單位之間的設備之間也存在尺寸差異，這些差異直接導致了各不同工藝設備的不同基板托架的尺寸存在很大的差異，尤其是AMOLED方式中基板制備設備中基板托架的尺寸與PMOLED方式中基板制備設備中基板托架的尺寸存在的差異就更大，而這些設備本身均較昂貴，對于基板制造數(shù)量較少的實驗室研發(fā)、中試開發(fā)的實驗樣品而言，更換設備的成本太高。隨著研發(fā)與產(chǎn)業(yè)領域合作的加強，同一基板在不同工藝設備之間的銜接越發(fā)顯得重要，使得由于不同工藝設備之間的基板托架尺寸不一致導致的同一基板在不同設備之間的固定困難的問題也越發(fā)突出，這些因素進一步阻礙了 OLED顯示設備開發(fā)工藝的交流和提高，致使技術的移植與合作出現(xiàn)瓶頸。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術中OLED顯示設備制造過程中，同一 基板在不同工藝設備之間因工藝設備基板托架尺寸不一致導致固定困難或不能固定的不足，提供一種可使任何一種類型的基板在不同工藝設備的不同尺寸的基板托架上都能進行有效固定并準確對位的基板固定裝置以及采用該基板固定裝置將基板固定在工藝設備中的方法，同時還涉及該基板固定裝置的制作方法。解決本發(fā)明技術問題所采用的一種優(yōu)選的技術方案是該用于將基板固定在工藝設備中的基板固定裝置，所述基板固定裝置上表面設置有基板容置槽以固定所述基板，所述基板固定裝置的外形尺寸設置為使得其能夠固定在所述工藝設備上。優(yōu)選的是，所述基板固定裝置上設置有與所述基板上的光學對位點相對應的工藝對位點。進一步優(yōu)選的是，所述基板容置槽的長度、寬度和深度與其所固定的基板的長度、寬度和高度相適配。另一種優(yōu)選的技術方案是，所述基板固定裝置包括定位板、加工配合單元，所述定位板的上表面設置有基板容置槽以固定所述基板，所述基板與所述基板固定裝置通過加工配合單元連接；所述加工配合單元包括定位凸起和與所述定位凸起相適配的定位凹槽。優(yōu)選的是，所述定位板中基板容置槽的深度與其所固定的基板的高度相適配。優(yōu)選的是，所述定位凸起設置在定位板的基板容置槽內(nèi)并與所述基板底面上的定位凹槽的位置對應；或者，所述定位凹槽設置在定位板的基板容置槽內(nèi)并與所述基板底面上的定位凸起的位置對應。更優(yōu)選的是，所述定位凸起的形狀為尖形或四方形或圓錐形，定位凹槽的形狀為與所述定位凸起適配的尖形或四方形或圓錐形。同時優(yōu)選的是，上述兩種優(yōu)選技術方案中的基板固定裝置采用透明材料制成。一種采用上述技術方案中任一種基板固定裝置固定基板的方法，其包括如下步驟I)將基板固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)；2)將置有基板的基板固定裝置固定在工藝設備的基板托架上；
或者，I)將所述基板固定裝置固定在所述工藝設備的基板托架上；2)將基板固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)，從而使基板固定在所述工藝設備中。優(yōu)選的是，所述固定基板的方法還包括，使基板固定裝置中的工藝對位點與基板上的光學對位點相對應。進一步優(yōu)選的是，將基板固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)進一步包 括在基板固定裝置和基板之間放入粘性物質(zhì)，使二者粘結(jié)固定；和/或，當基板固定裝置包括定位板和加工配合單元時，所述方法進一步包括使定位凹槽和定位凸起對位配合，使得基板固定裝置和基板位置相對固定。上述基板固定裝置的制作方法包括如下步驟A)選取一透明板作為基板固定裝置，對其進行裁切，使其外形尺寸與基板所在工序的工藝設備中基板托架的尺寸相適；B)選取一透明板制成的掩模板覆蓋在基板固定裝置上，所述掩模板設置有與基板的外形尺寸相適配的基板容置槽標記、在所述基板容置槽標記的區(qū)域內(nèi)的光學對位標記和與光學對位標記具有固定位置關系的定位標記、在基板容置槽標記的區(qū)域外的工藝對位標記；C)利用掩模板上的工藝對位標記在基板固定裝置上制作工藝對位點；D)以工藝對位點為基點，利用掩模板上的基板容置槽標記在基板固定裝置的上表面開設基板容置槽，所述基板容置槽的深度與其所固定的基板的高度相適配。上述基板固定裝置的制作方法還進一步包括E)利用掩模板上的定位標記在基板容置槽內(nèi)制作定位凸起或定位凹槽；或者，E)利用掩模板上的基板容置槽標記，使所述基板容置槽的長度和寬度與其所固定的基板的長度和寬度相適配。本發(fā)明的有益效果是針對不同工藝設備中各不相同的基板托架，從而使同一基板很難同時適應多種工藝設備的矛盾，通過制作與不同工藝設備基板托架的外形尺寸相適、并設置有與基板相適的基板容置槽的基板固定裝置，來作為不同工藝設備基板托架與基板之間尺寸差異的中間過渡件，從而將同一基板很好地固定在不同工藝設備的基板托架上；同時，針對不同規(guī)格尺寸的基板，通過在基板固定裝置中開設與所述基板的規(guī)格尺寸相適的基板容置槽，從而可將不同規(guī)格尺寸的基板很好地固定在同一設備的同一基板托架上。因此，根據(jù)實際使用情況靈活地調(diào)節(jié)基板固定裝置的外形尺寸或其中基板容置槽的規(guī)格尺寸，即可很方便地實現(xiàn)將不同規(guī)格尺寸的基板固定在不同工藝設備中的目的，極大地擴大了工藝設備與基板的適應范圍，并且保證了基板在不同工藝設備中的準確定位，解決了同一基板在不同的工藝設備中因基板托架尺寸不一致或不同基板在同一工藝設備中因基板尺寸不一致而引起的加工錯位問題，尤其適合在基板托架尺寸大于所加工的基板尺寸的工藝設備中使用，特別適合于同一基板處于實驗室研發(fā)階段和中試階段時在不同工藝設備之間的配合銜接使用。


圖I為本發(fā)明實施例I中基板嵌合在定位板中的截面視圖；圖2為圖I中基板I的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖I中定位板2的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為掩模板9的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1_基板；2_定位板；3_定位凹槽；4_定位凸起；5_顯示器件圖案區(qū)域；6-エ藝對位點；7_光學對位點；8_定位標記；9_掩模板；10_基板容置槽標記；11_エ藝對位標記；12_光學對位標記；13_基板容置槽。
具體實施例方式為使本領域技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明基板固定裝置以及將基板固定在エ藝設備中的方法和基板固定裝置的制作方法作進ー步詳細描述。一種最為基礎的技術方案是該用于將基板固定在エ藝設備中的基板固定裝置，所述基板固定裝置上表面設置有基板容置槽13以固定所述基板，所述基板固定裝置的外形尺寸設置為使得其能夠固定在所述エ藝設備上。一般的，基板I的正面設置有顯示器件圖案區(qū)域5，基板正面的非顯示器件圖案區(qū)域設置有光學對位點7，所述光學對位點7采用兩個或兩個以上。作為對應，基板固定裝置上設置有與所述基板I上的光學對位點7相對應的エ藝對位點6，エ藝對位點6 —般設置于基板固定裝置未開設基板容置槽13的部位，所述エ藝對位點6采用兩個或兩個以上。另外，基板容置槽13的長度、寬度和深度與其所固定的基板I的長度、寬度和高度相適配。另ー種技術方案如圖I所示，ー種用于將基板I固定在エ藝設備中的基板固定裝置，包括定位板2和加工配合単元，定位板2的外形尺寸設置為使得其能夠固定在エ藝設備的基板托架上，定位板2上設置有能夠容置基板I的基板容置槽13，基板I通過加工配合單元固定在基板容置槽13內(nèi)，基板容置槽13的形狀與其所容置的基板I的形狀相適配。其中，定位板2中的基板容置槽13的深度與其所固定的基板I的高度相適配，以保證基板的表面和基板固定裝置的表面處于同一水平面，便于加工；基板容置槽13的長度和寬度可以與基板I的長度和寬度相適配，以便于更好地固定基板1，基板容置槽13的長度和寬度也可以稍微大于基板I的長度和寬度，便于基板的放入和取出。作為優(yōu)選，加工配合単元包括定位凸起4和與定位凸起相適配的定位凹槽3，定位凸起4設置在定位板2中的基板容置槽13內(nèi)，定位凹槽3設置在基板I的底面上并與定位凸起4的位置對應；或者，定位凸起設置在基板I的底面上，定位凹槽設置在定位板的基板容置槽內(nèi)并與定位凸起的位置對應。定位凹槽和定位凸起采用相適配的兩對或者多對。基板固定裝置優(yōu)選采用透明材料制成，更便于觀察作業(yè)，提高對位精度和作業(yè)精度。一種采用上述技術方案中任ー種基板固定裝置將基板固定在エ藝設備中的方法，包括如下步驟I)將基板I固定在基板固定裝置中的基板容置槽13內(nèi)；、
2)將置有基板I的基板固定裝置固定在エ藝設備的基板托架上；或者，I)將基板固定裝置固定在エ藝設備的基板托架上；2)將基板I固定在基板固定裝置中的基板容置槽13內(nèi)，從而使基板I固定在エ藝設備中。為了保證定位準確，應當使基板固定裝置中的エ藝對位點6與基板I上的光學對位點7相對應。
同時，為了保證定位穩(wěn)固，將基板I固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)進ー步包括在基板固定裝置和基板I之間放入粘性物質(zhì)，使二者粘結(jié)固定，同時可以減少エ序，方便作業(yè)；和/或，當采用包括有定位板2和加工配合単元的基板定位裝置吋，上述將基板固定在基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)進ー步包括使定位凹槽和定位凸起對位配合，使得基板固定裝置和基板I位置相對固定。當然，此時應保證使基板固定裝置中的エ藝對位點6與基板I上的光學對位點7相對應。其中，基板固定裝置的制作方法包括如下步驟A)選取一外形尺寸大于基板外形尺寸的透明玻璃板作為基板固定裝置，對其進行裁切，使基板固定裝置的外形尺寸與エ藝設備中的基板托架的尺寸相適；B)選取一透明板制成的掩模板9覆蓋在基板固定裝置上，所述掩模板9設置有與基板I的外形尺寸相適配的基板容置槽標記10、在所述基板容置槽標記10的區(qū)域內(nèi)的光學對位標記12和與光學對位標記具有固定位置關系的定位標記8、在基板容置槽標記10的區(qū)域外的エ藝對位標記11 ;C)在基板固定裝置上覆蓋掩模板9，利用掩模板9上的エ藝對位標記11在基板固定裝置上制作エ藝對位點6 ；在該步驟中，基板固定裝置上的エ藝對位點6可以為多種，具體地，可以為蒸鍍對位點或派射對位點或離子對位點。D)以エ藝對位點6為基點，利用掩模板9上的基板容置槽標記10在基板固定裝置上刻蝕基板容置槽13，所述基板容置槽13的深度與其所固定的基板I的高度相適配。相應的，上述基板固定裝置的制作方法還包括E)在刻蝕基板容置槽13的過程中，利用掩模板9上的定位標記8在基板容置槽13內(nèi)的相應位置形成定位凸起或定位凹槽；或者，E)利用掩模板9上的基板容置槽標記10，使所述基板容置槽13的長度和寬度與其所固定的基板I的長度和寬度相適配?；迳系募庸づ浜蠁卧闹谱鞣椒òㄈ缦虏襟EA)在基板I上覆蓋掩模板9，并使掩模板9上的光學對位標記12對準基板I正面的非顯示器件圖案區(qū)域中的光學對位點7 ；B)以光學對位點7為基點，利用掩模板9上的定位標記8在基板I底面制作基板定位凹槽或定位凸起。這里應該理解的是，上述用于制作基板固定裝置和基板上的加工配合単元的掩模板為同一塊掩模板9，而且，上述對基板I上的加工配合単元制作和基板固定裝置的制作分別獨立。通過上述制作方法制作的定位凸起和定位凹槽直接形成于基板固定裝置和基板的對應位置上。當然，所述定位凸起和所述定位凹槽可以是獨立的，然后通過粘性物質(zhì)分別粘結(jié)在基板固定裝置和基板的對應位置上。同吋，這里對上述用于基板固定裝置和基板上的加工配合単元制作所采用的掩模板9的制作方法介紹如下，其主要包括如下步驟
A)選取一透明玻璃板，在此透明玻璃板上根據(jù)基板I的外形尺寸制作基板容置槽標記10 ；C)在基板容置槽標記10的區(qū)域內(nèi)制作光學對位標記12，光學對位標記12與基板I正面的光學對位點7相對應；D)以光學對位標記12為基準，在基板容置槽標記10的區(qū)域內(nèi)制作定位標記8、在基板容置槽標記10的區(qū)域外制作エ藝對位標記11。實施例I :本實施例中所存在的問題是，在實驗室研發(fā)OLED顯示設備的基板制備過程中，基板I的外形尺寸與基板制備設備中的基板托架的尺寸相適，因而基板I可以很好地固定在基板制備設備中的基板托架上；但是，蒸鍍設備中的基板托架的尺寸大于基板制備設備中基板托架的尺寸，因而使得基板I的尺寸小于蒸鍍設備中的基板托架的尺寸，如果直接將完成基板制備エ序后的基板I固定在蒸鍍設備的基板托架上，則在蒸鍍過程中容易出現(xiàn)基板固定不穩(wěn)，從而使得基板上的顯示器件蒸鍍錯位，最終影響基板I的加工質(zhì)量。通過采用本發(fā)明基板固定裝置，可以使從基板制備設備中完成相應制備エ序的基板I能夠輕松適用于基板托架尺寸大于該基板I的蒸鍍設備中。如圖2所示，在本實施例中，基板I的正面，即基板I具有顯示器件圖案區(qū)域5的一面上設置有至少兩個光學對位點7，以光學對位點7為基點可在基板I正面制作顯示器件圖案或者金屬電極圖案。如圖3所示，在本實施例中該基板固定裝置包括定位板2和加工定位単元，定位板2的外形尺寸設置為與蒸鍍設備中的基板托架的尺寸相適，定位板2上開設有能夠容置從基板制備設備中完成相應制備エ序后的基板I的基板容置槽13。其中，基板容置槽13的長度、寬度和深度與基板I的長度、寬度和高度相適，使得基板I正好能夠嵌合在基板容置槽13內(nèi)，且基板I上設置的顯示器件圖案正好與定位板2中未開設基板容置槽的部位處于同一平面。在本實施例中，基板I的外形為長方體形，因而基板容置槽13的形狀也為長方體形。基板I通過加工配合單元固定在基板容置槽13內(nèi)，加工配合單元包括定位凸起4和與定位凸起相適配的定位凹槽3,本實施例中，定位凸起4設置在定位板2中的基板容置槽13內(nèi)，定位凹槽3設置在基板I的底面上并與定位凸起4的位置對應。其中，定位凹槽3和定位凸起4采用相適配的兩對。本實施例中，定位凸起4的形狀為尖形，定位凹槽3的形狀為與定位凸起相適配的尖形。通過使定位板2上的定位凸起4與基板I底面設置的定位凹槽3嵌合固定，從而使得定位板2和基板I能夠保持嚴格的固定位置，為了使二者的固定更為穩(wěn)固，可將基板I粘結(jié)固定在基板容置槽13內(nèi)。其中，基板I正面的顯示器件圖案區(qū)域外設置有光學對位點7，光學對位點7采用兩個；在定位板2未開設基板容置槽的部位上設置有エ藝對位點6，エ藝對位點6采用兩個。本實施例中，エ藝對位點6為蒸鍍對位點，兩個蒸鍍對位點相對設置于基板容置槽13的兩側(cè)。通過使基板I上的光學對位點7及定位板2上的蒸鍍對位點保持相對固定距離，從而可以保證當將基板I固定在定位板2中、并將定位板2固定在蒸鍍設備的基板托架上之后，蒸鍍設備即能夠?qū)錓上的顯示器件圖案進行準確地蒸鍍。定位板2的制作以及其所容置的基板I上的光學對位點和定位凹槽3的制作，可以借助圖4所示的掩模板9來實現(xiàn)。在半導體和顯示設備行業(yè)中，一般是先在掩模板上設置各種光學標記和圖案，然后通 過曝光、顯影、刻蝕等エ藝，將掩模板上的各種光學標記和圖案映射到基板或其他類似的平面板上。在本實施例中，掩模板9采用特殊玻璃制作，該玻璃表面設置有鉻金屬薄膜，對鉻金屬薄膜進行特殊加工就可在掩模板9上形成各種光學標記和圖案。如圖4所示，在本實施例中，掩模板9上設置有基板容置槽標記10、對位標記和定位標記8，其中對位標記包括エ藝對位標記11和光學對位標記12。在實際應用中，基板容置槽標記10用于制作定位板2中用于容置基板I的基板容置槽13，エ藝對位標記11用于制作定位板2上的エ藝對位點6,光學對位標記12用于與基板I上的光學對位點7對位,定位標記8用于制作基板I底面上的定位凹槽3和定位板2上的定位板定位凸起4。上述光學標記和圖案可根據(jù)實際應用情況提前制作于掩模板9上。由于基板I底面的定位凹槽3、定位板2正面的基板容置槽13以及基板容置槽內(nèi)的定位凸起4均由同一塊掩模板9制作，因此能保證該定位板2對基板I在エ藝設備中的定位位置準確對應。當定位板2制備完畢后，即可將基板I放置在定位板2中的基板容置槽13內(nèi)，通過使基板I上的定位凹槽3與定位板2中基板容置槽內(nèi)的定位凸起4對準,從而將基板I準確對位并嵌合在定位板2上；在嵌合之前，可以先在基板I底面和基板容置槽內(nèi)涂抹粘結(jié)齊U，從而使基板I與定位板2固定為一體，保證基板I與定位板2相對位置的牢固以及精密固定。然后，將置有基板I的定位板2固定于蒸鍍設備的基板托架上，由于基板I正面上的顯示器件圖案區(qū)域5和光學對位點7與定位板2上的兩個相對設置的エ藝對位點6相對位置固定，從而通過定位板2上的エ藝對位點6就能實現(xiàn)基板I與蒸鍍用金屬掩模板的準確對位，實現(xiàn)對基板I上的顯示器件有機材料的蒸鍍，從而完成OLED的蒸鍍。在實際應用過程中，該定位板和加工配合単元的制作介于基板制備エ序與蒸鍍エ序之間，具體制作方法包括如下步驟11)制作掩模板9:A)選取ー玻璃板，在此玻璃板上根據(jù)基板I的外形尺寸制作基板容置槽標記10 ；B)在基板容置槽標記10的區(qū)域內(nèi)制作光學對位標記12，該光學對位標記12與基板I上的光學對位點7相對應；C)以光學對位標記12為基準，在基板容置槽標記10的區(qū)域內(nèi)制作定位標記8、在基板容置槽標記10的區(qū)域外制作エ藝對位標記11，該エ藝對位標記11與基板固定裝置上的エ藝對位點6相對應,在本實施例中エ藝對位標記11為蒸鍍對位標記；12)在基板I上直接形成加工配合単元A)在基板制備エ序完成之后，基板I中設置有顯示器件圖案的一面為正面，基板I正面同時還設置有光學對位點7。在本實施例中，基板I中顯示器件為OLED，在基板I正面的顯示器件圖案區(qū)域5中的顯示器件圖案包括OLED電極及其引線圖案； B)在基板I上覆蓋掩模板9，并使掩模板9上的光學對位標記12對準基板I正面的光學對位點7，以光學對位點7為基點，利用掩模板9上的定位標記8在基板I底面制作定位凹槽3。在本實施例中，基板定位凹槽3為尖形。由于基板采用玻璃制成，具有可透視性，因而很容易就可以在基板I的底面上的相應位置通過刻蝕或者噴砂等エ藝制作出尖形的定位凹槽3 ；13)制作定位板，并在定位板上直接形成加工配合單元A)選取一外形尺寸大于基板I外形尺寸的玻璃板作為定位板2，對其進行裁切，使其外形尺寸與蒸鍍設備基板中的基板托架的尺寸相適。在本實施例中，定位板2的外形為長方體形；
B)在定位板2上覆蓋掩模板9，利用掩模板9上的エ藝對位標記11在定位板2上制作エ藝對位點6，エ藝對位點6可采用不同的形狀和大小，エ藝對位點6通過在定位板2上覆蓋掩模板9進行曝光、顯影、刻蝕等步驟而形成。在本實施例中，エ藝對位點6為蒸鍍對位點；C)以エ藝對位點6為基點，利用掩模板9上的基板容置槽標記10在定位板2上刻蝕基板容置槽13，所形成的基板容置槽13的形狀和尺寸與基板I的形狀和尺寸相適配，基板容置槽13的深度可通過刻蝕液的濃度和刻蝕時間來進行控制；D)在刻蝕容置槽過程中，利用掩模板9上的定位標記8在定位板2中的基板容置槽13內(nèi)的相應位置形成尖形的定位凸起4，定位凸起4可以通過刻蝕或者噴砂等エ藝制作形成。上述步驟12)、13)中的掩模板為同一塊掩模板9。上述步驟12)主要涉及對基板I上的加工配合単元的制作，即主要用于制作定位凹槽3 ;上述步驟13)主要涉及對定位板2的制作及其定位板2上的加工配合単元的制作，即主要用于制作定位板中的蒸鍍對位點、基板容置槽13和定位凸起4。上述對基板I的處理和對定位板2的處理步驟是分別獨立的，在實際操作中可視情況按步驟11)、12)、13)或11)、13)、12)的順序進行制作。使用本實施例中定位板將基板I固定在蒸鍍設備中時，先將基板I置于定位板2中的基板容置槽13內(nèi)，使基板I上的尖形的定位凹槽3與定位板2上的尖形的定位凸起4嵌合，達到基板I與定位板2的準確定位，并粘結(jié)牢固，此時基板I上的光學對位點7與定位板2上的エ藝對位點6準確定位，從而實現(xiàn)基板I上顯示器件圖案與定位板2上的エ藝對位點6的準確定位；然后再將置有基板I的定位板2固定于蒸鍍設備的基板托架上，然后按正常流程對基板I進行蒸鍍處理。實施例2 本實施例與實施例I的區(qū)別在于，蒸鍍設備中的基板托架形狀為圓形，因此定位板2的外形為與蒸鍍設備中的基板托架形狀相適的圓形，基板I上的定位凹槽3和定位板2上的定位凸起4的形狀為相適配的圓錐形。本實施例中其他結(jié)構(gòu)以及制作過程都與實施例I相同，這里不再贅述。這里應該理解的是，定位凹槽3和定位凸起4的形狀并不限于上述實施例中列舉的形狀，任何可使得基板與定位板結(jié)合在一起、且便于取放的互相適配的形狀均應包括在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。同時應該理解的是，本發(fā)明中基板I的形狀和基板容置槽13的形狀并不限于上述實施例所述的形狀；定位板2的外形也不限于上述實施例所述的形狀，任何與基板I形狀和尺寸相適配的基板容置槽13形狀和尺寸、任何與基板托架形狀和尺寸相適配的定位板2的外形和尺寸的組合，均包括在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。此時，應根據(jù)所述基板的形狀和尺寸與設備基板托架的形狀和尺寸制作與之相適的掩模板，并制作出相應的定位板和使定位板與基板相適配的基板容置槽和加工配合単元。例如基板制備中的エ藝設備為圓形基板托架，基板為圓形，則定位板中的基板容置槽設置為圓形、其尺寸根據(jù)基板尺寸而定；而蒸鍍設備中的エ藝設備為圓形基板托架，則定位板的外形設置為圓形，其尺寸根據(jù)蒸鍍設備中的基板托架尺寸而定。在實際應用中，用戶可以根據(jù)基板和エ藝設備基板托架的具體情況設計不同的掩模板來制作定位板以及在基板上設置相適配的加工配合単元。實施例I和實施例2中的基板通過定位板以及相應的加工配合単元，使基板在定位板中定位準確，然后將定位板置于蒸鍍設備的基板托架上，從而使得基板在后續(xù)大尺寸的蒸鍍設備中定位準確，擴大了蒸鍍設備對不同基板的適應范圍，實現(xiàn)基板在蒸鍍設備中準確蒸鍍顯示器件有機材料及金屬電極的目的，解決了在OLED制備過程中，尤其是有源驅(qū)動式OLED顯示器在制備過程中同一基板在不同エ藝設備中(例如基板制備設備與蒸鍍設備)由于設備基板托架尺寸不一致引起的顯示器件定位錯位問題，其可操作性強，設備投入少，成本低。當然，這里應該理解的是，本發(fā)明所述的基板固定裝置不僅適用于OLED顯示設備的基板制備過程中同一基板在不同エ藝設備之間的轉(zhuǎn)換銜接，還適用于其他任何對基板尺寸有所限定的エ藝設備中，即當設備中只允許固定某ー種尺寸的基板時，即可采用該基板固定裝置來擴大其可固定的基板尺寸范圍，例如液晶顯示器基板的制作過程中，濺射薄膜的濺射設備中基板托架所能支持的基板尺寸與離子注入的離子注入設備中基板托架所能支持的基板尺寸不一樣時，就可以采用該基板固定裝置來使同一基板同時適應這兩種基板托架尺寸不一樣的エ藝設備，從而擴大濺射設備和離子注入設備的使用范圍。
可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內(nèi)的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種基板固定裝置，用于將基板(I)固定在工藝設備中，其特征在于所述基板固定裝置上表面設置有基板容置槽(13)以固定所述基板(I)，所述基板固定裝置的外形尺寸設置為使得其能夠固定在所述工藝設備上。
2.根據(jù)權利要求I所述的基板固定裝置，其特征在于所述基板固定裝置上設置有與所述基板⑴上的光學對位點(7)相對應的工藝對位點(6)。
3.根據(jù)權利要求2所述的基板固定裝置，其特征在于所述基板容置槽(13)的長度、寬度和深度與其所固定的基板(I)的長度、寬度和高度相適配。
4.根據(jù)權利要求2所述的基板固定裝置，其特征在于所述基板固定裝置包括定位板(2)、加工配合單元，所述定位板(2)的上表面設置有基板容置槽(13)以固定所述基板(I)，所述基板(I)與所述基板固定裝置通過加工配合單元連接；所述加工配合單元包括定位凸起和與所述定位凸起相適配的定位凹槽。
5.根據(jù)權利要求4所述的基板固定裝置，其特征在于所述定位板(2)中的基板容置槽(13)的深度與其所固定的基板(I)的高度相適配。
6.根據(jù)權利要求5所述的基板固定裝置，其特征在于所述定位凸起(4)設置在定位板(2)的基板容置槽內(nèi)并與所述基板(I)底面上的定位凹槽(3)的位置對應；或者，所述定位凹槽設置在定位板(2)的基板容置槽內(nèi)并與所述基板(I)底面上的定位凸起的位置對應。
7.根據(jù)權利要求6所述的基板固定裝置，其特征在于所述定位凸起的形狀為尖形或四方形或圓錐形，定位凹槽的形狀為與所述定位凸起適配的尖形或四方形或圓錐形。
8.根據(jù)權利要求1-7任一項所述的基板固定裝置，其特征在于所述基板固定裝置采用透明材料制成。
9.一種采用權利要求1-8任一項所述的基板固定裝置固定基板的方法，其特征在于包括如下步驟 1)將基板(I)固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽(13)內(nèi)； 2)將置有基板(I)的基板固定裝置固定在工藝設備的基板托架上； 或者， 1)將所述基板固定裝置固定在所述工藝設備的基板托架上； 2)將基板(I)固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽(13)內(nèi)。
10.根據(jù)權利要求9所述的方法，其特征在于還包括，使所述基板固定裝置中的工藝對位點(6)與基板(I)上的光學對位點(7)相對應。
11.根據(jù)權利要求9所述的方法，其特征在于將基板(I)固定在所述基板固定裝置中的基板容置槽內(nèi)包括在基板固定裝置和基板(I)之間放入粘性物質(zhì)，使二者粘結(jié)固定；和/或， 當基板固定裝置包括定位板(2)和加工配合單元時，所述方法進一步包括使定位凹槽和定位凸起對位配合，使得基板固定裝置和基板(I)位置相對固定。
12.根據(jù)權利要求9所述的方法，其特征在于所述基板固定裝置的制作方法包括如下步驟 A)選取一透明板作為基板固定裝置，對其進行裁切，使其外形尺寸與基板(I)所在工序的工藝設備中基板托架的尺寸相適； B)選取一透明板制成的掩模板(9)覆蓋在基板固定裝置上，所述掩模板(9)設置有與基板(I)的外形尺寸相適配的基板容置槽標記(10)、在所述基板容置槽標記(10)的區(qū)域內(nèi)的光學對位標記(12)和與光學對位標記(12)具有固定位置關系的定位標記(8)、在基板容置槽標記(10)的區(qū)域外的工藝對位標記(11)； C)利用掩模板(9)上的工藝對位標記(11)在基板固定裝置上制作工藝對位點(6)； D)以工藝對位點(6)為基點，利用掩模板(9)上的基板容置槽標記(10)在基板固定裝置的上表面開設基板容置槽(13)，所述基板容置槽(13)的深度與其所固定的基板(I)的高度相適配。
13.根據(jù)權利要求12所述的方法，其特征在于所述基板固定裝置的制作方法還進一步包括 E)利用掩模板(9)上的定位標記(8)，在基板容置槽內(nèi)制作定位凸起或定位凹槽； 或者， E)利用掩模板(9)上的基板容置槽標記(10)，使所述基板容置槽(13)的長度和寬度與其所固定的基板(I)的長度和寬度相適配。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基板固定裝置，用于將基板(1)固定在工藝設備中，所述基板固定裝置上表面設置有基板容置槽(13)以固定所述基板(1)，所述基板固定裝置的外形尺寸設置為使得其能夠固定在所述工藝設備上。一種固定基板的方法。本發(fā)明通過在不同的工藝設備中采用基板固定裝置，從而擴大了同一基板對不同工藝設備的適應范圍，保證了基板在不同工藝設備中的準確定位，解決了同一基板在不同工藝設備中基板托架尺寸不一致引起的錯位問題。
文檔編號H01L21/687GK102629567SQ20111031933
公開日2012年8月8日 申請日期2011年10月19日 優(yōu)先權日2011年10月19日
發(fā)明者王玉林 申請人:京東方科技集團股份有限公司