基板搬送裝置、曝光裝置、基板支持裝置及元件制造方法
【專利摘要】一種基板搬送裝置（7)，是將載置于基板支持構(gòu)件（T)的基板（P)與該基板支持構(gòu)件一起搬送，其特征在于具備：使載置有前述基板的前述基板支持構(gòu)件振動的加振部（V);保持前述加振部使振動的前述基板支持構(gòu)件并移動的搬送部（4)。
【專利說明】基板搬送裝置、曝光裝置、基板支持裝置及元件制造方法
[0001] 本申請是基于2009年10月28日提出申請的美國臨時申請第61/272745號主張 優(yōu)先權(quán)并將其內(nèi)容在此引用。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002] 本發(fā)明是關(guān)于一種基板搬送裝置、曝光裝置、基板支持裝置、及元件制造方法。
【背景技術(shù)】
[0003] 在平板顯示器等的電子元件的工藝中，使用曝光裝置或檢查裝置等大型基板的處 理裝置。在使用此等處理裝置的曝光步驟、檢查步驟，使用將大型基板（例如玻璃基板）搬 送至處理裝置的下述專利文獻所揭示的搬送裝置。
[0004] 專利文獻1 :日本特開2001-100169號公報。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 然而，在上述的大型基板的搬送裝置，在將搬出入部所保持的基板交接至基板支 持裝置時，基板與基板支持裝置分別受到支持。因此，依基板的支持方法會有使基板因本身 重量而向下方彎曲的情形。若將因本身重量而呈彎曲狀態(tài)的基板交接至基板支持裝置，則 基板的向下方彎曲的部分會與基板支持裝置接觸，由于接觸部分的摩擦，在基板支持裝置 上基板會維持彎曲狀態(tài)。
[0006] 例如在曝光裝置，若將呈如上述變形狀態(tài)的基板交接至曝光用的基板保持具，則 會產(chǎn)生無法在基板上的適當位置進行既定曝光等的曝光不良的問題。又，在載置于基板支 持裝置的基板產(chǎn)生彎曲的情形，為了解決上述情形而重新進行交接，因此會產(chǎn)生基板的處 理延遲的問題。
[0007] 本發(fā)明的形態(tài)的目的在于提供一種可解決在基板交接時產(chǎn)生的基板的彎曲的基 板搬送裝置、曝光裝置、基板支持裝置、及元件制造方法。
[0008] 依本發(fā)明第1形態(tài)，提供一種基板搬送裝置，是將載置于基板支持構(gòu)件的基板與 該基板支持構(gòu)件一起搬送，其特征在于具備：使載置有前述基板的前述基板支持構(gòu)件振動 的加振部；保持前述加振部使振動的前述基板支持構(gòu)件并移動的搬送部。
[0009] 依本發(fā)明第2形態(tài)，提供一種曝光裝置，對基板保持具保持的基板照射曝光用光 而使前述基板曝光，其特征在于：具備對前述基板保持具搬送前述基板的上述的基板搬送 裝置。
[0010] 依本發(fā)明第3形態(tài)，提供一種基板支持裝置，支持基板，其特征在于具有：載置前 述基板的載置部；設(shè)于前述載置部且使前述載置部振動的振動產(chǎn)生部。
[0011] 依本發(fā)明第4形態(tài)，提供一種元件制造方法，包含：使用上述的曝光裝置使該基板 曝光的動作；以及基于曝光結(jié)果處理曝光后的前述基板的動作。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的形態(tài)，可解決在基板交接時產(chǎn)生的基板的彎曲。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013] 圖1顯示曝光裝置的整體概略的剖面俯視圖。
[0014] 圖2搬送機器手的外觀立體圖。
[0015] 圖3用以說明搬送機器手的動作的立體圖。
[0016] 圖4顯示搬出入部的概略構(gòu)成的側(cè)視圖。
[0017] 圖5顯示托盤的平面構(gòu)造的俯視圖。
[0018]圖6顯示托盤收容于基板保持具的槽部的狀態(tài)的部分側(cè)剖面圖。 [0019]圖7A顯示第1實施形態(tài)的拖盤及搬送手的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0020]圖7B顯示第1實施形態(tài)的拖盤及搬送手的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0021]圖8A顯示第1實施形態(tài)的拖盤及搬出入部的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0022]圖8B顯示第1實施形態(tài)的拖盤及搬出入部的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0023]圖9是以顏色的濃淡顯示基板的彎曲的俯視圖。
[0024]圖10說明現(xiàn)有習知的曝光裝置的基板交接步驟的示意圖。
[0025] 圖11說明現(xiàn)有習知的曝光裝置的基板交接步驟的示意圖。
[0026] 圖I2說明本實施形態(tài)的曝光裝置的基板交接步驟的示意圖。
[0027] 圖Π 說明本實施形態(tài)的曝光裝置的基板交接步驟的示意圖。
[0028] 圖14顯示第2實施形態(tài)的拖盤及搬送手的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0029] 圖15顯示第2實施形態(tài)的拖盤及搬出入部的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0030]圖16A顯示第3實施形態(tài)的拖盤及搬送手的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0031]圖16B顯示第3實施形態(tài)的拖盤及搬送手的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0032]圖ΠΑ顯示第 3實施形態(tài)的拖盤及搬出入部的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0033]圖ΠΒ顯示第3實施形態(tài)的拖盤及搬出入部的概略構(gòu)成的剖面圖。 [0034]圖I 8說明本發(fā)明實施形態(tài)的元件制造方法的流程圖。
[0035] 【主要元件符號說明】
[0036] 1 :曝光裝置
[0037] 3 :曝光裝置本體
[0038] 4、4a、4b :搬送機器手（搬送部）
[0039] 5、5a、5b :搬出入部（出入口部）
[0040] 7、7a、7b :基板搬送裝置
[0041] 9:基板保持具
[0042] 12 :搬送手
[0043] 16、17:抵接部
[0044] 18 :側(cè)部
[0045] 20 :載置部
[0046] 20a :上面（基板支持面）
[0047] 30 :槽部
[0048] 31 :保持部（保持具部）
[0049] 52b :拖盤支持銷（支持部）
[0050] 52c、52e :抵接部
[0051] 61 :手致動器（致動器、振動產(chǎn)生部）
[0052] 62 :手控制部（控制部、振動產(chǎn)生^ )
[0053] 71 :支持部致動器（致動器、振動^生部）
[0054] 72 :支持部控制部（控制部、振動產(chǎn)生部）
[0055] EH、EH2 :手側(cè)供電部（供電部）
[0056] EP、EP2 :支持部側(cè)供電部（供電部）
[0057] ET :拖盤側(cè)供電部（供電部）°
[0058] IL :曝光用光
[0059] P :基板
[0060] T、Tl、T2 :拖盤（基板支持構(gòu)件、基板支持裝置）
[0061] V、V1、V2:加振部
[0062] VA、VA1、VA2 :振動致動器（振動產(chǎn)生部）
【具體實施方式】
[0063]參閱圖式說明本發(fā)明的第1實施形態(tài)。又，本發(fā)明并不限于此。以下，針對具備本 發(fā)明的基板搬送裝置、對涂布有感光劑的基板進行使液晶顯示元件用圖案曝光的曝光處理 的曝光裝置進行說明，且針對本發(fā)明的基板支持裝置、及元件制造方法的一實施形態(tài)也進 行說明。
[0064^圖1顯示本實施形態(tài)的曝光裝置的概略構(gòu)成的剖面俯視圖。曝光裝置i具備使液 晶顯示元件用圖案曝光于基板的曝光裝置本體3、搬送機器手（搬送部）4、搬出入部（出入 口部）5、及具有不圖示的加振部的基板搬送裝置7,所述收納于被高度潔凈化、且調(diào)整至既 定溫度的腔室2內(nèi)。關(guān)于基板搬送裝置7的加振部，往后使用圖面詳細說明。本實施形態(tài) 中，基板是大型玻璃板，其一邊的尺寸為例如500mm以上。
[0065]圖2是曝光裝置本體3、及將基板P搬送至此曝光裝置本體3的搬送機器手4的外 觀立體圖。曝光裝置本體3具備以曝光用光IL照明光罩Μ的未圖標的照明系統(tǒng)、保持形成 有液晶顯示元件用圖案的光罩Μ的未圖示的光罩載臺、配置于此光罩載臺下方的投影光學(xué) 系統(tǒng)PL、設(shè)成可在配置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL下方的基座8上二維移動的基板保持具9、及保 持基板保持具9且使該基板保持具9移動的移動機構(gòu)33。亦即，曝光裝置本體3,設(shè)有具備 基板保持具9與移動機構(gòu)33的載臺裝置。
[0066] 此外，以下說明中，設(shè)基板保持具9相對基座8的二維移動是在水平面內(nèi)進行，在 此水平面內(nèi)彼此正交的方向設(shè)定X軸及Υ軸。基板保持具9對基板Ρ的保持面，在基準狀 態(tài)（例如，進行基板ρ的交接時的狀態(tài)）下設(shè)與水平面平行。又，在與X軸及γ軸正交的方 向設(shè)定Ζ軸，投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸設(shè)與Ζ軸平行。此外，將繞X軸、Υ軸及Ζ軸的各方向 分別稱為ΘΧ方向、ΘΥ方向及ΘΖ方向。
[0067] 移動機構(gòu)33具有移動機構(gòu)本體35,及配置于移動機構(gòu)本體35上、保持基板保持具 9的板臺34。移動機構(gòu)本體35是借由氣體軸承以非接觸方式支持于導(dǎo)引面 8a(基座8的 上面），可在導(dǎo)引面8a上移動于XY方向。曝光裝置本體3，在保持基板P的狀態(tài)下，在光射 出側(cè)（投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)龋稍趯?dǎo)引面％的既定區(qū)域內(nèi)移動。
[0068] 移動機構(gòu)本體35是借由包含例如線性馬達等致動器的粗動系統(tǒng)（移動機構(gòu)）的 動作，可在導(dǎo)引面8a上移動于XY平面內(nèi)。板臺34是借由包含例如音圈馬達等致動器的微 動系統(tǒng)的動作，可相對移動機構(gòu)本體35在Ζ軸、Θ X、θ γ方向移動。板臺34是借由包含粗 動系統(tǒng)及微動系統(tǒng)的基板載臺驅(qū)動系統(tǒng)的動作，在保持基板ρ的狀態(tài)下，可在 χ軸、γ軸、Ζ 軸、θχ、θγ、及ΘΖ方向的六個方向移動。 、
[0069]搬送機器手4是用以對曝光裝置本體3及搬出入部5搬送基板ρ者。搬送機器手 4保持支持載置的基板Ρ的后述的托盤（基板支持構(gòu)件、基板支持裝置）τ，使基板ρ與托盤 Τ 一起移動以搬送基板Ρ，對曝光裝置本體3及搬出入部5交接基板ρ。
[0070]曝光裝置1，在長方形基板Ρ載置于上述基板保持具9上的狀態(tài)下，進行步進掃描 方式的曝光，形成光罩Μ的圖案依序轉(zhuǎn)印至基板ρ上的多個、例如4個曝光區(qū)域（圖案轉(zhuǎn)印 區(qū)域）。亦即，在此曝光裝置1，進行下述掃描曝光，亦即借由來自照明系統(tǒng)的曝光用光 IL照 明光罩Μ上的狹縫狀的照明區(qū)域的狀態(tài)下，借由未圖示的控制器通過未圖標的驅(qū)動系統(tǒng)'，' 使保持光罩Μ的光罩載臺與保持基板Ρ的基板保持具9同步移動于既定掃描方向（此處設(shè) 為Υ軸方向），借此將光罩Μ的圖案轉(zhuǎn)印至基板Ρ上的丨個曝光區(qū)域，亦即，進行掃描曝光。 此外，本實施形態(tài)的曝光裝置1構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL具有多個投影光學(xué)模塊、上述照明系 統(tǒng)包含與多個投影光學(xué)模塊對應(yīng)的多個照明模塊的所謂多透鏡型掃描曝光裝置。......
[0071]在此1個曝光區(qū)域的掃描曝光結(jié)束后，進行使基板保持具9以既定量在X方向移 動至下一個曝光區(qū)域的掃描開始位置的步進動作。接著，在曝光裝置本體3,借由反復(fù)進行 此種掃描曝光與步進動作，將光罩Μ的圖案依序轉(zhuǎn)印至4個曝光區(qū)域。
[0072]如圖2所示，搬送機器手4具有例如水平關(guān)節(jié)型構(gòu)造者，具備由通過垂直關(guān)節(jié)軸連 結(jié)的多個部分構(gòu)成的臂部10、連結(jié)于此臂部10前端的搬送手12、及驅(qū)動裝置13。臂部1〇 可借由驅(qū)動裝置13例如在上下方向（Ζ軸方向）移動。驅(qū)動裝置13是借由未圖標的控制 裝置控制其驅(qū)動。
[0073]搬送手12,前端部設(shè)成開放的大致U型的形狀，將托盤Τ的長邊方向（基板Ρ的長 邊方向）的兩側(cè)部18、18支持于與托盤Τ的長邊平行的支持方向，借此可通過托盤τ保持 基板Ρ。此外，搬送手12具備對設(shè)于托盤Τ的不圖示的振動致動器（振動產(chǎn)生部）供給電 力的不圖示的供電部。關(guān)于振動致動器及供電部，往后使用圖面詳細說明。
[0074]圖3用以說明搬送機器手4的動作的立體圖。如圖2及圖3所示，搬送機器手4能 以使搬送手12的長邊方向（基板Ρ的長邊方向）朝向曝光裝置本體3的基板保持具9側(cè) 的方式改變搬送手12的方向。借此，搬送機器手4將基板Ρ交接至基板保持具9。
[0075] 此外，此搬送機器手4,在圖2及圖3為了方便起見并未圖示，但具備設(shè)于搬送手 12下方、具有與此搬送手I2相同的機構(gòu)且可獨立驅(qū)動的搬送手的雙臂構(gòu)造。又，搬送機器 手4并不限于水平關(guān)節(jié)型構(gòu)造的機器手，可適當采用公知的機器手（一般而言為搬送機構(gòu)） 或組合來實現(xiàn)。
[0076] 圖4顯示搬出入部5的概略構(gòu)成的側(cè)視圖。搬出入部5被交接在與曝光裝置1相 鄰配置的涂布顯影機（未圖示）涂布感光劑并搬送而來的基板Ρ。搬出入部5具備支持基 板Ρ的基板支持部51、及支持托盤Τ的托盤支持部52?；逯С植?1具備平板狀的第1 支持部51a、及堅設(shè)于此第1支持部51a上并分別支持基板Ρ下面的不同部位的多個基板支 持銷（支持銷） 5此。本實施形態(tài)中，基板支持銷51b設(shè)置例如3〇個。
[0077] 各基板支持銷51b設(shè)成下端部固定于第1支持部51a、上端部（上端面）可支持基 板P。在基板支持銷51b的上端面設(shè)有連接于未圖示的真空泵的吸附孔，可吸附保持基板 P。又，在基板支持銷51b的上端部設(shè)有檢測基板P是否載置于基板支持銷51b的未圖示的 基板檢測部。
[0078] 基板支持部51是通過連結(jié)構(gòu)件53連接于驅(qū)動部54。驅(qū)動部54例如借由包含粗 動系統(tǒng)及微動系統(tǒng)的驅(qū)動系統(tǒng)的動作，在基座部55上可移動于XY平面及ΘΖ方向。借此， 搬出入部5可進行支持于基板支持銷51b的基板P的X方向及Y方向的位置修正、或使基 板P在ΘΖ方向旋轉(zhuǎn)90度。
[0079] 托盤支持部52具備框狀的第2支持部52a、及豎設(shè)于此第2支持部52a上并分別 支持托盤T下面的不同部位的多個托盤支持銷（第2支持銷）52b。此外，托盤支持部52具 備對托盤T具備的不圖示的振動致動器（振動產(chǎn)生部）供給電力的不圖示的供電部。關(guān)于 振動致動器及供電部，往后使用圖面詳細說明。
[0080] 各托盤支持銷52b設(shè)成下端部固定于第2支持部52a、上端部可支持托盤T。托盤 支持銷52b配置在較基板支持部51的第1支持部51a外側(cè)。又，在托盤支持銷52b的上端 部設(shè)有檢測托盤T是否載置于托盤支持銷52b的未圖示的托盤檢測部。
[0081] 托盤支持部52設(shè)成借由未圖標的驅(qū)動部的動作可沿著導(dǎo)引部56移動于Z軸方 向。導(dǎo)引部56設(shè)在基板支持部51的驅(qū)動部54及基座部55的外側(cè)。又，基板支持部51的 第1支持部51a、連結(jié)構(gòu)件53及驅(qū)動部54配置于框狀的第2支持部52a的內(nèi)側(cè)。借此，托 盤支持部52能與基板支持部51的第1支持部51a、連結(jié)構(gòu)件53及驅(qū)動部54不產(chǎn)生干涉地 在Z軸方向移動。
[0082] 又，托盤支持部52,借由往Z軸正方向上升，能使支持于托盤支持銷52b的托盤T 往Z軸正方向上升，使支持于基板支持部51的基板支持銷51b上的基板P載置于托盤T。 又，托盤支持部52,將借由托盤支持銷52b支持的載置有基板P的托盤T交接至搬送機器手 4的搬送手12。
[0083] 接著，詳細說明托盤T的構(gòu)造。圖5顯示托盤T的平面構(gòu)造的俯視圖。如圖5所 示，托盤T具備借由在縱橫以既定間隔交織的多個條線狀構(gòu)件19形成格子狀的載置部20。 亦即，載置部20的未配置線狀構(gòu)件19的部分成為矩形的開口部21。托盤T在載置部20的 兩側(cè)部18、18之間的既定位置載置基板P，從下方支持基板P。又，托盤T的形狀并不限于 圖5所示的形狀，為例如僅形成一個開口部21的僅支持基板P的周緣部的框狀的單一框架 亦可。
[0084] 基板P配置成長邊與載置部20的兩側(cè)部18、18平行。托盤T在于載置部20載置 基板P的狀態(tài)下，兩側(cè)部18、18被搬送機器手4的搬送手12從下方支持（參閱圖2及圖 3)。亦即，本實施形態(tài)的搬送機器手4借由保持托盤T并使移動，通過托盤T支持基板P且 將基板P搬送至既定位置。
[0085] 托盤T，載置部20的下面是借由圖4所示的搬出入部5的托盤支持部52的多個托 盤支持銷52b支持。又，托盤T，如圖4所示，在借由托盤支持銷52b支持載置部20的下面 的狀態(tài)下，使基板支持部51的多個基板支持銷51b插通于圖5所示的多個開口部21。 [0086] 此外，作為托盤T的形成材料，較佳為使用在托盤T支持基板P時可抑制基板P的 本身重量導(dǎo)致的彎曲的材料，例如可使用各種合成樹脂或金屬。具體而言，可舉出尼龍、聚 丙烯、AS(丙烯腈-苯乙烯共聚物）樹脂、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物）樹脂、聚碳 酸酯、纖維強化塑料、不鎊鋼等。作為纖維強化塑料，可舉出GFRP (Glass Fiber Reinforced Plastic :玻璃纖維強化熱硬化性塑料）或CFRP (Carbon Fiber Reinforced Plastic :碳纖 維強化熱硬化性塑料）。又，交織成格子狀的線狀構(gòu)件19,使用引線等柔軟性優(yōu)異的構(gòu)件形 成亦可。
[0087] 此處，如圖2所示，在基板保持具9的上面形成有保持托盤T的槽部30。槽部30 是與托盤T的框架構(gòu)造對應(yīng)設(shè)成格子狀。又，借由在基板保持具9的上面形成槽部30,島狀 設(shè)置多個基板P的保持部（保持具部）31。保持部31具有與托盤T的開口部21對應(yīng)的尺 寸。
[0088] 保持部31的上面加工成基板保持具9對基板P的實質(zhì)保持面具有良好平面度。再 者，在保持部31的上面設(shè)置多個用以使基板P仿效此面密合的吸引孔K(參閱圖2)。各吸 引孔Κ連接于未圖示的真空泵。
[0089]圖6顯示托盤Τ收容于基板保持具9的槽部30的狀態(tài)的部分側(cè)剖面圖。如圖6 所示，托盤Τ的厚度小于槽部30的深度。借此，托盤Τ插入陷入槽部30內(nèi)，成為保持部31 從開口部21突出的狀態(tài)，僅載置于托盤Τ上的基板Ρ交接至保持部31。
[0090] 在托盤τ的載置部20的下面?zhèn)鹊乃慕切纬蓤A錐狀的凹部41，在槽部30內(nèi)與各凹 部41對應(yīng)的位置設(shè)有卡合于凹部41的球狀凸部42。托盤Τ，在載置部20插入至槽部30 時，借由基板保持具9的凸部似卡合于載置部 2〇的凹部41內(nèi)，可防止收容于槽部30的托 盤Τ的位置偏移。
[0091]以下，針對本實施形態(tài)的基板搬送裝置7的加振部、振動產(chǎn)生部及供電部，使用圖 7及圖8詳細說明。
[0092] 圖7顯示本實施形態(tài)的搬送手I2及拖盤Τ的概略構(gòu)成的圖，（a)是對應(yīng)于沿圖2 的A-A'線的剖面的示意剖面圖，（b)是（a)的α部的擴大圖。圖8說明本實施形態(tài)的托 盤支持部52及拖盤Τ的概略構(gòu)成的圖，（a)是對應(yīng)于沿圖4的Β-Β，線的剖面的示意剖面 圖，（b)是（a)的β部的擴大圖。
[0093]如圖7(a)及7 (b)所示，本實施形態(tài)的基板搬送裝置7具備使拖盤Τ振動的加振 部V。加振部V具有設(shè)于拖盤T的振動致動器（振動產(chǎn)生部）VA、設(shè)于拖盤τ的拖盤側(cè)供電 部（供電部）ET、設(shè)于搬送手12的手側(cè)供電部（供電部）EH。此外，加振部V是如圖8(a) 及8(b)所示，具有設(shè)于搬出入部 5的拖盤支持部52的支持部側(cè)供電部（供電部^?。 [0094]振動致動器VA埋入構(gòu)成載置部 2〇的線狀構(gòu)件19而配置于載置部20的內(nèi)部，對 載置部20固定。做為振動致動器VA，可使用例如借由使偏心分銅旋轉(zhuǎn)來使振動產(chǎn)生的振動 馬達或具備對應(yīng)于施加的電壓變形的壓電元件的超音波馬達等。在本實施形態(tài)雖是針對具 備多個振動致動器VA的構(gòu)成說明，但隨條件不同，振動致動器VA為1個亦可。
[0095]另外，振動致動器VA只要是可固定于載置部20,使載置部20以所欲的振動頻率振 動者，并不限定于上述的振動馬達或超音波馬達。此外，振動致動器VA并不一定要埋入載 置部2〇的內(nèi)部，亦可固定于線狀構(gòu)件19的下面或側(cè)面。此外，振動致動器VA配置于載置 部20的欲給予振動的位置的附近更有效。
[0096]振動致動器VA是借由對端子部VAT施加既定的電壓來驅(qū)動，使拖盤τ的載置部20 以既定的振動頻率振動。在此，振動致動器VA的振動的頻率是對應(yīng)于載置部2〇的振動的 頻率設(shè)定。載置部20的振動的頻率設(shè)定為載置于載置部 2〇的基板ρ的下面與載置部2〇 的上面（基板支持面）20a因振動的作用而產(chǎn)生滑動的高頻。
[0097] 手側(cè)供電部EM是由設(shè)于搬送機器手4的電源部（圖不略）、手側(cè)配線14、手側(cè)端 子部15構(gòu)成。手側(cè)配線14是借由一端側(cè)連接于手側(cè)端子部15而另一端側(cè)連接于搬送機 器手4的不圖示的電源部來將手側(cè)端子部15與電源部電氣連接。
[0098] 手側(cè)端子部15是對應(yīng)于配置于拖盤T的下面的拖盤側(cè)端子部22露出形成于搬送 手12的上面。手側(cè)端子部15是在搬送手12對拖盤T定位而保持拖盤T時與露出形成于 拖盤T的下面的拖盤側(cè)端子部22接觸來與拖盤側(cè)端子部22電氣連接。
[0099] 此外，手側(cè)端子部15設(shè)為可彈性變形，在搬送手12保持拖盤T時，借由與設(shè)于拖 盤T的拖盤側(cè)端子部22接觸并往搬送手12側(cè)彈性變形而對拖盤側(cè)端子部22彈壓。借此， 手側(cè)端子部15在按壓狀態(tài)下對拖盤側(cè)端子部22接觸，確保與拖盤側(cè)端子部22的電氣連 接。
[0100] 拖盤側(cè)供電部ET是由設(shè)于拖盤T的拖盤側(cè)配線23、拖盤側(cè)端子部22構(gòu)成。
[0101] 拖盤側(cè)配線23是借由一端側(cè)連接于振動致動器VA的端子部VAT而另一端側(cè)連接 于拖盤側(cè)端子部22來將露出于拖盤T的下面的拖盤側(cè)端子部22與配置于載置部20內(nèi)部 的振動致動器VA的端子部VAT電氣連接。
[0102] 拖盤側(cè)端子部22是對應(yīng)于配置于搬送手12的上面的手側(cè)端子部15露出形成于 載置部20的下面。拖盤側(cè)端子部22是在搬送手12對拖盤T定位而保持拖盤T時與露出 形成于搬送手12的上面的手側(cè)端子部15接觸來與手側(cè)端子部15電氣連接。
[0103]此外，拖盤側(cè)端子部22設(shè)為可彈性變形，在搬送手12保持拖盤T時，借由與設(shè)于 搬送手12的手側(cè)端子部15接觸并往拖盤T側(cè)彈性變形而對手側(cè)端子部15彈壓。借此，拖 盤側(cè)端子部22在按壓狀態(tài)下對手側(cè)端子部15接觸，確保與手側(cè)端子部15的電氣連接。 [0104] 借由以上的構(gòu)成，手側(cè)供電部HI及拖盤側(cè)供電部ET在手側(cè)端子部15與拖盤側(cè)端 子部22電氣連接時，可將連接于手側(cè)配線14的另一端的不圖示的電源部所供給的電力通 過手側(cè)配線14及拖盤側(cè)配線23對做為振動產(chǎn)生部的振動致動器VA供給。
[0105]此外，在搬送手I2的上面設(shè)有支持拖盤T的載置部2〇的下面的多個抵接部1 6。 抵接部16配置于不與設(shè)于拖盤T的振動致動器VA在俯視重疊的位置。換言之，振動致動 器VA是在拖盤T對搬送手I2定位保持的狀態(tài)下，在沿拖盤T的方向配置于2個抵接部16 與抵接部16之間。在此，振動致動器VA配置于在由抵接部16支持的拖盤T的載置部20 振動時線狀構(gòu)件19的振動的腹點的位置較理想。
[0106] 如圖8(a)及8(b)所示，支持部側(cè)供電部EP是由設(shè)于搬出入部5的電源部（圖示 略）、支持部側(cè)配線57、支持部側(cè)端子部58構(gòu)成。支持部側(cè)配線57是借由一端側(cè)連接于支 持部側(cè)端子部58而另一端側(cè)連接于搬出入部5的不圖示的電源部來將支持部側(cè)端子部58 與電源部電氣連接。
[0107]支持部側(cè)端子部58是對應(yīng)于配置于拖盤T的下面的拖盤側(cè)端子部22露出形成于 托盤支持銷52b的上端部。支持部側(cè)端子部58是在拖盤T對托盤支持銷52b定位保持時 與露出形成于拖盤T的下面的拖盤側(cè)端子部22接觸來與拖盤側(cè)端子部22電氣連接。
[0108]此外，支持部側(cè)端子部58設(shè)為可彈性變形，在托盤支持銷52b支持拖盤T時，借由 與設(shè)于拖盤T的拖盤側(cè)端子部22接觸并往拖盤支持部52側(cè)彈性變形而對拖盤側(cè)端子部22 彈壓。借此，支持部側(cè)端子部58在按壓狀態(tài)下對拖盤側(cè)端子部22接觸，確保與拖盤側(cè)端子 部22的電氣連接。
[0109]借由以上的構(gòu)成，支持部側(cè)供電部EP在支持部側(cè)端子部5S與拖盤側(cè)端子部22電 氣連接時，可將連接于支持部側(cè)配線57的另一端的不圖示的電源部所供給的電力通過支 持部側(cè)配線57及拖盤側(cè)配線23對做為振動產(chǎn)生部的振動致動器 VA供給。
[0110]此外,在托盤支持銷52b的上面設(shè)有支持拖盤τ的載置部2〇的下面的多個抵接部 52c。托盤支持銷52b配置為不與設(shè)于拖盤T的振動致動器VA在俯視重疊。亦即，振動致 動器VA是在拖盤T對托盤支持銷Mb定位而以托盤支持銷52b支持時，在沿拖盤τ的方向 配置于2個抵接部52c與抵接部52c之間。在此，振動致動器VA配置于在由抵接部52c支 持的拖盤T的載置部20振動時線狀構(gòu)件19的振動的腹點的位置較理想。
[0111]圖9是以顏色的濃淡顯示借由圖4所示的基板支持銷51b支持的基板P的彎曲的 俯視圖。圖中，顏色愈表不基板P愈向下方（圖4中的Z軸負方向）彎曲。如圖9所示，基 板P是借由5X6個配置成數(shù)組狀的合計30支基板支持銷51b支持下面?zhèn)?。因此，從基?支持銷51b離開的基板P的中央部或外緣部因基板p的本身重量成為向下方彎曲的狀態(tài)。 又，沿著基板P長邊的部分成為最向下方彎曲的狀態(tài)，接著沿著短邊的部分及與短邊平行 的中央部分成為向下方彎曲的狀態(tài)。
[0112]接著，說明曝光裝置1的動作。具體而言，針對借由搬送機器手4將基板p搬入及 搬出的方法進行說明。此處，針對將基板P載置至托盤T，將載置于此托盤T的基板P搬入、 搬出曝光裝置本體3的步驟進行說明。
[0113]涂布有感光劑的基板P是從涂布顯影機搬送至圖1所示的搬出入部5,定位載置 于圖4所示的基板支持部51的基板支持銷51b上的既定位置，吸附保持于基板支持銷51b 的上面。如上述，借由多個基板支持銷51b支持的基板P，如圖9所示，成為未由基板支持銷 51b支持的部分向下方彎曲的狀態(tài)。
[0114]在基板P吸附保持于基板支持銷51b的上面后，基板支持部51，在將基板P吸附 保持于基板支持銷51b的上面的狀態(tài)下，使驅(qū)動部54動作，使基板P對準于托盤T。基板P 與托盤T的對準結(jié)束后，搬出入部5使托盤支持部52沿著導(dǎo)引部56上升，以使托盤支持銷 52b上的托盤T上升。借此，基板P在定位的狀態(tài)下載置于托盤T的載置部20上。
[0115] 此時，在現(xiàn)有習知的曝光裝置，將彎曲狀態(tài)的基板載置于托盤時，具有以下的問 題。圖10(a)?圖10(c)說明從現(xiàn)有習知的曝光裝置的搬出入部500至現(xiàn)有習知的托盤T0 的基板P0的交接步驟的示意圖。
[0116] 如圖10(a)所示，借由多個基板支持銷510b支持的基板即，成為未由基板支持銷 51〇b支持的部分向下方彎曲的狀態(tài)。在此狀態(tài)下，使托盤支持部520上升，以使由托盤支持 銷520b支持的托盤T0上升。
[0117] 于是，如圖10(b)所示，基板P0載置于托盤T0上，將基板從搬出入部500的基 板支持銷510b交接至托盤T0。此時，基板P0從向下方彎曲的部分與托盤T0接觸，因該部 分與托盤T0的摩擦，基板P在托盤T0上無法擴展，維持波浪般彎曲的狀態(tài)。接著,使配置 于托盤T0下方的搬送機器手400的搬送手1200上升。
[0118] 于是，如圖10(c)所示，托盤T 0的兩側(cè)部是借由搬送手1200保持，托盤T0在載置 基板P0的狀態(tài)下往托盤支持銷520b的上方被舉起。托盤T0兩側(cè)部被支持，因基板P0與 托盤T0的本身重量，借由搬送手1200支持的兩側(cè)部的中間部成為向下方彎曲的狀態(tài)。因 此，基板P0成為中央部成為下凸的彎曲狀態(tài)，朝向中央部壓縮的應(yīng)力作用且從上方觀察的 基板P0的平面積變小。
[0119]之后，使搬送手12〇〇移動，將載置基板P0的托盤TO朝向圖11所示的基板保持具 900的上方搬送。
[0120] 圖11說明從現(xiàn)有習知的托盤T0將基板P0交接至現(xiàn)有習知的曝光裝置的基板保 持具900的步驟的示意圖。
[0121] 如圖11(a)所示，借由搬送手1200將基板P0往基板保持具900的上方搬送后，使 搬送手1200下降。于是，如圖11(b)所示，托盤T0收容于基板保持具900的槽部300,基板 P0載置于基板保持具9〇0上。此時，基板P0從最往下方彎曲的部分與基板保持具900接 觸。
[0122] 如圖11(c)所示，進一步使搬送手1200下降后，基板P〇載置于基板保持具900， 基板P0從托盤T0交接至基板保持具900。又，托盤T0與基板保持具900的槽部300的底 部抵接，托盤T0從搬送手1200交接至基板保持具900的槽部300。此時，由于基板保持具 900與基板P0的摩擦，基板P0的彎曲狀態(tài)的形狀無法完全回復(fù)，基板的平面積較完全平 坦的情形縮小。如上述，在現(xiàn)有習知的曝光裝置，基板P0在基板保持具900上成為彎曲狀 態(tài)，會有產(chǎn)生無法在基板上的適當位置進行既定曝光等曝光不良問題的情形。
[0123] 另一方面，本實施形態(tài)的曝光裝置1，為了解決上述現(xiàn)有習知的曝光裝置的問題， 使用上述基板搬送裝置7。以下，說明曝光裝置1的動作與本實施形態(tài)的基板搬送裝置7的 作用。
[0124]圖l2(a)、（b)、及（c)說明從本實施形態(tài)的曝光裝置1的搬出入部 5至托盤T的 基板P的交接步驟的示意圖。
[0125] 如圖l2(a)所示，借由多個基板支持銷51b支持的基板P，成為未由基板支持銷 5lb支持的部分向下方彎曲的狀態(tài)。
[0126] 此外，拖盤T是以托盤支持銷52b支持，如圖8(a)及8(b)所示，設(shè)于拖盤T的下 面的拖盤側(cè)端子部22與設(shè)于托盤支持銷52b的前端部的支持部側(cè)端子部58接觸而電氣連 接。亦即，支持部側(cè)供電部EP是借由不圖示的電源部供給電力，成為可對設(shè)于拖盤T的振 動致動器VA的端子部VAT供電的狀態(tài)。在此狀態(tài)下，使托盤支持部52上升，以使由托盤支 持銷5?支持的托盤T上升。
[0127]于是，如圖12(b)所示，基板P載置于托盤T上，將基板P從搬出入部5的基板支 持銷51b交接至托盤T。此時，搬出入部5是以支持部側(cè)供電部EP的不圖示的電源部對振 動致動器VA的端子部VAT供給電力，使振動致動器VA以既定的頻率振動。振動致動器VA 以既定的頻率振動后，固定有振動致動器VA的拖盤T的載置部20以既定的頻率振動。 [0128] 在此，振動致動器VA的振動的頻率是對應(yīng)于載置部20的振動的頻率設(shè)定。載置 部20的振動的頻率設(shè)定為載置于載置部20的基板p的下面與載置部20的上面（基板支 持面）20a因振動的作用而產(chǎn)生滑動的高頻。因此，載置部20以既定的頻率振動后，載置部 20的上面20a與基板P的下面成為重復(fù)部分且瞬間分離與接觸的狀態(tài)，成為載置部20的上 面20a與基板P的下面之間的摩擦力降低的狀態(tài)。
[0129] 借此，如圖12(a)所示彎曲為在面方向壓縮而在平面積變小的狀態(tài)下載置于載置 部20的基板P的應(yīng)力開放，如圖^(b)所示，基板P的外緣部以從基板P的中央部往外側(cè) 擴張的方式移動。借此，基板P以平坦的狀態(tài)載置于拖盤τ。
[0130] 此時，如圖8所示，托盤支持銷52b配置于不與設(shè)于拖盤Τ的振動致動器VA俯視 地重疊的位置。因此，可使托盤支持銷5?間的線狀構(gòu)件I 9更容易振動，可使載置部2〇效 率良好地振動。另外，在將振動致動器VA配置于線狀構(gòu)件19的振動的腹點的部分場合可 使線狀構(gòu)件19的振動增幅，使載置部20效率更好且有效地振動。
[0131] 其次，在將基板P調(diào)整為實施曝光處理的溫度后，使配置于托盤T下方的搬送機器 手4的搬送手12上升。
[0132] 于是，如圖12(c)所示，托盤T的兩側(cè)部18、18(參閱圖2及圖5)是借由搬送手12 保持，在托盤T載置基板P的狀態(tài)下往托盤支持銷52b的上方被舉起。托盤T兩側(cè)部18、18 被支持，因基板P與托盤T的本身重量，借由搬送手I 2支持的兩側(cè)部18、18之間成為向下 方彎曲的狀態(tài)。
[0133]此時，如圖7(a)及7(b)所不，設(shè)于搬送手12的上面的手側(cè)端子部15與設(shè)于拖盤 T的下面的拖盤側(cè)端子部22接觸而電氣連接。亦即，手側(cè)供電部冊是借由不圖示的電源部 供給電力，成為可對設(shè)于拖盤T的振動致動器VA的端子部VAT供電的狀態(tài)。
[0134]在此，搬送機器手4是在以搬送手12支持托盤T兩側(cè)部18、18往上方舉起時，借 由手側(cè)供電部EH的不圖示的電源部對振動致動器VA的端子部VAT供給電力，使振動致動 器VA以既定的頻率振動。振動致動器VA以既定的頻率振動后，固定有振動致動器 VA的拖 盤T的載置部20以既定的頻率振動。
[0135]在此，振動致動器VA的振動的頻率是對應(yīng)于載置部20的振動的頻率設(shè)定。此外， 載置部20的振動的頻率設(shè)定為載置于載置部20的基板P的下面與載置部20的上面（基 板支持面）2〇a因振動的作用而產(chǎn)生滑動的高頻。因此，載置部20以既定的頻率振動后，載 置部 2〇的上面20a與基板P的下面成為重復(fù)部分且瞬間分離與接觸的狀態(tài)，成為載置部20 的上面20a與基板P的下面之間的摩擦力降低的狀態(tài)。
[0136]借此，如圖l2(c)所示，基板P的下面與拖盤T的載置部20的上面20a以開放基 板P的應(yīng)力的方式滑動，可防止基板P彎曲成為波浪般的狀態(tài)。又，可緩和使基板P朝向中 央部壓縮的應(yīng)力。
[0137]接著，如圖3所示，搬送機器手4改變搬送手12的方向以使搬送手12的長邊方向 (基板P的長邊方向）朝向曝光裝置本體3的基板保持具9側(cè)。之后，使搬送手12移動， 將載置有基板P的托盤T朝向圖13所示的基板保持具9上方搬送。此時，可繼續(xù)手側(cè)供電 部EH對振動致動器VA的電力供給，使托盤T的載置部20的振動繼續(xù)，或暫時中斷對振動 致動器VA的電力供給，使托盤T的載置部20的振動中斷亦可。
[0138]此外，搬送手12以基板P表面與基板保持具9的保持部31成為大致平行的方式 搬送基板P。此處，大致平行意指排除因本身重量導(dǎo)致的基板P的彎曲時平行或接近平行的 狀態(tài)。具體而言，搬送手12以搬送手I 2保持基板P的被保持部分與保持部31的基板載置 面成為大致平行的方式搬送基板P。借此，即使為于拖盤T的搬送時使載置部20的振動繼 續(xù)的場合，亦可防止基板P或拖盤T的位置偏移。
[0139]圖I3說明從托盤T將基板P交接至曝光裝置i的基板保持具9的步驟的示意圖。 [0140]搬送機器手4,如圖13(a)所示，借由搬送手U將基板P向基板保持具9上方搬 送，進行托盤T與槽部 3〇的對準后，使圖2所示的驅(qū)動裝置13驅(qū)動以使搬送手12下降。于 是，如圖Π (b)所示，托盤T收容于基板保持具9的槽部30,基板p載置于基板保持具9上。 此時，基板P從最往下方彎曲的部分與基板保持具9的保持部31(參閱圖3)接觸。
[0141]_在此，搬送機器手4是以手側(cè)供電部EH對振動致動器VA供給電力使振動致動器 VA振動，使拖盤T的載置部20以既定的振動頻率振動。于是，成為載置部20的上面2〇a與 基板P的下面之間的摩擦力降低的狀態(tài)。之后，在基板p與基板保持具9的保持部 31的接 觸面積逐漸增加時，基板P的下面與拖盤T的載置部20的上面20a滑動使基板P的應(yīng)力開 放，防止基板P的彎曲。
[0142]如圖13(c)所示，進一步使搬送手12下降后，基板P載置于基板保持具9的保持 部31，基板P從托盤T交接至基板保持具9。又，托盤T與基板保持具9的槽部30的底部 抵接，托盤T從搬送手12交接至基板保持具9的槽部30。如上述，在本實施形態(tài)的曝光裝 置1，在基板P的交接時防止基板P的彎曲，基板P在基板保持具9上成為平坦狀態(tài)。因此， 可在基板P上的適當位置良好地進行既定曝光。
[0143]對基板保持具9的基板P的交接完成后，搬送機器手4使搬送手12從基板保持具 9上退避。
[0144]在基板P載置至基板保持具9后，借由照明系統(tǒng)以曝光用光il照明圖2所示的光 罩M。以曝光用光IL照明的光罩Μ的圖案，是通過投影光學(xué)系統(tǒng)pl投影曝光于載置于基板 保持具9的基板Ρ。
[0145]在曝光裝置1，如上述可將基板Ρ良好地載置于基板保持具9上，因此可在基板Ρ 上的適當位置高精度進行既定曝光，可實現(xiàn)信賴性高的曝光處理。又，在曝光裝置丨，如上述 可順利進行對托盤Τ及基板保持具9的基板Ρ的交接，因此可無延遲地進行對基板ρ的曝 光處理。
[0146] 接著，針對曝光處理結(jié)束后的從基板保持具9的基板Ρ的搬出動作進行說明。此 夕卜，以下的說明中雖說明搬送手I2進行基板Ρ的搬出，但雙手構(gòu)造中的另一個搬送手進行 搬出亦可。
[0147] 曝光處理結(jié)束后，搬送機器手4驅(qū)動搬送手12,在載置于基板保持具9上的托盤Τ 的下方將搬送手12從-Υ方向側(cè)插入至基板保持具9的X軸方向兩側(cè)。與此同時，借由未 圖標的控制裝置解除真空栗的吸引，解除基板保持具9進行的基板Ρ的吸附。
[0148] 接著，搬送手12被驅(qū)動裝置13往上方驅(qū)動既定量后，搬送手12分別抵接于托盤Τ 的載置部20的兩側(cè)部18、18的下面。搬送手12進一步被往上方驅(qū)動后，載置于基板保持 具9的保持部31的基板Ρ交接至托盤Τ。此時，根據(jù)本實施形態(tài)，如上述可防止基板Ρ的彎 曲，因此在使托盤Τ往上方移動時，可在較以往平坦的狀態(tài)下將基板Ρ載置于托盤Τ的載置 部20上。搬送手12進一步被往上方驅(qū)動后，支持基板Ρ的托盤Τ往基板保持具9的上方 被舉起，載置部20從基板保持具9離開。
[0149] 在托盤Τ被舉起至此載置部20與基板保持具9離開的位置的時點，保持基板Ρ的 托盤Τ是借由搬送手12而從基板保持具9上退避。以此方式，完成對曝光裝置本體3的基 板Ρ的搬出動作。
[0150] 其次，針對本發(fā)明的第2實施形態(tài)，援用圖1?圖13,使用圖14及圖15說明。本 實施形態(tài)的基板搬送裝置7a振動產(chǎn)生部不設(shè)于拖盤（基板支持構(gòu)件）Τ1而設(shè)于搬送機器 手4a及搬出入部（出入口部）5a的方面與上述的第1實施形態(tài)的基板搬送裝置7不同。其 它方面與第1實施形態(tài)的基板搬送裝置7相同，故對相同的部分賦予相同的符號而說明省 略。
[0151] 圖14顯示本實施形態(tài)的拖盤T1及搬送手12的概略構(gòu)成的示意剖面圖。
[0152] 如圖14所示，在不設(shè)有于圖7(a)及7(b)顯示的振動致動器VA及拖盤側(cè)供電部 ET方面與已于第1實施形態(tài)說明的拖盤T相異，其它方面則設(shè)為與拖盤τ相同。
[0153] 搬送機器手（搬送部）4a具備：保持拖盤T1的搬送手12、使搬送手12移動的手 致動器（致動器、振動產(chǎn)生部） 61、控制手致動器61的手控制部（控制部、振動產(chǎn)生部）62。 手致動器61具有致動器本體61a、升降驅(qū)動部63、直動驅(qū)動部64。
[0154] 升降驅(qū)動部63具備借由繞軸旋轉(zhuǎn)來使搬送手12升降的進給螺桿63a、固定于致動 器本體61a并使進給螺桿63a繞軸旋轉(zhuǎn)的升降馬達 63b、固定于搬送手12的手支持部63c。 在致動器本體61a沿使搬送手I2升降的方向形成有滑槽 6lb。手支持部63c具有設(shè)為可與 設(shè)于致動器本體61a的滑槽61b卡合并沿滑槽61b的延在方向滑動的卡合部63d。
[0155] 升降驅(qū)動部63是借由以升降馬達6?使進給螺桿63a繞軸旋轉(zhuǎn)并使搬送手12與 手支持部63c -起沿滑槽61b移動來使搬送手12在與拖盤T1的載置部20的上面20a交 叉的方向，例如鉛直方向（Z方向）移動。
[0156] 直動驅(qū)動部64具有使致動器本體61a沿拖盤T1的載置部20的上面20a移動的 線性馬達 64a、使致動器本體6la可滑動地卡合的直動導(dǎo)引部Mb。線性馬達64a及直動導(dǎo) 引部64b沿載置部20的上面20a的搬送手12的移動方向設(shè)置。
[0157] 直動驅(qū)動部64是借由使線性馬達64a驅(qū)動并使致動器本體61a沿直動導(dǎo)引部64b 移動來使通過手支持部63c與致動器本體61a連結(jié)的搬送手12在沿載置部20的上面20a 的方向，例如水平方向（XY平面方向）移動。
[0158] 手控制部62設(shè)為可對手致動器61的升降馬達63b及線性馬達64a分別傳達既定 的控制信號，設(shè)為可分別振動性控制升降馬達63b及線性馬達64a。在此，所謂振動性控制 指使各馬達產(chǎn)生既定的頻率的振動，使搬送手12在各移動方向以既定的頻率振動。
[0159] 升降馬達63b及線性馬達64a的振動的頻率是基于搬送手12的振動的頻率設(shè)定。 此外，搬送手12的振動的頻率是基于搬送手12的振動傳達至保持于搬送手12的拖盤T1 而拖盤T1振動時的載置部20的振動的頻率設(shè)定。載置部20的振動的頻率設(shè)定為與在第 1實施形態(tài)以振動致動器VA振動的拖盤T的載置部20的振動的頻率相同。
[0160] 在搬送手I2的上面設(shè)有支持拖盤T1的載置部20的下面的多個抵接部17。本實 施形態(tài)的抵接部17設(shè)為可將在搬送手I 2產(chǎn)生的振動效率良好地傳達至拖盤T1。亦即，本 實施形態(tài)的抵接部17也做為傳達振動的振動傳達構(gòu)件發(fā)揮機能。
[0161] 圖15顯示本實施形態(tài)的拖盤T1及搬出入部5a的概略構(gòu)成的示意剖面圖。
[0162] 如圖I5所示，本實施形態(tài)的搬出入部5a的拖盤支持部52具有使拖盤支持部52 升降的支持部致動器（致動器、振動產(chǎn)生部）71、控制支持部致動器71的支持部控制部（控 制部、振動產(chǎn)生部）72。
[0163] 支持部致動器71是如在上述第1實施形態(tài)已說明，設(shè)為可使拖盤支持部52沿于 圖4顯示的導(dǎo)引部56在Z軸方向移動。支持部控制部72設(shè)為可對支持部致動器71傳達 既定的控制信號，設(shè)為可振動性控制支持部致動器71。在此，所謂振動性控制指使各致動器 產(chǎn)生既定的頻率的振動，使拖盤支持部52沿Z方向以既定的頻率振動。
[0164] 在本實施形態(tài)是上述的手致動器61及手控制部62、支持部致動器71及支持部控 制部72分別構(gòu)成使搬送手12及拖盤支持部52產(chǎn)生振動的振動產(chǎn)生部。此外，此等振動產(chǎn) 生部構(gòu)成基于供給電力使保持拖盤T1的搬送手12及托盤支持銷52b分別產(chǎn)生振動的加振 部VI。
[0165] 此外，在托盤支持銷52b的上面設(shè)有支持拖盤T1的載置部20的下面的多個抵接 部52e。本實施形態(tài)的抵接部52e設(shè)為可將在拖盤支持部52產(chǎn)生的振動效率良好地傳達至 拖盤T1。亦即，本實施形態(tài)的抵接部52e也做為傳達振動的振動傳達構(gòu)件發(fā)揮機能。
[0166] 在如圖12(a)?圖l2(b)所示使由基板支持銷51b支持的基板P載置于拖盤T1 的載置部20時，首先如圖15所示使支持部致動器71動作。接著，如圖12(a)所示，借由使 拖盤支持部52上升，使以拖盤支持部52保持的拖盤T1上升。
[0167] 其次，在如圖12(b)所示使由基板支持銷51b支持的基板P載置于拖盤T1的載置 部20時，以在圖15顯示的支持部控制部72使支持部致動器71以既定的頻率振動。于是， 如圖15所示，支持部致動器71的振動傳達至拖盤支持部52,托盤支持銷52b以既定的頻率 振動。
[0168]托盤支持銷52b以既定的頻率振動后，該振動通過抵接部52e傳達至拖盤T1，與第 1實施形態(tài)同樣地，拖盤T1的載置部20以既定的頻率振動。借此，與在圖12(b)顯示的第 1實施形態(tài)同樣地，除去基板P的彎曲，基板P變平坦。
[0169] 此外，如圖12(c)所示，在以搬送手12保持拖盤T1并舉起時，以在圖14顯示的手 控制部62使手致動器ei的升降馬達63b及線性馬達64a以既定的頻率振動。此時，可對 應(yīng)于基板P的狀況，僅使升降馬達 63b振動，或僅使線性馬達64a振動。
[0170]于是，升降馬達63b及線性馬達64a的振動傳達至搬送手12,搬送手12以既定的 振動頻率在與拖盤T1的載置部20的上面20a交叉的方向及沿上面20a的方向振動。搬送 手12以既定的頻率振動后，搬送手12的振動通過抵接部17傳達至拖盤T1，拖盤T1的載置 部20以既定的振動頻率在各方向振動。
[0171]于是，與在圖12(c)顯示的第1實施形態(tài)同樣地，基板p的下面與拖盤T1的載置部 20的上面20a滑動，基板P的應(yīng)力開放，防止基板P的彎曲。另外，如圖13(a)?圖13(c) 所示，在將載置于拖盤T1的基板P交接至基板保持具9時亦可與第1實施形態(tài)同樣地防止 基板P的彎曲。
[0172]如以上說明，利用本實施形態(tài)，不僅可獲得與第1實施形態(tài)同樣的效果，且無在拖 盤T1設(shè)振動致動器VA或拖盤側(cè)供電部ET的必要，故可使基板搬送裝置7的構(gòu)成簡潔。
[0173] 其次，針對本發(fā)明的第3實施形態(tài)，援用圖1?圖13,使用圖16及圖17說明。本 實施形態(tài)的基板搬送裝置7b振動產(chǎn)生部不設(shè)于拖盤（基板支持構(gòu)件）T2而設(shè)于搬送機器 手4b及搬出入部（出入口部）?的方面與上述的第1實施形態(tài)的基板搬送裝置 7不同。其 它方面與第1實施形態(tài)的基板搬送裝置7相同，故對相同的部分賦予相同的符號而說明省 略。
[0174] 圖16顯示本實施形態(tài)的搬送手12及拖盤T2的概略構(gòu)成的圖，（a)是對應(yīng)于沿圖 2的A-A'線的剖面的示意剖面圖，（b)是（a)的α 1部的擴大圖。圖17說明本實施形態(tài)的 托盤支持部52及拖盤Τ2的概略構(gòu)成的圖，（a)是對應(yīng)于沿圖4的Β-Β'線的剖面的示意剖 面圖，（b)是（a)的β?部的擴大圖。
[0175]如圖16(a)及圖16(b)所示，本實施形態(tài)的拖盤T2在不設(shè)有于圖7(a)及7 (b)顯 示的振動致動器VA及拖盤側(cè)供電部ET方面與已在第1實施形態(tài)說明的拖盤T相異，其它 方面則設(shè)為與拖盤T相同。 、
[0176]如圖16(a)及圖16(b)所示，本實施形態(tài)的基板搬送裝置7b具備使搬送手 12振 ^而使拖盤T2振動的加振部V2。加振部V2具有設(shè)于搬送手12的多個振動致動器（振動 產(chǎn)生部）VA1 二設(shè)于搬送手12的手側(cè)供電部（供電部）ΕΗ2。此外，加振部V2是如圖17(a) 及17(b)所示，具有設(shè)于搬出入部5b的拖盤支持部52的振動致動器（振動產(chǎn)生部）VA2、支 持部側(cè)供電部（供電部）EP2。
[0177]如圖16(幻及圖16(b)所示，振動致動器VA1使用與第1實施形態(tài)的振動致動器 VA同樣者，埋入搬送手的內(nèi)部而固定于搬送手12。振動致動器VA1分別設(shè)于支持拖盤 T2的載置部20的兩側(cè)部18、18的一對爪狀的部分的雙方。
[0178]手側(cè)供電部EH2是由設(shè)于搬送機器手4b的電源部（圖示略）、手側(cè)配線14b構(gòu)成。 手側(cè)配線14是借由一端側(cè)連接于搬送機器手4b的不圖示的電源部來將振動致動器VM與 端子部VAT1電氣連接。
[0179]此外，在搬送手I2的上面設(shè)有與上述的第2實施形態(tài)同樣的多個抵接部17。在 本實施形態(tài)，抵接部17設(shè)于振動致動器VA1的附近，配置為與振動致動器VA1平面地重疊。 換言之，在本實施形態(tài)中，振動致動器 VA1設(shè)于抵接部17的附近，配置于與抵接部17平面 地重疊的位置。
[0180]如圖17(a)及圖17(b)所示，振動致動器VA2使用與第1實施形態(tài)的振動致動器 VA同樣者，埋入托盤支持銷52b而固定于托盤支持銷5%。支持部側(cè)供電部EP2是由設(shè)于 搬出入部5b的電源部（圖示略）、支持部側(cè)配線 5幾構(gòu)成。支持部側(cè)配線5%是借由一端 側(cè)連接于振動致動器VA2而另一端側(cè)連接于搬出入部5b的不圖示的電源部來將振動致動 器VA 2與電源部電氣連接。
[0181]此外，在托盤支持銷5?的上面設(shè)有與上述的第2實施形態(tài)同樣的抵接部52e。在 本實施形態(tài)，抵接部5k設(shè)于振動致動器VA2的附近，配置為與振動致動器VA2平面地重 疊。換言之，在本實施形態(tài)中，振動致動器VA 2設(shè)于抵接部Me的附近，配置于與抵接部52e 平面地重疊的位置。
[0182] 在本實施形態(tài)，在如圖12(a)?圖l2(b)所示使由基板支持銷51b支持的基板p 載置于拖盤T2的載置部2〇時，如圖l7(a)及圖n(b)所示，從支持部側(cè)供電部EP2對振動 致動器VA2供給電力，使振動致動器VA2以既定的頻率振動。于是，如圖17(b)所示，振動 致動器VA2使托盤支持銷52b以既定的頻率振動。
[0183] 托盤支持銷52b以既定的頻率振動后，該振動通過抵接部52e傳達至拖盤T2，與第 1實施形態(tài)及第2實施形態(tài)同樣地，拖盤T2的載置部20以既定的振動頻率振動。借此，與 在圖12(b)顯示的第1實施形態(tài)同樣地，除去基板P的彎曲，基板P變平坦。
[0184] 在此，在本實施形態(tài)，振動致動器VA2設(shè)于抵接部52e的附近，配置于與抵接部52e 平面地重疊的位置。因此，防止振動的減衰，可將在振動致動器VA2產(chǎn)生的振動能量效率良 好地傳達至拖盤T2與基板P。
[0185] 此外，如圖12(c)所示，在以搬送手12保持拖盤T2并舉起時，以在圖16(a)及圖 16(b)顯示的手側(cè)供電部EH2對振動致動器VA2供給電力，使振動致動器VA1以既定的頻率 振動。振動致動器VA1以既定的頻率振動后，搬送手12以既定的頻率振動。搬送手12以 既定的頻率振動后，搬送手12的振動通過抵接部17傳達至拖盤T2,拖盤T2的載置部20以 既定的振動頻率振動。
[0186]于是，與在圖12 (c)顯示的第1實施形態(tài)同樣地，基板P的下面與拖盤T2的載置部 20的上面20a滑動，基板P的應(yīng)力開放，防止基板p的彎曲。另外，如圖13(a)?圖13(c) 所不，在將載置于拖盤T2的基板P交接至基板保持具9時亦可與第1實施形態(tài)同樣地防止 基板P的彎曲。
[0187]在此，在本實施形態(tài)，如圖16(a)及圖l6(b)所示，振動致動器VA1設(shè)于抵接部17 的附近，配置于與抵接部17平面地重疊的位置。因此，防止振動的減衰，可將在振動致動器 VA1產(chǎn)生的振動能量效率良好地傳達至拖盤T2與基板P。
[0188]如以上說明，利用本實施形態(tài)，不僅可獲得與第1實施形態(tài)同樣的效果，且無在拖 盤T2設(shè)振動致動器VA或拖盤側(cè)供電部ET的必要，故可使基板搬送裝置7的構(gòu)成簡潔。此 夕卜，與第2實施形態(tài)比較，搬送手12及拖盤支持部52的移動中亦可對拖盤T2繼續(xù)給予一 樣的振動。
[0189]另外，在本實施形態(tài)雖已說明分別具備多個振動致動器VAl、VA2的構(gòu)成，但此等 只要在搬送手12及拖盤支持部52各設(shè)置少1個即可。
[0190] 又，作為上述實施形態(tài)的基板P，不僅適用顯示器元件用的玻璃基板，也適用于半 導(dǎo)體元件制造用的半導(dǎo)體晶圓、薄膜磁頭用的陶瓷晶圓、或曝光裝置所使用的光罩或標線 片的原版（合成石英、硅晶圓）等。
[0191]又，作為曝光裝置，除了適用使光罩Μ與基板P同步移動以經(jīng)由光罩Μ的圖案的曝 光用光IL使基板Ρ掃描曝光的步進掃描方式的掃描型曝光裝置（掃描步進器）外，亦可適 用于在光罩Μ與基板Ρ靜止的狀態(tài)下使光罩Μ的圖案一次曝光、使基板ρ依序步進移動的 步進重復(fù)方式的投影曝光裝置（步進器）。
[0192]又，本發(fā)明亦可適用于美國專利第6341007號說明書、美國專利第6208407號說明 書、美國專利第62似796號說明書等所揭示的具備多個基板載臺的雙載臺型曝光裝置。 [0193] 又，本發(fā)明亦可適用于美國專利第68町963號說明書、歐洲專利申請公開第 171^13號說明書等所揭示的具備保持基板的基板載臺及不保持基板、載置形成有基準標 記的基準構(gòu)件及/或各種光電傳感器的測量載臺的曝光裝置。又，可采用具備多個基板載 臺及測量載臺的曝光裝置。
[0194]此外，上述實施形態(tài)中，雖使用在光透射性基板上形成既定遮光圖案（或相位圖 案、減光圖案）的光透射型光罩，但替代此光罩，使用例如美國專利第6778257號說明書所 揭示的根據(jù)待曝光圖案的電子數(shù)據(jù)形成透射圖案或反射圖案、或發(fā)光圖案的可變成形光罩 (也稱為電子光罩、主動光罩、或影像產(chǎn)生器）亦可。又,替代具備非發(fā)光型影像顯示元件的 可變成形光罩，具備包含自發(fā)光型影像顯示元件的圖案形成裝置亦可。
[0195]上述實施形態(tài)的曝光裝置，是以保持既定機械精度、電氣精度、光學(xué)精度的方式組 裝包含本發(fā)明申請專利范圍記載的各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)來制造。為了確保所述各種精 度，在該組裝前后對各種光學(xué)系統(tǒng)進行用以達成光學(xué)精度的調(diào)整，對各種機械系統(tǒng)進行用 以達成機械精度的調(diào)整，對各種電氣系統(tǒng)進行用以達成電氣精度的調(diào)整。
[0196]從各種子系統(tǒng)至曝光裝置的組裝步驟，包含各種子系統(tǒng)相互的機械連接、電路的 配線連接、氣壓回路的配S連接等。在從各種子系統(tǒng)至曝光裝置的組裝步驟之前，當然有各 子系統(tǒng)個腦雛步驟。在各種子系懸曝光裝翻纟滕步觀束后，艦綜合調(diào)^以確 保曝光裝直整體的各種精度。此外，曝光裝置的制造以在溫度及真空度等受到管理的無塵 室進行為佳。
[0197] 半導(dǎo)體元件等的微元件，如圖18所示，是經(jīng)由下述步驟制造，即進行微元件的功 能/性能設(shè)計的步驟201、根據(jù)該設(shè)計步驟制作光罩（標線片）的步驟202、制造元件的基 材即基板的步驟2〇 3、包含基板處理（曝光處理）（包含根據(jù)上述實施形態(tài)使用光罩的圖案 以曝光用光使基板曝光的動作、及使曝光后基板（感光劑）顯影的動作）的基板處理步驟 204、元件組裝步驟（包含切割步驟、接合步驟、封裝步驟等的加工程序）205、以及檢查步驟 206等。此外，在步驟204,包含借由使感光劑顯影，形成與光罩的圖案對應(yīng)的曝光圖案層 (顯影后感光劑的層），通過該曝光圖案層對基板加工的動作。
[0198] 此外，上述實施形態(tài)的要件可適當加以組合。又，也有未使用一部分的構(gòu)成要素的 情形。又，在法律容許的范圍內(nèi)，援引在上述實施形態(tài)引用的關(guān)于曝光裝置等的所有公開公 報及美國專利的揭示作為本說明書記載的一部分。
【權(quán)利要求】
1. 一種基板搬送裝置，是將載置于基板支持構(gòu)件的基板與該基板支持構(gòu)件一起搬送， 其特征在于具備： 使載置有前述基板的前述基板支持構(gòu)件振動的加振部； 保持前述加振部使振動的前述基板支持構(gòu)件并移動的搬送部。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述加振部包含設(shè)于前述基 板支持構(gòu)件并基于供給電力使前述基板支持構(gòu)件產(chǎn)生振動的至少 1個振動產(chǎn)生部。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述加振部包含對前述振動 產(chǎn)生部進行電力供給的供電部，該供電部的至少一部分設(shè)于前述搬送部。
4. 如權(quán)利要求2所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，具備：支持載置有前述基板的 前述基板支持構(gòu)件的出入口部； 前述加振部包含對前述振動產(chǎn)生部進行電力供給的供電部，該供電部的至少一部分設(shè) 于前述出入口部； 前述搬送部保持支持于前述出入口部的前述基板支持構(gòu)件并移動。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述出入口部具有分別支持 前述基板支持構(gòu)件的不同位置的多個支持部； 前述多個支持部配置于不與該多個支持部支持的前述基板支持構(gòu)件上的前述振動產(chǎn) 生部在俯視重疊的位置。
6. 如權(quán)利要求1所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述加振部包含基于供給電 力使前述搬送部之中保持前述基板支持構(gòu)件的部分產(chǎn)生振動的至少 1個振動產(chǎn)生部。
7. 如權(quán)利要求6所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部具備保持前述基 板支持構(gòu)件的搬送手、使前述搬送手移動的致動器； 前述振動產(chǎn)生部具有控制前述致動器使前述搬送手振動的控制部。
8. 如權(quán)利要求6所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部具備保持前述基 板支持構(gòu)件的搬送手； 前述振動產(chǎn)生部具有設(shè)于前述搬送手且使前述搬送手振動的至少1個振動致動器。
9. 如權(quán)利要求8所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部進一步具備支持 前述基板支持構(gòu)件的多個抵接部； 前述振動致動器配置于前述抵接部的附近。
10. 如權(quán)利要求7至9中任一權(quán)利要求所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述致 動器設(shè)為可將前述搬送手在沿前述基板支持構(gòu)件的基板支持面的方向及與前述基板支持 面交叉的方向的至少一方移動。
11. 如權(quán)利要求1所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，具備：支持載置有前述基板 的前述基板支持構(gòu)件的出入口部； 前述加振部包含設(shè)于前述出入口部并基于供給電力使前述出入口部產(chǎn)生振動的至少1 個振動產(chǎn)生部。
12. 如權(quán)利要求11所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述出入口部具有分別支 持前述基板支持構(gòu)件的不同位置的多個支持部； 前述振動產(chǎn)生部具有設(shè)于前述支持部且使前述支持部振動的至少1個振動致動器。
13. 如權(quán)利要求11或12中任一權(quán)利要求所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述 出入口部具備分別支持前述基板支持構(gòu)件的不同位置的多個支持部、使前述支持部移動的 致動器； 前述振動產(chǎn)生部具有控制前述致動器使前述支持部振動的控制部。
14. 如權(quán)利要求1至13中任一權(quán)利要求所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬 送部使前述基板支持構(gòu)件往保持前述基板的基板保持具移動，將該基板支持構(gòu)件支持的前 述基板交接至前述基板保持具。
15. 如權(quán)利要求14所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部是將前述基板 支持構(gòu)件交接至前述基板保持具。
16. 如權(quán)利要求15所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部是對前述基板 保持具的中載置前述基板的保持具部交接前述基板，對前述基板保持具之中與前述保持具 部不同的部分交接前述基板支持構(gòu)件。
17. 如權(quán)利要求16所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述搬送部是對前述基板 保持具之中對前述保持具部設(shè)為槽狀的槽部交接前述基板支持構(gòu)件。
18. 如權(quán)利要求2至17中任一項權(quán)利要求所述的基板搬送裝置，其特征在于其中，前述 搬送部保持前述基板支持構(gòu)件的兩側(cè)部。
19. 一種曝光裝置，對基板保持具保持的基板照射曝光用光而使前述基板曝光，其特征 在于： 具備對前述基板保持具搬送前述基板的權(quán)利要求1至I8中任一項權(quán)利要求所述的基 板搬送裝置。
20. -種基板支持裝置，支持基板，其特征在于具有： 載置前述基板的載置部； 設(shè)于前述載置部且使前述載置部振動的振動產(chǎn)生部。
21. -種元件制造方法，其特征在于包含： 使用權(quán)利要求19所述的曝光裝置使該基板曝光的動作；以及 基于曝光結(jié)果處理曝光后的前述基板的動作。
【文檔編號】H01L21/673GK104221137SQ201080049093
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日:2009年10月28日
【發(fā)明者】河江國博, 柳川卓也 申請人:株式會社尼康