專利名稱：具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)計(jì)及制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法。
背景技術(shù)：
長期以來，為了獲得更高的芯片密度、更快的工作速度以及更低的功耗。金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的特征尺寸一直遵循著所謂的摩爾定律 (Moore' slaw)不斷按比例縮小，其工作速度越來越快。當(dāng)前已經(jīng)進(jìn)入到了納米尺度的范圍。然而，隨之而來的一個(gè)嚴(yán)重的挑戰(zhàn)是出現(xiàn)了短溝道效應(yīng)，例如亞閾值電壓下跌(Vt roll-off)、漏極引起勢(shì)壘降低(DIBL)、源漏穿通(punch through)等現(xiàn)象，使得器件的關(guān)態(tài)泄漏電流顯著增大，從而導(dǎo)致性能發(fā)生惡化。此外通過SOI (Silicon On Insulator)結(jié)構(gòu)可以降低漏電，但SOI中的SiO2絕緣層的導(dǎo)熱率低，小尺寸器件中溝道內(nèi)產(chǎn)生的熱量不易散出，因此SOI器件的散熱受到抑制。因此，對(duì)于目前的器件結(jié)構(gòu)來說，漏電大和散熱難是制約器件小型化的關(guān)鍵因素。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的旨在至少解決上述技術(shù)缺陷之一，特別是解決現(xiàn)有技術(shù)中器件漏電大的缺陷。本發(fā)明一方面提出了一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括襯底；形成在所述襯底之上的多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，其中，每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙，所述間隙小于50nm; 形成在所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間，且與所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連的懸空薄層，其中，所述凸起結(jié)構(gòu)為溝道，所述凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層為源極和漏極；和形成在所述凸起結(jié)構(gòu)之上的柵堆疊。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述凸起結(jié)構(gòu)從所述凸起結(jié)構(gòu)的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部之間的間隙小于所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)中部之間的間隙。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述凸起結(jié)構(gòu)為多層結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述懸空薄層通過對(duì)所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)退火形成，所述退火溫度為800-1350度，且在退火時(shí)氣氛中含有氫氣。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述凸起結(jié)構(gòu)為三個(gè)，依次包括第一凸起結(jié)構(gòu)至第三凸起結(jié)構(gòu)，其中，所述第二凸起結(jié)構(gòu)為溝道，所述第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第二凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為源極，所述第二凸起結(jié)構(gòu)和所述第三凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為漏極。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第三凸起結(jié)構(gòu)與其他凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層被刻蝕掉以作為隔離結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，還包括與所述第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)相鄰的第四凸起結(jié)構(gòu)或第五凸起結(jié)構(gòu)，所述第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)為溝道以形成共用源極或漏極的器件。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，還包括形成在所述柵堆疊兩側(cè)的一層或多層側(cè)墻。本發(fā)明實(shí)施例另一方面還提出了一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，包括以下步驟提供襯底；在所述襯底之上形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙，所述間隙小于50nm;在所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間形成懸空薄層，且所述懸空薄層與所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連；在所述凸起結(jié)構(gòu)之上形成柵堆疊；和對(duì)所述柵堆疊兩側(cè)的懸空薄層進(jìn)行摻雜以使所述凸起結(jié)構(gòu)形成為溝道，所述凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層形成為源極和漏極。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述凸起結(jié)構(gòu)從所述凸起結(jié)構(gòu)的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部之間的間隙小于所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)中部之間的間隙。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述懸空薄層通過對(duì)所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)退火形成，所述退火溫度為800-1350度，且在退火時(shí)氣氛中含有氫氣。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，還包括去除位于隔離區(qū)域中的懸空薄層以形成隔離結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，還包括在所述柵堆疊兩側(cè)形成一層或多層側(cè)墻。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述在多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部形成懸空薄層具體包括在所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之上外延形成所述懸空薄層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述在晶圓片之上形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在所述晶圓片之上形成第一半導(dǎo)體材料層；向所述第一半導(dǎo)體材料層之中注入Si或Ge離子以在所述第一半導(dǎo)體材料層之中形成離子注入層；和對(duì)所述第一半導(dǎo)體材料層進(jìn)行選擇性刻蝕以形成所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)。本發(fā)明實(shí)施例采用懸空的源漏結(jié)構(gòu)，一方面使得源漏中摻雜雜質(zhì)向襯底的擴(kuò)散被抑制，從而易制備超淺結(jié)，另一方面由于源漏及襯底之間不存在接觸，因此還可以抑制源漏與襯底之間的BTBT漏電。此外，本發(fā)明實(shí)施例減小了源漏的寄生結(jié)電容，提高了器件的性能。并且通過本發(fā)明實(shí)施例可以形成SihCx、高Ge組分SiGe、Ge或III-V族化合物半導(dǎo)體材料的懸空薄層，從而改善器件性能。如果采用SOI結(jié)構(gòu)時(shí)，溝道的散熱會(huì)受到絕緣層的阻礙，而本發(fā)明通過采用凸起結(jié)構(gòu)作為溝道，可以有效解決SOI結(jié)構(gòu)中絕緣層對(duì)散熱的抑制問題，同時(shí)還可以同SOI結(jié)構(gòu)一樣，降低器件的漏電，從而改善器件性能。本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。


本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖；圖2為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例的多層凸起結(jié)構(gòu)的示意圖；圖4為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例形成兩個(gè)共用源極或漏極的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例形成兩個(gè)共用源極或漏極的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)示意圖6為本發(fā)明實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法流程圖。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。下文的公開提供了許多不同的實(shí)施例或例子用來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的不同結(jié)構(gòu)。為了簡化本發(fā)明的公開，下文中對(duì)特定例子的部件和設(shè)置進(jìn)行描述。當(dāng)然，它們僅僅為示例，并且目的不在于限制本發(fā)明。此外，本發(fā)明可以在不同例子中重復(fù)參考數(shù)字和/或字母。這種重復(fù)是為了簡化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實(shí)施例和/或設(shè)置之間的關(guān)系。此外，本發(fā)明提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識(shí)到其他工藝的可應(yīng)用于性和/或其他材料的使用。另外，以下描述的第一特征在第二特征之 “上”的結(jié)構(gòu)可以包括第一和第二特征形成為直接接觸的實(shí)施例，也可以包括另外的特征形成在第一和第二特征之間的實(shí)施例，這樣第一和第二特征可能不是直接接觸。如圖1所示，為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。如圖2 所示，為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。該具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括襯底1100，形成在襯底1100之上的多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200，其中，每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200之間具有一定間隙，該間隙小于50nm，優(yōu)選地小于30nm。需要說明的是，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例之中凸起結(jié)構(gòu)可為垂直結(jié)構(gòu)，而在圖2和圖3的實(shí)施例中，凸起結(jié)構(gòu)1200 從凸起結(jié)構(gòu)1200的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200頂部之間的間隙小于兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200中部之間的間隙，從而可以通過退火或外延形成懸空薄層1300。如果對(duì)于兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200頂部之間間隙小于中部之間間隙的情況來說，上述預(yù)定距離是兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200之間的最近距離，即兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200頂部之間的距離。本發(fā)明適于小尺寸器件，特別適于解決小尺寸器件的漏電問題。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括形成在每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200之間，且與兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200 頂部相連的懸空薄層1300，其中，凸起結(jié)構(gòu)1200為溝道，凸起結(jié)構(gòu)1200兩側(cè)的懸空薄層 1300為源極和漏極。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括形成在凸起結(jié)構(gòu)1200之上的柵堆疊1400。其中， 柵堆疊1400包括柵介質(zhì)層和柵電極，例如為高k柵介質(zhì)層等。在該實(shí)施例中，示出了兩個(gè)獨(dú)立的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，每個(gè)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)構(gòu)成一個(gè)器件，兩者之間相互隔離，具體地，兩個(gè)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層1300被刻蝕掉從而形成隔離結(jié)構(gòu)。在該實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括三個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200，依次包括第一凸起結(jié)構(gòu)至第三凸起結(jié)構(gòu)，其中，第二凸起結(jié)構(gòu)(位于中間)為溝道，第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第二凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為源極，第二凸起結(jié)構(gòu)和第三凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為漏極。懸空薄層1300通常都很薄，一般約為IOnm 以下，從而可以用于制備超淺結(jié)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，襯底1100包括Si或低Ge組分SiGe，懸空薄層1300包括SihCx、高Ge組分SiGe、Ge等。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，如果懸空薄層1300通過外延形成，則懸空薄層1300還可以為III-V族化合物半導(dǎo)體材料。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，懸空薄層1300可通過對(duì)多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200退火形成。 本發(fā)明實(shí)施例通過高溫氫氣氛退火能使表面原子發(fā)生遷移，退火溫度一般約在800-1350度，同時(shí)在本發(fā)明實(shí)施例中退火時(shí)還需要?dú)夥罩泻袣錃?，氫氣能有效地促進(jìn)表面原子的遷移。優(yōu)選地，當(dāng)凸起結(jié)構(gòu)1200包括高Ge組分SiGe或Ge時(shí)，在退火時(shí)還通入SiH4、GeH4、 SiH2Cl2, SiHCl3中的一種或多種氣體，通過氣體分解在表面沉積少量的Si和/或Ge原子， 以使獲得的半導(dǎo)體薄層表面更加平整，從而獲得更好的效果。在退火之后，兩個(gè)相鄰的多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)1200的頂部會(huì)相互接觸從而形成懸空薄層1300。在本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)于凸起結(jié)構(gòu)材料不同，其退火溫度也不同，例如對(duì)于Si材料來說，一般退火溫度較高，約1200度左右，而對(duì)于Ge材料來說，退火溫度較低，約900度左右。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，凸起結(jié)構(gòu)1200為多層結(jié)構(gòu)，其中，多層凸起結(jié)構(gòu)中的最頂層為SihCx、高Ge組分SiGe、Ge。如圖3所示，為本發(fā)明實(shí)施例的多層凸起結(jié)構(gòu)的示意圖。其中，所述多層結(jié)構(gòu)中的最頂層為SihCx、高Ge組分SiGe、Ge。例如對(duì)圖3來說， 凸起結(jié)構(gòu)1200的底層為低Ge組分的SiGe層，頂層為Ge層。這樣低Ge組分的SiGe層可以作為襯底1100和Ge層之間的過渡層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括形成在柵堆疊1400兩側(cè)的一層或多層側(cè)墻，從而可以使得源極和漏極與溝道的界面層延伸至凸起結(jié)構(gòu)材料之中，以改善結(jié)的界面特性，進(jìn)一步提高器件性能。在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，還可形成兩個(gè)共用源極或漏極的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，如圖4 和5所示。在該實(shí)施例中，還包括與第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)相鄰的第四凸起結(jié)構(gòu)或第五凸起結(jié)構(gòu)，第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)為溝道以形成共用源極或漏極的器件。如圖6所示，為本發(fā)明實(shí)施例的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法流程圖， 包括以下步驟步驟S601，提供襯底，其中，襯底包括Si或低Ge組分SiGe。步驟S602，在襯底之上形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙，一般該間隙小于50nm，優(yōu)選地小于30nm。凸起結(jié)構(gòu)從凸起結(jié)構(gòu)的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部之間的間隙小于兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)中部之間的間隙，從而可以通過退火或外延形成懸空薄層。具體地，在襯底之上先外延一層或多層半導(dǎo)體材料，例如為Si、SiGe、 Ge的第一半導(dǎo)體材料層。當(dāng)然在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，也可以將襯底表層作為第一半導(dǎo)體材料層，即直接在襯底的表面進(jìn)行刻蝕以形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，為了形成圖1所示的凸起結(jié)構(gòu)，需要采用具有各向異性的濕法刻蝕對(duì)外延的第一半導(dǎo)體材料層進(jìn)行刻蝕?；蛘?，可替換地，在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，先向第一半導(dǎo)體材料層之中注入Si或 Ge離子以在第一半導(dǎo)體材料層之中形成離子注入層，接著采用干法刻蝕對(duì)第一半導(dǎo)體材料層進(jìn)行選擇性刻蝕以形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，由于離子注入層中損傷嚴(yán)重，晶體結(jié)構(gòu)被打亂，其刻蝕速度大于第一半導(dǎo)體材料層其他部分的刻蝕速度，從而可以形成圖2所示的結(jié)構(gòu)。步驟S603，在每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間形成懸空薄層，且懸空薄層與兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連，其中，懸空薄層包括SihCx、高Ge組分SiGe、Ge等。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)為高Ge組分SiGe、Ge，則懸空薄層可通過對(duì)多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)退火形成。本發(fā)明實(shí)施例通過退火能使表面材料發(fā)生遷移，退火溫度一般約在800-1350度，同時(shí)在本發(fā)明實(shí)施例中退火時(shí)還需要?dú)夥罩泻袣錃?。?yōu)選地，在退火時(shí)還通入SiH4、GeH4, SiH2Cl2, SiHCl3中的一種或多種氣體，通過氣體分解在表面沉積少量的Si和/或Ge原子，以使獲得的半導(dǎo)體薄層表面更加平整，從而獲得更好的效果。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，凸起結(jié)構(gòu)為多層結(jié)構(gòu)，其中，多層結(jié)構(gòu)中的最頂層為 Si』、高 Ge 組分 SiGe、Ge。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，還可通過外延的方式形成懸空薄層。包括表面為 (100)晶向的SijihCpSiGhGe襯底，由于外延材料在頂部的側(cè)向生長速度不低于縱向生長速度，從而可以使得外延的材料很快將兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間頂部的間隙封閉，從而懸空薄層與襯底之間不會(huì)直接接觸，從而依然能夠保持懸空薄層的一部份相對(duì)于襯底懸空。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，如果懸空薄層通過外延形成，則懸空薄層還可以為III-V族化合物半導(dǎo)體材料。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如果退火之后懸空薄層的厚度比較厚的話， 則還需要對(duì)該懸空薄層進(jìn)行刻蝕或減薄處理。步驟S604，在凸起結(jié)構(gòu)之上形成柵堆疊。步驟S605，在柵堆疊兩側(cè)形成一層或多層側(cè)墻。步驟S606，對(duì)柵堆疊兩側(cè)的懸空薄層進(jìn)行摻雜以使凸起結(jié)構(gòu)形成為溝道，凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層形成為源極和漏極。在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，還需要去除位于隔離區(qū)域中的懸空薄層以形成隔離結(jié)構(gòu)。本發(fā)明實(shí)施例采用懸空的源漏結(jié)構(gòu)，一方面使得源漏中摻雜雜質(zhì)向襯底的擴(kuò)散被抑制，從而易制備超淺結(jié)，另一方面由于源漏及襯底之間不存在接觸，因此還可以抑制源漏與襯底之間的BTBT漏電。此外，本發(fā)明實(shí)施例減小了源漏的寄生結(jié)電容，提高了器件的性能。并且通過本發(fā)明實(shí)施例可以形成SihCx、高Ge組分SiGe、Ge或III-V族化合物半導(dǎo)體材料的懸空薄層，從而改善器件性能。如果采用SOI結(jié)構(gòu)時(shí)，溝道的散熱會(huì)受到絕緣層的阻礙，而本發(fā)明通過采用凸起結(jié)構(gòu)作為溝道，可以有效解決SOI結(jié)構(gòu)中絕緣層對(duì)散熱的抑制問題，同時(shí)還可以同SOI結(jié)構(gòu)一樣，降低器件的漏電，從而進(jìn)一步改善器件性能。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同限定。
權(quán)利要求
1.一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括 襯底；形成在所述襯底之上的多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，其中，每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙，所述間隙小于50nm ；形成在所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間，且與所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連的懸空薄層，其中， 所述凸起結(jié)構(gòu)為溝道，所述凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層為源極和漏極；和形成在所述凸起結(jié)構(gòu)之上的柵堆疊。
2.如權(quán)利要求1所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)從所述凸起結(jié)構(gòu)的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部之間的間隙小于所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)中部之間的間隙。
3.如權(quán)利要求1所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)為多層結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述懸空薄層通過對(duì)所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)退火形成，所述退火溫度為800-1350度，且在退火時(shí)氣氛中含有氫氣。
5.如權(quán)利要求1所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)為三個(gè)，依次包括第一凸起結(jié)構(gòu)至第三凸起結(jié)構(gòu)，其中，所述第二凸起結(jié)構(gòu)為溝道，所述第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第二凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為源極，所述第二凸起結(jié)構(gòu)和所述第三凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層為漏極。
6.如權(quán)利要求5所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第三凸起結(jié)構(gòu)與其他凸起結(jié)構(gòu)之間的懸空薄層被刻蝕掉以作為隔離結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求5所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括與所述第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)相鄰的第四凸起結(jié)構(gòu)或第五凸起結(jié)構(gòu)，所述第二凸起結(jié)構(gòu)或第三凸起結(jié)構(gòu)為溝道以形成共用源極或漏極的器件。
8.如權(quán)利要求1所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括 形成在所述柵堆疊兩側(cè)的一層或多層側(cè)墻。
9.一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，包括以下步驟 提供襯底；在所述襯底之上形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙，所述間隙小于50nm ；在所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間形成懸空薄層，且所述懸空薄層與所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連；在所述凸起結(jié)構(gòu)之上形成柵堆疊；和對(duì)所述柵堆疊兩側(cè)的懸空薄層進(jìn)行摻雜以使所述凸起結(jié)構(gòu)形成為溝道，所述凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層形成為源極和漏極。
10.如權(quán)利要求9所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)從所述凸起結(jié)構(gòu)的中部向頂部逐漸增大以使兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部之間的間隙小于所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)中部之間的間隙。
11.如權(quán)利要求9所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，所述懸空薄層通過對(duì)所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)退火形成，所述退火溫度為800-1350度，且在退火時(shí)氣氛中含有氫氣。
12.如權(quán)利要求9所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，還包括去除位于隔離區(qū)域中的懸空薄層以形成隔離結(jié)構(gòu)。
13.如權(quán)利要求9所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，還包括在所述柵堆疊兩側(cè)形成一層或多層側(cè)墻。
14.如權(quán)利要求9所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，所述在多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部形成懸空薄層具體包括在所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之上外延形成所述懸空薄層。
15.如權(quán)利要求10所述的具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，所述在襯底之上形成多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在所述襯底之上形成第一半導(dǎo)體材料層；向所述第一半導(dǎo)體材料層之中注入Si或Ge離子以在所述第一半導(dǎo)體材料層之中形成離子注入層；和對(duì)所述第一半導(dǎo)體材料層進(jìn)行選擇性刻蝕以形成所述多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提出一種具有懸空源漏的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括襯底；形成在所述襯底之上的多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，其中，每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間具有一定間隙；形成在所述每兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)之間，且與所述兩個(gè)凸起結(jié)構(gòu)頂部相連的懸空薄層，其中，所述凸起結(jié)構(gòu)為溝道，所述凸起結(jié)構(gòu)兩側(cè)的懸空薄層為源極和漏極；和形成在所述凸起結(jié)構(gòu)之上的柵堆疊。由于溝道的散熱問題非常嚴(yán)重，因此通過采用凸起結(jié)構(gòu)作為溝道可以有效解決器件的散熱問題。
文檔編號(hào)H01L29/06GK102214682SQ20111014971
公開日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2011年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月3日
發(fā)明者王敬, 郭磊 申請(qǐng)人:清華大學(xué)