專利名稱：有機(jī)el顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及以主基板為單位實(shí)施有機(jī)EL面板的顯示不良的自動(dòng)檢測(cè)和選擇以及暗點(diǎn)(缺陷)的自動(dòng)修正的有機(jī)EL顯示基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備以及點(diǎn)燈檢查方法、有機(jī)EL 顯示基板的缺陷檢查修正裝置以及缺陷檢查修正方法、有機(jī)EL顯示面板修正設(shè)備以及修正方法、有機(jī)EL顯示制造系統(tǒng)以及制造方法。
背景技術(shù)：
有機(jī)EL(顯示器)面板與液晶面板相比顏色范圍廣、亮度高、響應(yīng)快、視角寬闊，處理這些優(yōu)秀的顯示性能之外，耗電量低容易實(shí)現(xiàn)輕薄化，所以在移動(dòng)電話、DSC(多功能數(shù)碼照相機(jī))、PMP (便攜式多媒體播放器)等2 4英寸級(jí)別的小型面板領(lǐng)域快速地普及擴(kuò)大。 另一方面，近年來(lái)，筆記本PC、監(jiān)視器、大型TV等需要大型面板的數(shù)字產(chǎn)品的應(yīng)用展開(kāi)的機(jī)會(huì)升高，在顯示器關(guān)聯(lián)學(xué)會(huì)和展覽會(huì)中，相繼發(fā)表了有源大型有機(jī)EL面板的樣品，如在 Yang Wan Kim et. al.，SID，09Digest, p. 85(2009)(非專利文獻(xiàn) 1)的報(bào)告中所示，已經(jīng)發(fā)表了最大對(duì)角40英寸的有機(jī)EL面板的樣品。但是，在今后進(jìn)行量產(chǎn)時(shí)有幾個(gè)障礙，伴隨著大型化，合格率降低這樣令人擔(dān)心情況顯現(xiàn)出來(lái)。即，面板面積越大，面板單價(jià)越高，另一方面缺陷概率增大，合格率降低，所以造成大的損失。因此，如在Tsujimura et. al. , IDW，08 Proceedings p. 145 (2008)(非專利文獻(xiàn)2)的報(bào)告中指出的那樣，為了克服由于缺陷導(dǎo)致的合格率降低，在大型面板中與小型面板不同的高合格率戰(zhàn)略變得重要。作為其解決策略的重要途徑之一，強(qiáng)烈要求檢測(cè)并修正缺陷，使不良面板成為合格面板的工業(yè)上合理的修正技術(shù)。如圖1所示，有源型有機(jī)EL面板的制造工序一般包括在主基板上形成薄膜TFT 的背板工序；形成有機(jī)EL薄膜層、上部電極層、下部電極層、阻擋層等的有機(jī)EL膜形成工序；為了抑制水分和活性氧造成的壽命降低，用覆蓋玻璃對(duì)在上述工序中制成TFT和有機(jī) EL元件的主基板進(jìn)行氣密密封的密封工序；以面板為單位進(jìn)行切斷的切斷工序；判定面板的合格與否的點(diǎn)燈檢查工序；安裝外置LSI的安裝工序；判定安裝LSI后的面板合格與否的最終點(diǎn)燈檢查工序。在上述工序中，背板工序和有機(jī)EL膜形成工序，與TFT工序和半導(dǎo)體的晶圓工序相同，由于異物原因的缺陷引起顯示不良的可能性非常高。特別是在有機(jī)EL 膜形成工序中，有機(jī)EL薄膜層的總膜厚為IOOnm左右非常薄，當(dāng)在上部電極與下部電極之間存在超過(guò)有機(jī)EL薄膜層的厚度的導(dǎo)電性異物時(shí)，上下電極發(fā)生短路，成為即使通電也不會(huì)點(diǎn)燈的缺陷像素(后述圖2)。作為有機(jī)EL顯示器的缺陷像素的修正技術(shù)，至此已知專利文獻(xiàn)1、2中記載的技術(shù)。根據(jù)專利文獻(xiàn)1記載的技術(shù)，在單純陣列驅(qū)動(dòng)的被動(dòng)型有機(jī)EL顯示器中，通過(guò)使用激光從與缺陷像素對(duì)應(yīng)的金屬電極去除發(fā)生短路等的區(qū)域，由此消除金屬電極與透明電極之間的短路，部分去除的金屬電極與透明電極之間的有機(jī)發(fā)光層變?yōu)槟軌虬l(fā)光，所以修復(fù)缺陷像素。
在專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)了缺陷像素修復(fù)方法，在由有機(jī)發(fā)光層和夾著該有機(jī)發(fā)光層的上下的電極構(gòu)成的有機(jī)EL顯示裝置中，檢查有機(jī)EL膜是否發(fā)光，當(dāng)不發(fā)光時(shí)從透明電極側(cè)檢測(cè)異物，通過(guò)從透明電極側(cè)對(duì)包圍該異物的帶狀的區(qū)域進(jìn)行激光照射，帶狀地去除相向的不透明電極薄膜，由此來(lái)消除上下電極的短路。專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2001-118684號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2005-276600號(hào)公報(bào)非專利文獻(xiàn)1 =Yang Wan Kim et. al.，SID，09Digest, p. 85(2009)非專利文獻(xiàn) 2 =Tsujimura et. al.，IDff' 08 Proceedings p. 145(2008)有源型有機(jī)EL顯示器根據(jù)發(fā)光的取出方向不同分為兩種。一種是穿過(guò)成為有機(jī) EL像素基部的主基板取出光的的底部發(fā)光型，另一種是在有機(jī)EL像素的上方取出光的頂部發(fā)光型，為了防止導(dǎo)致發(fā)光壽命惡化的水分，用吸濕材料以及覆蓋玻璃進(jìn)行氣密密封。無(wú)論在哪種情況下，在主基板一側(cè)配置夾著有機(jī)發(fā)光層的上下的電極薄膜的一方，不對(duì)另一方電極薄膜(或者電極薄膜與無(wú)機(jī)薄膜構(gòu)成的薄膜層)固體拘束，接觸干燥氣體。因此，在用于修復(fù)缺陷像素的激光照射處理中，激光照射部的物質(zhì)飛散到干燥氣體空間，能夠?qū)⒈∧尤コ庸こ上Ｍ男螤?后述圖幻。在所述專利文獻(xiàn)1、2中，因?yàn)槭菦](méi)有將一方的電極面空間固體拘束的結(jié)構(gòu)，所以能夠通過(guò)激光的局部照射消除上下電極的短路原因，能夠修復(fù)缺陷像素。但是，像在飯?zhí)镂摹赣袡C(jī)EL用封止材料」夕-J - > r ^ 7 π夕一、2007 (Νο6)、ρ46 中報(bào)告的那樣，為了應(yīng)對(duì)有機(jī)EL面板的大型化和低成本化的課題，作為新的密封技術(shù)，提出了不是上述那樣的中空結(jié)構(gòu)，而是通過(guò)有機(jī)樹(shù)脂覆蓋全體元件的結(jié)構(gòu)，作為當(dāng)前主流技術(shù)不斷普及。在該結(jié)構(gòu)中由于元件表面被樹(shù)脂覆蓋，所以沒(méi)有激光照射部的物質(zhì)飛散的空間，不能很好地通過(guò)消除異物和電極的局部，來(lái)消除上下電極的短路(后述圖4)。因此，很多時(shí)候無(wú)法通過(guò)激光照射修復(fù)缺陷像素，此外，即使能夠進(jìn)行像素修復(fù)但工序裕度顯著降低。此外，當(dāng)是有源型有機(jī)EL顯示器時(shí)，因?yàn)樵谝灾骰鍨閱挝贿M(jìn)行了氣密密封之后切斷面板，以連接端子露出后能夠供電的形式的狀態(tài)對(duì)每個(gè)面板進(jìn)行缺陷像素檢查，所以要修復(fù)有機(jī)樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL面板的缺陷像素時(shí)，與專利文獻(xiàn)1、2的情況不同，有機(jī)發(fā)光層與夾著有機(jī)發(fā)光層的上下電極的兩面都被固體拘束，所以難以通過(guò)激光照射進(jìn)行修
Μ. ο現(xiàn)在量產(chǎn)的移動(dòng)電話等產(chǎn)品由于是2 3英寸左右面板尺寸小，所以即使不修復(fù)像素也能確保合格率，所以不是大問(wèn)題，但是如上所述，對(duì)于有機(jī)樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL 面板，沒(méi)有有效的缺陷像素修復(fù)手段，對(duì)于今后開(kāi)始量產(chǎn)化的大畫(huà)面有機(jī)EL顯示器，強(qiáng)烈要求工業(yè)上合理的、或生產(chǎn)率高的新的缺陷像素修復(fù)手段。作為用于實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)率高的缺陷像素修復(fù)手段的關(guān)鍵點(diǎn)，課題在于即使成為缺陷原因的異物的大小非常微小也能夠以高準(zhǔn)確率進(jìn)行檢測(cè)、找出修復(fù)成功率高且能夠應(yīng)對(duì)生產(chǎn)線完全自動(dòng)化的穩(wěn)定的缺陷修復(fù)手段。如前所述，有機(jī)EL發(fā)光層的總膜厚是IOOnm左右非常薄，因此成為缺陷原因的異物是IOOnm左右的微小物體，這就造成了問(wèn)題，作為檢測(cè)異物的觀察系統(tǒng)，尋求能夠應(yīng)對(duì)該大小的高靈敏度的手段。此外，特別是在頂部發(fā)光結(jié)構(gòu)的有機(jī) EL顯示器中，由于在有機(jī)EL發(fā)光層的下層形成TFT圖案的情況較多，所以微小異物由于該圖案的影響很難檢測(cè)出。在通過(guò)激光照射的像素修復(fù)中，根據(jù)應(yīng)去除的異物的大小、形狀、 材質(zhì)的不同，產(chǎn)生能量吸收的差別，在去除性上產(chǎn)生大的偏差，存在缺陷像素修復(fù)的成功率降低的問(wèn)題。對(duì)于異物的每一個(gè)大小使光束直徑變化的方法和掃描光束來(lái)去除為希望的形狀的方法需要復(fù)雜的工序，對(duì)于設(shè)備的生產(chǎn)線完全自動(dòng)化成為大的障礙。因此，為了得到在工業(yè)上合理的缺陷像素修復(fù)手段，謀求能夠檢測(cè)微小缺陷，缺陷修復(fù)成功率和穩(wěn)定性高，參數(shù)設(shè)定容易，量產(chǎn)性高的缺陷像素修復(fù)設(shè)備。即使在能夠進(jìn)行缺陷像素修復(fù)的面板內(nèi)部結(jié)構(gòu)是中空結(jié)構(gòu)的面板中，在通過(guò)激光照射修復(fù)后的像素中，在激光照射部有機(jī)EL膜露出，存在由于在面板內(nèi)部滯留的激光照射飛散物的污染，該像素的發(fā)光壽命降低的問(wèn)題。此外，作為適于有源型有機(jī)EL顯示器的大型面板結(jié)構(gòu)的另一個(gè)候補(bǔ)，具有白色有機(jī)EL設(shè)備和濾色鏡的組合，但在該結(jié)構(gòu)中，需要經(jīng)由濾色鏡的彩色圖案來(lái)照射激光，所以由于濾色鏡的彩色圖案導(dǎo)致激光被吸收，難以去除異物，無(wú)法修復(fù)像素。關(guān)于單獨(dú)的缺陷像素檢查技術(shù)有如下的課題。即，缺陷像素檢查是以面板為單位進(jìn)行的，所以需要與各種產(chǎn)品尺寸對(duì)應(yīng)的檢查裝置和檢查夾具并且難以實(shí)現(xiàn)提高生產(chǎn)率的自動(dòng)化。此外，由于沒(méi)有生產(chǎn)線化，在檢測(cè)缺陷像素時(shí)，為了將同時(shí)實(shí)施的畫(huà)質(zhì)檢查的結(jié)果反饋給前一個(gè)工序，所以需要耗費(fèi)時(shí)間，應(yīng)對(duì)提高合格率的對(duì)策也耗費(fèi)時(shí)間。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的第1目的在于提供一種即使最終的面板形態(tài)是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)也能夠修復(fù)像素缺陷，缺陷修正后的像素的可靠性高，此外檢查修正的處理時(shí)間短，或缺陷修正的成功率高、能夠自動(dòng)化并且生產(chǎn)率高的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備或點(diǎn)燈檢查方法、有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置或缺陷檢查修正方法或有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)或制造方法。此外，本發(fā)明的第2目的在于提供一種能夠檢查出微小的缺陷，或/以及像素修復(fù)的成功率高、或/以及容易自動(dòng)化并且生產(chǎn)率高的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備以及修正方法。本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，第1特征是具有點(diǎn)燈單元，向具有使有機(jī)EL元件的各像素點(diǎn)燈的點(diǎn)燈檢查用專用配線以及專用電極極板的主基板的所述專用電極極板供電，使所述各像素點(diǎn)燈；以及缺陷像素檢測(cè)單元，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中的未點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置。根據(jù)第1發(fā)明，能夠?qū)τ谛纬闪擞袡C(jī)EL元件和配線的主基板上的有機(jī)EL面板，經(jīng)由專用配線向各面板的像素供電來(lái)進(jìn)行點(diǎn)燈檢查，能夠檢測(cè)非點(diǎn)燈(缺陷)像素。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第1特征之上，第2特征是具有缺陷修正設(shè)備，其具備光學(xué)檢查所述缺陷像素的異物的位置的異物位置檢查單元和對(duì)所述檢測(cè)出的異物的位置照射激光，修正所述缺陷像素的缺陷修正單元。根據(jù)第2發(fā)明，由于能夠通過(guò)使用激光來(lái)去除所述像素內(nèi)的缺陷部位，來(lái)進(jìn)行修復(fù)，所以即使最終面板形態(tài)是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)或組合了濾色鏡的結(jié)構(gòu)也能夠修復(fù)像素缺陷。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第2特征之上，第3特征是具有判定單元， 在修正所述缺陷像素后至少向所述缺陷像素供電，判定像素是否點(diǎn)燈。
此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第2特征之上，特征是具有阻擋膜形成設(shè)備，重新形成與修正所述缺陷像素一同被去除的阻擋膜。在H. Lifka et. al.，SID，04 Digest, p. 1384(2004)中公開(kāi)了恰當(dāng)?shù)淖钃跄ば纬煞椒?。更好地列舉出了使用了能夠以低溫并且高低差覆蓋性高地使因激光去除而產(chǎn)生的凹部平坦化成膜的有機(jī)硅系原料的真空紫外線CVD法，但也可以是具有保護(hù)功能的成膜方法，不限定于此。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述目的，在第2特征之上，第4特征是具有低濕度環(huán)境維持單元，將所述點(diǎn)燈檢查設(shè)備、缺陷修正設(shè)備控制在低濕度環(huán)境。根據(jù)第4特征，通過(guò)維持在低濕度環(huán)境下，能夠確保有機(jī)EL面板的發(fā)光壽命。作為低濕度環(huán)境維持單元考慮水分去除機(jī)構(gòu)或通過(guò)非活性干燥氣體來(lái)維持的構(gòu)造。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，第5特征是具有成膜組，具備在真空環(huán)境中在主(玻璃)基板上使有機(jī)EL元件形成材料成膜的有機(jī)EL膜形成設(shè)備；點(diǎn)燈檢查修正組， 其設(shè)置在所述成膜組的后級(jí)，具備使所述主基板的像素點(diǎn)燈來(lái)檢查點(diǎn)燈狀態(tài)檢測(cè)缺陷像素的點(diǎn)燈檢查設(shè)備、和根據(jù)所述點(diǎn)燈檢查設(shè)備的檢查結(jié)果，修正所述缺陷像素的缺陷修正設(shè)備；密封組，其設(shè)置在所述點(diǎn)燈檢查修正組的后級(jí)，具有用覆蓋玻璃對(duì)所述主基板的一面進(jìn)行密封的密封設(shè)備；第1交接設(shè)備，其設(shè)置在所述成膜組和所述點(diǎn)燈檢查修正組之間，進(jìn)行所述主基板的交接；第2交接設(shè)備，其設(shè)置在所述點(diǎn)燈檢查修正組和所述密封組之間，進(jìn)行所述主基板的交接；以及輸送設(shè)備，輸送所述主基板。并且本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，第6特征是具有成膜步驟，在真空環(huán)境中在主(玻璃)基板上使有機(jī)EL元件形成材料成膜；點(diǎn)燈步驟，向所述主基板的各像素供電使所述各像素點(diǎn)燈；缺陷像素檢測(cè)步驟，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中沒(méi)有點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置；缺陷修正步驟，檢測(cè)所述缺陷像素內(nèi)的異物并修正所述缺陷像素；以及密封步驟，在修正所述缺陷后將所述主基板的一面密封。根據(jù)第5、第6發(fā)明，由于像素的點(diǎn)燈檢查、修正在密封工序之前實(shí)施，所以能夠與密封結(jié)構(gòu)無(wú)關(guān)地進(jìn)行檢查、修正。此外，由于能夠以主基板為單位進(jìn)行檢查、修正，所以不需要在以往的以面板為單位的檢查、修正的方法中所需要的每個(gè)面板尺寸的設(shè)備和夾具。此外，由于能夠以主基板為單元來(lái)處理有機(jī)EL設(shè)備形成工序到密封工序，所以使得整個(gè)生產(chǎn)線容易自動(dòng)化并且提高生產(chǎn)率。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第5特征之上，第7特征是設(shè)有全體低濕度環(huán)境維持單元，除了所述點(diǎn)燈檢查修正組之外，還將所述密封組、所述第1交接設(shè)備、所述第2交接設(shè)備以及所述輸送設(shè)備控制在低濕度環(huán)境。根據(jù)第7發(fā)明，因?yàn)槟軌蛲ㄟ^(guò)環(huán)境控制在低濕度的基板輸送設(shè)備將有機(jī)EL設(shè)備形成工序、檢查修正工序、密封工序連結(jié)起來(lái)，并將全部工序控制在低濕度，所以能夠抑制對(duì)面板發(fā)光壽命造成影響的濕度。作為在本發(fā)明的有機(jī)顯示器制造系統(tǒng)中使用的有機(jī)EL膜成膜設(shè)備的優(yōu)選例子， 列舉出了真空成膜設(shè)備、涂敷干燥設(shè)備、氣相成膜設(shè)備、激光轉(zhuǎn)寫(xiě)成膜設(shè)備等，作為真空成膜設(shè)備的具體例子在 Hae Won Kim et. al.，SID，09Digest, p. 1359(2009)中進(jìn)行了公開(kāi)， 作為涂敷干燥設(shè)備的具體例子，在Siuichi Takei et. al. , SID' 09 Digest，p. 1351中公開(kāi)了噴墨法，在 Reid J. Chesterfield et. al.，SID，09 Digest, p. 954(2009)中公開(kāi)了使用噴頭打印機(jī)的方法，在 Markus Schwambera et. al.，IMID，09 Digest, 1140(2009)中公開(kāi)了將有機(jī)EL材料放置在非活性氣流上堆積在基板上的氣相成膜法的具體例子，作為把在支持體上成膜的有機(jī)EL膜通過(guò)激光轉(zhuǎn)寫(xiě)在基板上成膜的激光轉(zhuǎn)寫(xiě)法的具體例子，在 Takashi Hirano et. al.，SID，07 Digest, pl592(2007)中公開(kāi)了 LIPS 法，在 kong Taek Lee et. al.，SID，07 Digest, pl588(2007)中公開(kāi)了 LITI法，但也可以是有機(jī)EL成膜單元，對(duì)于成膜方法沒(méi)有特別的限定。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第2或第5或第6特征之上，第8特征是通過(guò)圖像捕捉向所述各像素供電后點(diǎn)燈的狀態(tài)，根據(jù)所述圖像，以所述面板為單位來(lái)檢查線缺陷、不均勻、像素內(nèi)彩色邊紋中的至少一種不良，進(jìn)行良品不良品的判定，所述缺陷修正選出僅具有所述缺陷像素的不良的所述面板，修正所述缺陷像素。根據(jù)第8發(fā)明，因?yàn)槟軌蛟谌コ屈c(diǎn)燈像素之外的不良的面板之后，為了進(jìn)行像素缺陷的修復(fù)，縮小應(yīng)該修正的面板的范圍，所以生產(chǎn)率提高。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第1目的，在第5或第6特征之上，第9特征是具有評(píng)價(jià)主基板上的下層TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案之間的圖案偏差，將該圖案偏差作為偏置值反饋給所述有機(jī)EL膜形成設(shè)備的像素圖案位置對(duì)位的單元。例如，在真空成膜設(shè)備中由于分離紅、藍(lán)、綠各像素形成圖案，對(duì)每個(gè)顏色用遮光板分別涂敷，但隨著變成高精掩模或大型掩模，由于結(jié)合遮光板的位置的偏差，顏色混合的可能性增加。在有機(jī)EL顯示器基板的檢查修正中，測(cè)量在背板形成工序中制作的圖案與有機(jī)膜圖案的偏差，通過(guò)將該偏差量作為偏置值反饋給真空成膜設(shè)備，來(lái)防止遮光板位置對(duì)位時(shí)的偏差，由此能夠提高合格率。此外，本發(fā)明為了達(dá)成第1目的，在第2或第5特征之上，第10特征是所述缺陷修正設(shè)備將所述主基板安放在低濕度環(huán)境中，使所述激光經(jīng)由透明窗照射所述異物。 在本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器檢查修正設(shè)備中，為了確保有機(jī)EL面板的發(fā)光壽命，優(yōu)選在該檢查修正設(shè)備內(nèi)也具有通過(guò)水分去除機(jī)構(gòu)或非活性干燥氣體將檢查環(huán)境以及激光加工環(huán)境控制在低濕度的結(jié)構(gòu)，但是，進(jìn)一步優(yōu)選為，為了降低非活性干燥氣體的使用量和管理結(jié)露點(diǎn)，希望成為降低內(nèi)容積的結(jié)構(gòu)。即，在通過(guò)水分去除機(jī)構(gòu)或非活性干燥氣體把保持基板的載物臺(tái)控制在低濕度的結(jié)構(gòu)體中，在該結(jié)構(gòu)體上設(shè)有使檢查所需的光或激光透過(guò)的玻璃窗，點(diǎn)燈檢查的檢查系統(tǒng)、像素內(nèi)缺陷的檢查系統(tǒng)、修正用激光照射系統(tǒng)在該結(jié)構(gòu)體外，經(jīng)由所述玻璃窗進(jìn)行檢查修正，通過(guò)這樣的有機(jī)EL顯示器檢查修正設(shè)備以及有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，能夠顯著降低非活性氣體所必要的內(nèi)容積。進(jìn)一步，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，第11特征是對(duì)通過(guò)有機(jī)EL元件形成了像素的主基板上的所述像素的缺陷照射激光來(lái)修正該缺陷時(shí)，根據(jù)所述缺陷的位置信息和大小，經(jīng)由具有使所述激光透過(guò)的透光圖案的光掩模，對(duì)所述缺陷的位置進(jìn)行照射。根據(jù)本發(fā)明的第11特征，能夠根據(jù)檢查出的異物的不良像素內(nèi)的位置和大小，通過(guò)光掩模的透光圖案來(lái)切實(shí)修正暗點(diǎn)等缺陷。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第11特征之上，第12特征是把非點(diǎn)燈不良像素的圖像與正常像素的圖像進(jìn)行比較，檢測(cè)非點(diǎn)燈不良像素內(nèi)的所述缺陷的位置和大小。根據(jù)本發(fā)明的第12特征，本發(fā)明的修正設(shè)備的觀察系統(tǒng)中的微小的缺陷的檢測(cè)，是通過(guò)取得非點(diǎn)燈不良像素的圖像與鄰接的同色的正常像素的圖像的差別圖像，能夠去除背景信號(hào)，提高例如異物的對(duì)比度。此外，如頂部發(fā)光型結(jié)構(gòu)那樣，即使在有機(jī)發(fā)光層的下層具有TFT圖案，在差別圖像中這些被消除，僅強(qiáng)調(diào)異物，所以容易地檢查出異物。檢測(cè)出的異物由于能夠測(cè)定不良像素內(nèi)的位置和大小，所以能夠取得位置信息和大小信息，此外， 作為激光照射時(shí)的參數(shù)，把大小信息按大小進(jìn)行分類來(lái)進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第11特征之上，第13特征是所述透光圖案是包圍所述缺陷的周圍，能夠帶狀地去除所述缺陷的周圍的圖案。根據(jù)本發(fā)明的第13特征，通過(guò)經(jīng)由設(shè)有帶狀地包圍缺陷周圍的透光圖案的光掩模來(lái)進(jìn)行激光照射，能夠提高缺陷修復(fù)成功率。如上所述，在想要激光去除含有異物的區(qū)域時(shí)，由于應(yīng)去除的異物的大小、形狀、材質(zhì)的差異產(chǎn)生能量吸收的差異，在去除性上產(chǎn)生大的偏差，缺陷像素修復(fù)的成功率降低。如果激光不照射異物，而是去除其周邊，能夠消除電路短路狀況，所以像素修復(fù)。因此，如果照射包圍缺陷的周圍，能夠帶狀地去除所述缺陷的周圍的透光圖案的激光，能夠始終去除同質(zhì)的物質(zhì)，所以不會(huì)受到異物的物性的影響。此外，如果在光掩模中通過(guò)能夠帶狀地去除的透光圖案生成光束，則不需要根據(jù)異物直徑調(diào)整激光的大小和強(qiáng)度，此外，消除了使激光在異物周圍掃描的復(fù)雜性。此外，本發(fā)明為了達(dá)成所述第2目的，在第11特征之上，第1 4特征在于所述透光圖案是直徑大于所述缺陷的透光圖案。根據(jù)本發(fā)明的第14特征，使用足夠超過(guò)異物等缺陷的直徑的大的光束來(lái)照射，按照異物的大小信息，使用比異物直徑大且能夠縮小去除范圍的光掩模圖案，經(jīng)由該光掩模圖案在異物位置進(jìn)行激光照射，由此能夠修復(fù)像素。此時(shí)，通過(guò)使用預(yù)先提高了光束內(nèi)強(qiáng)度均勻性的激光，能夠始終照射均勻性高的激光，所以能夠提高去除穩(wěn)定性。此外，通過(guò)將透光圖案的直徑設(shè)為必要的最小限度，能夠抑制加工部面積，能夠抑制修復(fù)后的像素的亮度降低。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第13或第14特征之上，第15特征在于所述光掩模具有多個(gè)改變了大小的所述透光圖案，結(jié)合所述缺陷大小來(lái)選擇所述透光圖案。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第13或第14特征之上，第16特征在于具有多個(gè)改變了所述透光圖案的大小的所述光掩模，與所述缺陷的大小相匹配地選擇所述光掩模。根據(jù)本發(fā)明的第15或第16特征，按照異物的大小信息，選擇比異物直徑大且能夠縮小去除范圍的光掩模圖案，通過(guò)經(jīng)由該光掩模圖案激光照射異物位置，能夠修正缺陷。通過(guò)將照射直徑抑制為較小，能夠抑制加工部面積，能夠抑制修復(fù)后的像素的亮度降低。此外，根據(jù)本發(fā)明的第13特征和本發(fā)明的第15或第16特征，透光圖案是包圍缺陷的周圍，能夠帶狀地去除缺陷的周圍的透光圖案，通過(guò)采用具備改變了該透光圖案的大小多個(gè)設(shè)置的光掩模，與缺陷的大小相匹配地選擇使去除區(qū)域?yàn)樽钚∠薅鹊耐腹鈭D案來(lái)進(jìn)行激光照射的機(jī)構(gòu)，能夠縮短激光照射所需要的時(shí)間。即，根據(jù)觀察系統(tǒng)的異物信息，從存儲(chǔ)多個(gè)的透光圖案中選擇最適合的，使光掩模移動(dòng)到異物正上方來(lái)進(jìn)行激光照射，所以設(shè)備動(dòng)作少。因此，能夠縮短像素修復(fù)時(shí)間，生產(chǎn)率提高。特別是在必須修復(fù)多個(gè)像素的修正設(shè)備中，處理時(shí)間的縮短是不可欠缺的，本發(fā)明的修正設(shè)備在這一點(diǎn)上是有效的結(jié)構(gòu)，所以有利于生產(chǎn)線化。
并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第13至第14特征的任意一個(gè)特征之上， 第17特征在于具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部具有保持所述主基板的載物臺(tái)和所述激光照射系統(tǒng)以及所述觀察系統(tǒng)，通過(guò)水分去除機(jī)構(gòu)或非活性干燥氣體將所述構(gòu)造體的內(nèi)部控制為低濕度。根據(jù)本發(fā)明的第17特征，能夠確保有機(jī)EL顯示器面板的發(fā)光壽命。此外，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第13至第14特征的任意一個(gè)特征之上， 第18特征在于具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部安放保持所述主基板的載物臺(tái)，進(jìn)行所述激光照射的激光振蕩器設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體外，經(jīng)由設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體上的透過(guò)窗照射所述激光。并且，本發(fā)明為了達(dá)成上述第2目的，在第13至第14特征的任意一個(gè)特征之上， 第19特征在于具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部安放保持所述主基板的載物臺(tái)，所述觀察系統(tǒng)設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體外，經(jīng)由設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體上的透過(guò)窗檢查所述缺陷的位置和大小。根據(jù)本發(fā)明的第18或第19特征，為了降低非活性干燥氣體的使用量以及結(jié)露點(diǎn)管理，能夠成為降低了內(nèi)容積的結(jié)構(gòu)。即，保持基板的載物臺(tái)處于通過(guò)水分去除機(jī)構(gòu)或非活性干燥氣體控制在低濕度的結(jié)構(gòu)體中，在該結(jié)構(gòu)體上設(shè)有使檢查所需的光和激光透過(guò)的玻璃窗，像素內(nèi)缺陷的觀察系統(tǒng)、修正用激光照射系統(tǒng)在該結(jié)構(gòu)體之外，經(jīng)由所述玻璃窗進(jìn)行修正，通過(guò)這樣的有機(jī)EL顯示器檢查修正設(shè)備，能夠顯著降低非活性氣體所需的內(nèi)容積。此外，作為與本發(fā)明有關(guān)聯(lián)的檢測(cè)非點(diǎn)燈不良像素的位置的方法的例子，列舉了以下的方法對(duì)于主基板上的有機(jī)EL顯示器面板，在背板工序中設(shè)有向各面板供電的點(diǎn)燈檢查專用配線以及電極，對(duì)于該主基板使用專用探針供電使全部像素發(fā)光，檢測(cè)非點(diǎn)燈像素。即使最終面板形式是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)或組合了濾色鏡的結(jié)構(gòu)，也能夠修復(fù)像素缺陷。此外，在本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器檢查修正設(shè)備中，通常水平保持基板來(lái)對(duì)其進(jìn)行處理，但為了降低設(shè)備占用面積，也可以是將基板保持為垂直的結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供即使最終面板形式是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)，缺陷修復(fù)后的像素的可靠性高，此外檢查修正的處理時(shí)間短，或缺陷修正的成功率高，能夠自動(dòng)化生產(chǎn)率高的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備或點(diǎn)燈檢查方法、有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置或缺陷檢查修正方法或有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)或制造方法。此外，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠檢測(cè)微小缺陷、或/以及像素修復(fù)的成功率高、或/以及自動(dòng)化容易且生產(chǎn)率高的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備以及修正方法。


圖1是表示有源矩有機(jī)EL面板的制造工序的例子的圖。
圖2是表示像素缺陷的原因的概念圖。
圖3是表示像素缺陷的修復(fù)機(jī)制的概念圖。
圖4是表示不能修復(fù)像素缺陷的原因的概念圖。
圖5是評(píng)價(jià)的底部發(fā)光中空密封的元件剖面圖。
圖6是評(píng)價(jià)的底部發(fā)光樹(shù)脂密封的元件剖面圖。
圖7是評(píng)價(jià)的頂部發(fā)光中空密封的元件剖面圖。
圖8A是評(píng)價(jià)的頂部發(fā)光樹(shù)脂密封的元件剖面圖。
圖8B是表示非點(diǎn)燈缺陷像素的激光修復(fù)結(jié)構(gòu)依賴性的比較評(píng)價(jià)的表，像素修正
13合格率80%以上為良好(〇)、80% 20%為一般(Δ)、20%以下為差(X)。圖9是形成像素供電用專用配線和電極極板的主基板的平面圖。
圖10是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的點(diǎn)燈檢查設(shè)備的結(jié)構(gòu)的圖。
圖11是表示由點(diǎn)燈檢查設(shè)備檢查出的像素缺陷的坐標(biāo)的圖。
圖12是表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方式的使用激光的缺陷修正設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖。
圖13是表示應(yīng)該修正的像素和像素內(nèi)缺陷的狀況的圖。
圖14Α是表示使用了光掩模的像素內(nèi)短路修復(fù)的例子。
圖14Β是表示使用了光掩模的像素內(nèi)短路修復(fù)的另一個(gè)例子。
圖15是表示缺陷修正處理前后的像素的狀況。
圖16是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的使用了點(diǎn)燈檢查設(shè)備、缺陷修正設(shè)備時(shí)的有源型有機(jī)EL面板的制造工序的例子的圖O
閱圖17是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的例子的 。
圖18是表示降低充滿非活性干燥氣體的空間的點(diǎn)燈檢查設(shè)備的例子的圖。
圖19是表示降低充滿非活性干燥氣體的空間的缺陷修正裝置的例子的圖。
圖20是對(duì)下層TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案的偏差進(jìn)行說(shuō)明的圖。
符號(hào)說(shuō)明
10 有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)
20:有機(jī)EL膜形成設(shè)備組
30 以主基板為單位的像素的點(diǎn)燈檢查修正設(shè)備組
40 密封設(shè)備組45 基板
50,60,80 交接裝置51 真空傳遞室
52 傳遞室90 傳遞機(jī)器人
IOOa 缺陷像素IOOb 正常像素
IOOc 恢復(fù)了發(fā)光的像素
IOOd 通過(guò)激光照射未修復(fù)的像素
101 覆蓋玻璃102 樹(shù)脂層或中空層
103 阻擋膜104 第2電極
105、107 絕緣層106 第1電極
108 處于玻璃板狀態(tài)的主基板109 配線層
110 =TFT 元件120、120a、120b 有機(jī)發(fā)光層(膜)
130 導(dǎo)電性異物140 脈沖激光
150 通過(guò)激光的飛散物160 中空層
170 通過(guò)激光照射生成的開(kāi)口部180 樹(shù)脂層
190 激光燒傷部200 第2電極(不透明)
301 面板區(qū)域302 顯示部區(qū)域
303 柵極LSI安裝區(qū)域304 源極LSI安裝區(qū)域
305:柵極部供電用電極極板306:柵極部供電配線
307:源極部供電用電極極板308:源極部供電配線
309:第2電極用供電極板310:第2電極供電配線
320 主基板(帶有專用供電配線圖9)321,803 載物臺(tái)
322:柵極部供電用探針323:源極部供電用探針
324 線性傳感器330 缺陷像素
400 激光振蕩器401 激光
402 光束擴(kuò)展器403 均化器
407、407A 掩模408 掩模載物臺(tái)
409 成像透鏡410,412 半透半反鏡
411 物鏡413 攝像元件
414 圖像處理部415 成像透鏡
416 準(zhǔn)直透鏡417 光源
420 投影光450 觀察系統(tǒng)
460 激光照射系統(tǒng)
50IR 紅色子像素50IG 綠色子像素
501B 藍(lán)色子像素500R 缺陷像素
510R:恢復(fù)了點(diǎn)燈的像素520 激光照射部
600 激光去除部601 遮光部
602 開(kāi)口部701,702,703 有機(jī)EL膜形成設(shè)備
704、705:第2電極膜形成設(shè)備706 阻擋膜形成設(shè)備
710、711、806 點(diǎn)燈檢查設(shè)備712、713、714、715 缺陷修正設(shè)備
721 密封設(shè)備800 玻璃窗
802 探針803,813 結(jié)構(gòu)體
804,816 傳遞室805,812 載物臺(tái)
810 玻璃窗815 激光修正裝置
820 激光照射系統(tǒng)901 柵極線
902 數(shù)據(jù)線910 有機(jī)發(fā)光層
具體實(shí)施例方式以下，按照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。但是，該實(shí)施方式不限定本發(fā)明的技術(shù)范圍。首先，使用圖2的頂部發(fā)光有源型有機(jī)EL顯示器的剖面概念圖來(lái)說(shuō)明即使通電也不發(fā)光的缺陷像素的原因。該設(shè)備首先在背板工序中在處于僅是玻璃基板的狀態(tài)的主基板 108上使用薄膜工序形成TFT元件110、配線層109、絕緣層107、絕緣層105、有機(jī)EL部的第 1電極106等。使用遮光板在第1電極106的圖案上真空蒸鍍有機(jī)發(fā)光層120(120a、120b) 的圖案，并且不打破真空連續(xù)地形成第2電極104、形成阻擋膜103，形成有機(jī)EL元件。為了防止水分而導(dǎo)致壽命降低和為了機(jī)械的保護(hù)，使用覆蓋玻璃101進(jìn)行密封，設(shè)備完成，但是根據(jù)方式的不同，覆蓋玻璃與有機(jī)EL元件側(cè)基板之間成為樹(shù)脂層或中空層102。有機(jī)發(fā)光層120的厚度是IOOnm左右非常薄，當(dāng)在第1電極106與第2電極104之間存在突破該厚度的大的導(dǎo)電性異物導(dǎo)電130時(shí)，第1電極106與第2電極104發(fā)生短路，成為不發(fā)光的缺陷像素100a。即使異物沒(méi)有導(dǎo)電性，也存在由于從異物與有機(jī)發(fā)光層的界面開(kāi)始的微小漏孔，發(fā)生短路的情況。在覆蓋玻璃與有機(jī)EL元件側(cè)基板之間是中空層的情況下和樹(shù)脂層的情況下，在激光照射的缺陷修復(fù)效果中存在不同，在中空層(結(jié)構(gòu))的情況下容易修復(fù)缺陷。圖3是表示在為中空層160的情況下像素缺陷的修復(fù)機(jī)制的概念圖。當(dāng)對(duì)存在異物的場(chǎng)所照射脈沖激光140的光束時(shí)，照射部的第2電極104、有機(jī)發(fā)光層120b、導(dǎo)電性異物130在激光的熱沖擊下飛散，產(chǎn)生開(kāi)口部170。沒(méi)有開(kāi)口的殘余的像素從短路轉(zhuǎn)變?yōu)殚_(kāi)路，成為恢復(fù)發(fā)光的像素100c。相對(duì)于整個(gè)像素面積，如果由激光照射生成的開(kāi)口部170的面積小，則實(shí)際上作為沒(méi)有問(wèn)題的像素而發(fā)揮作用。另一方面，當(dāng)覆蓋玻璃與有機(jī)EL元件側(cè)基板之間是樹(shù)脂層(結(jié)構(gòu))180時(shí)，難以修復(fù)。圖4是表示不能修復(fù)像素缺陷的原因的概念圖。即使對(duì)存在異物的場(chǎng)所照射脈沖激光 140的光束，由于被樹(shù)脂密封，所以不存在由于激光的熱沖擊產(chǎn)生的分解物飛散的空間，照射部190僅燒傷發(fā)光沒(méi)有恢復(fù)(IOOd)。為了在實(shí)驗(yàn)上確認(rèn)這一點(diǎn)，對(duì)于頂部發(fā)光結(jié)構(gòu)和底部發(fā)光結(jié)構(gòu)這兩者，關(guān)于氣體密封后的面板內(nèi)部結(jié)構(gòu)是中空結(jié)構(gòu)與用有機(jī)樹(shù)脂覆蓋整個(gè)元件的結(jié)構(gòu)，評(píng)價(jià)通過(guò)激光的局部照射進(jìn)行的缺陷像素修復(fù)的可能性。在圖5 圖8中表示評(píng)價(jià)的有源型有機(jī)EL面板的剖面概念圖。圖5是底部發(fā)光中空密封的元件剖面圖、圖6是底部發(fā)光樹(shù)脂密封的元件剖面圖、圖7是頂部發(fā)光中空密封的元件剖面圖、圖8A是頂部發(fā)光樹(shù)脂密封的元件剖面圖。評(píng)價(jià)面板的非點(diǎn)燈缺陷像素是綠色的子像素(子像素)、異物直徑0. 5 2um，激光是532um 的脈沖激光、光束直徑是lOum，在適當(dāng)改變能量密度進(jìn)行激光照射后，通過(guò)點(diǎn)燈檢查裝置評(píng)價(jià)了非點(diǎn)燈缺陷像素的修復(fù)狀態(tài)。評(píng)價(jià)結(jié)果如圖8B所示。在頂部發(fā)光結(jié)構(gòu)與底部發(fā)光結(jié)構(gòu)的任意一個(gè)中，雖然在中空結(jié)構(gòu)(圖5、圖7)中缺陷像素的修復(fù)成功，但是在有機(jī)樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)(圖6、圖8A)中即使改變激光條件進(jìn)行照射，缺陷像素也沒(méi)有修復(fù)。根據(jù)以上結(jié)果， 確認(rèn)了在樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)中難以通過(guò)激光照射修復(fù)像素。下面說(shuō)明以上述檢驗(yàn)結(jié)果為背景得到的本發(fā)明的實(shí)施例。實(shí)施例1圖9是本發(fā)明實(shí)施方式的形成了像素供電用專用配線和電極極板的主基板的平面圖。在背板工序中在制造制作了 TFT和配線的主基板320時(shí)，為了能夠以主基板為單位一起供電，在基板的兩邊同時(shí)制作柵極部供電用電極極板305、柵極部供電配線306、源極部供電用電極極板307、源極部供電配線308、EL元件第2電極用供電焊點(diǎn)309、EL元件第 2電極供電配線310。還同時(shí)制作面板點(diǎn)燈所需要的其它配線。此外，在本實(shí)施例中采用了從主基板兩邊供電的結(jié)構(gòu)，但也可以是從1邊供電的結(jié)構(gòu)。雖然沒(méi)有詳細(xì)地記載，但柵極部供電配線306以及源極部供電配線308進(jìn)一步分別在門(mén)極LSI安裝區(qū)域303和源極LSI安裝區(qū)域304分支，到達(dá)顯示部區(qū)域302的各像素。 當(dāng)有機(jī)EL膜形成工序結(jié)束時(shí)，成為還能夠在EL元件第2電極供電的狀態(tài)，所以通過(guò)從這些供電用專用配線施加電壓，能夠使主基板上的全部像素點(diǎn)燈。在點(diǎn)燈檢查后不需要的這些專用電極極板和配線區(qū)域，在面板切斷工序中從具有顯示部區(qū)域302的面板區(qū)域301切離并被舍棄，不留在產(chǎn)品面板中。圖10是表示本發(fā)明實(shí)施方式的點(diǎn)燈檢查設(shè)備的結(jié)構(gòu)的圖。本裝置包含載物臺(tái)321、柵極部以及有機(jī)EL元件第2電極供電用探針322、源極部供電用探針323、具有可動(dòng)機(jī)構(gòu)的線性傳感器324以及圖像處理用外部存儲(chǔ)裝置325。在載物臺(tái)上放置的帶有專用供電配線的主基板320(圖9)將探針端子與電極極板接觸，通過(guò)供電來(lái)使全部像素點(diǎn)燈。在主基板320上配置的線性傳感器3M掃描點(diǎn)燈基板，對(duì)點(diǎn)燈圖像進(jìn)行拍攝。線性傳感器的總像素需要具有比主基板320上的全部像素多的像素?cái)?shù)，在一臺(tái)線性傳感器的總像素不滿足上述數(shù)目時(shí)，由多個(gè)線性傳感器分擔(dān)來(lái)取得數(shù)據(jù)。除了線性傳感器之外，也能夠使用TDI傳感器、區(qū)域傳感器(TV攝像機(jī))。圖11是表示點(diǎn)燈檢查設(shè)備檢查出的像素缺陷的坐標(biāo)的圖。從上述拍攝的圖像，檢查出如圖所示不發(fā)光的缺陷像素(暗點(diǎn))330，對(duì)每個(gè)面板決定其坐標(biāo)。關(guān)于該坐標(biāo)點(diǎn)，與后述的缺陷修正設(shè)備共享坐標(biāo)，在向需要修正的不良像素位置進(jìn)行引導(dǎo)。此外，根據(jù)下述算法能夠區(qū)分應(yīng)修正的基板和不能修正的基板。S卩，計(jì)算出每個(gè)面板的缺陷像素的數(shù)量，如果檢查出在流水線周期內(nèi)無(wú)法修正完的數(shù)目的暗點(diǎn)，則判定為不良基板，不向缺陷修正設(shè)備輸送。在點(diǎn)燈檢查中，能夠在檢查出暗點(diǎn)的同時(shí)，檢測(cè)不能修正的斷線和水平差的圖像不均勻，但這種情況下也判定為不良基板，不向缺陷修正設(shè)備輸送。 作為圖像不均勻的原因，可以舉出因在背板工序的多晶硅形成時(shí)產(chǎn)生的受激準(zhǔn)分子激光退火不均勻或像素內(nèi)有機(jī)EL圖案的偏移導(dǎo)致的像素偏移引起的不均勻等。由此，可以僅修正應(yīng)該修正的基板，不產(chǎn)生不需要的工作。圖12是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的缺陷修正設(shè)備的結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的圖。步驟如下所述。即，根據(jù)點(diǎn)燈檢查設(shè)備提取的缺陷像素的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，通過(guò)載物臺(tái)321移動(dòng)主基板320，以使缺陷像素位于激光照射系統(tǒng)的正下方。缺陷像素內(nèi)的異物的位置檢測(cè)是根據(jù)觀察系統(tǒng)450拍攝到的像素的圖像來(lái)進(jìn)行的，通過(guò)激光照射系統(tǒng)460進(jìn)行激光照射。另外，可以將激光照射系統(tǒng)460移動(dòng)到缺陷像素的位置，也可以通過(guò)已知的光學(xué)手段來(lái)掃描光路。對(duì)缺陷修正設(shè)備的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。從光源417射出的投影光420通過(guò)準(zhǔn)直透鏡 416變成平行光，在經(jīng)過(guò)半透半反射鏡412、410后投影到主基板320上。來(lái)自基板的反射光由半透半反射鏡412導(dǎo)出，經(jīng)過(guò)成像透鏡415由攝像元件413對(duì)主基板320上的像素圖像進(jìn)行拍攝。圖像由圖像處理部414進(jìn)行處理，計(jì)算出異物的位置，將放置在掩模載物臺(tái)408 上的掩模407精密地移動(dòng)到異物的位置。通過(guò)光束擴(kuò)展器402把從激光振動(dòng)器400照射的激光401擴(kuò)展為規(guī)定的光束直徑，使用均化器403來(lái)確保在激光照射區(qū)域整個(gè)面上的激光強(qiáng)度的均勻性。使整形后的激光通過(guò)設(shè)置在掩模載物臺(tái)408上的掩模407，在進(jìn)一步通過(guò)成像透鏡409和物鏡411之后， 激光照射到在基板載物臺(tái)321上安放的主基板320上的修正部位。配置成像透鏡409和物鏡411，以使掩模407的像投影到主基板320上，按照成像透鏡409和物鏡411的焦距的倍率的大小，將掩模像投影到主基板320上。通過(guò)該光學(xué)結(jié)構(gòu)，能夠穿過(guò)掩模407的透光部分對(duì)縮小后的區(qū)域照射激光。照射的激光的波長(zhǎng)能夠從200 IlOOnm的范圍來(lái)選擇。雖然作為典型的波長(zhǎng)列舉了 266nm、532nm、1064nm等波長(zhǎng)，但可以與有機(jī)發(fā)光層的光吸收特性相匹配地來(lái)選擇。圖13是表示應(yīng)修正的像素與像素周邊的放大圖。一個(gè)像素由紅的子像素501R、綠的子像素501G、藍(lán)的子像素501B這3個(gè)子像素構(gòu)成，大小形狀有時(shí)相同有時(shí)不同。關(guān)于非點(diǎn)燈缺陷子像素內(nèi)的異物的檢測(cè)，能夠通過(guò)取得正常的子像素和缺陷子像素的差別圖像，提高異物的對(duì)比度。由此，能夠從IOOnm級(jí)別檢測(cè)亞微米級(jí)別的異物的位置。例如，通過(guò)取得缺陷像素500R和鄰接的相同顏色的正常像素501R的差別圖像，能夠在明了的圖像中檢測(cè)微小異物502，能夠檢測(cè)微小異物的像素內(nèi)位置。圖14A、圖14B表示使用光掩模修復(fù)像素內(nèi)的短路的例子。掩模407具有遮光部 601和在像平面中直徑比異物600大的環(huán)狀的開(kāi)口部602，按照異物檢測(cè)的位置信息將掩模 407移動(dòng)到異物130之上，通過(guò)激光照射，以包圍缺陷像素330內(nèi)的異物周邊的方式去除第 2電極膜104、阻擋膜103和有機(jī)發(fā)光膜120b，來(lái)消除短路狀態(tài)。通過(guò)照射將異物包含在內(nèi)的直徑的激光去除異物，能夠消除短路狀態(tài)，但異物130由于第2電極膜104、阻擋膜103和有機(jī)發(fā)光膜120b的光吸收特性以及物理性質(zhì)不同，去除異物所需的能量根據(jù)異物的種類和大小而不同。因此，去除性的裕度小，去除成功率降低，但是當(dāng)以包圍異物周邊的方式進(jìn)行激光照射時(shí)，始終去除相同性質(zhì)的物質(zhì)，所以去除性的裕度寬?？梢园言试S像素亮度降低的面積作為上限，足夠大于異物直徑地預(yù)先設(shè)定開(kāi)口部環(huán)狀的直徑。此外，如圖14B所示的光掩模407A所示，準(zhǔn)備多個(gè)環(huán)直徑不同的圖案，根據(jù)觀察系統(tǒng)450(參照?qǐng)D12)的異物信息，能夠與異物的大小相匹配地分開(kāi)使用，以便大于異物并且使去除面積最小。據(jù)此，能夠?qū)⑿迯?fù)像素的亮度降低限制為最小。作為以包圍異物的方式去除周邊的激光照射方法，這里所示的使用光掩模的方法處理時(shí)間短，修復(fù)合格率高，穩(wěn)定性良好。即，由于預(yù)先決定了光束生成條件，光掩模移動(dòng)時(shí)間幾乎不占用處理時(shí)間，所以能夠高速進(jìn)行處理。圖15表示缺陷修正處理前后的像素的狀況。對(duì)缺陷像素500R的異物502照射激光來(lái)消除短路狀態(tài)，在恢復(fù)了點(diǎn)燈的像素510R中激光照射部520成為非發(fā)光部。如果該部分的面積比剩余的發(fā)光部小，那么在使整個(gè)面板點(diǎn)燈時(shí)人的眼睛幾乎不能識(shí)別出。因?yàn)檎Ｏ袼?01R與恢復(fù)了點(diǎn)燈的像素510R的亮度比與發(fā)光部面積成比例，所以可以根據(jù)設(shè)計(jì)者的非發(fā)光允許率來(lái)規(guī)定非發(fā)光部，即掩模407的環(huán)狀的開(kāi)口部602的直徑。例如，如果在 200umx80um的發(fā)光面積中非發(fā)光允許率為5%，那么最大能夠允許16um的直徑。在有機(jī)EL 膜形成工序中成為問(wèn)題的異物直徑從IOOnm級(jí)別到數(shù)微米級(jí)別，所以即使考慮了對(duì)位偏差等精度也能夠大裕度地進(jìn)行激光加工。此外，當(dāng)在像素內(nèi)存在應(yīng)該去除的多個(gè)缺陷候補(bǔ)時(shí)，在非發(fā)光允許面積的范圍內(nèi)， 能夠修正多個(gè)缺陷。在以上的實(shí)施例中，說(shuō)明了在圖1所示的工序中在主基板的狀態(tài)下檢測(cè)缺陷并修正的例子，但是也可以根據(jù)有機(jī)EL顯示器面板的結(jié)構(gòu)，如圖1所示，以面板為單位來(lái)執(zhí)行。實(shí)施例2圖16表示本發(fā)明實(shí)施方式的使用了點(diǎn)燈檢查修正裝置時(shí)的有源型有機(jī)EL面板的制造工序的例子。與在圖1所示的現(xiàn)有工序中，點(diǎn)燈檢查工序以面板為單位進(jìn)行處理相比， 因?yàn)槟軌蛞詻](méi)有進(jìn)行密封工序的主基板為單位進(jìn)行點(diǎn)燈檢查工序，所以容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化， 此外，不管面板的密封結(jié)構(gòu)如何，都能夠取入可以修正像素缺陷的修正工序，所以能夠提高在大型面板中需要的樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)的面板的合格率。圖17表示本發(fā)明實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的例子。這里，說(shuō)明通過(guò)真空成膜方式進(jìn)行有機(jī)EL膜形成工序的例子。有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)10由以下構(gòu)成使用真空成膜設(shè)備的有機(jī)EL膜形成設(shè)備組20、以主基板為單位的像素的點(diǎn)燈檢查修正
18設(shè)備組30、密封設(shè)備組40構(gòu)成。整個(gè)有機(jī)EL膜形成設(shè)備組20的一部分已經(jīng)記載，通過(guò)在上游進(jìn)一步具有所需數(shù)量的成膜設(shè)備的組來(lái)連接。在上游的組中進(jìn)行了有機(jī)膜成膜的基板45經(jīng)由交接設(shè)備50，在真空傳遞室51中通過(guò)傳遞機(jī)器人90交接到有機(jī)EL膜形成設(shè)備 701、702、703、第2電極膜形成設(shè)備704、705、以及阻擋膜形成設(shè)備706來(lái)進(jìn)行成膜。根據(jù)成膜設(shè)備的能力增減真空傳遞室的數(shù)量。點(diǎn)燈檢查修正設(shè)備組30與組20之間交接基板，并且通過(guò)交接設(shè)備60連接，該交接設(shè)備60具有置換真空和非活性干燥氣體環(huán)境的功能。從上游送來(lái)的基板45，在非活性干燥氣體的環(huán)境下，在傳遞室52中由傳遞機(jī)器人90按照工序順序交接到各設(shè)備。首先，用點(diǎn)燈檢查設(shè)備710檢查缺陷像素，之后送到缺陷修正設(shè)備712、713、714、715。缺陷修正設(shè)備在這里記載為4臺(tái)，但能夠根據(jù)設(shè)備的能力來(lái)進(jìn)行增減。在修正缺陷后，在以確?？煽啃缘哪康倪M(jìn)一步形成阻擋膜時(shí)，可以返回組20用阻擋膜形成設(shè)備706來(lái)形成膜，也可以在點(diǎn)燈檢查修正設(shè)備組30中附加阻擋膜形成設(shè)備來(lái)形成膜。修正結(jié)束的基板在點(diǎn)燈檢查設(shè)備 711中確認(rèn)了修正結(jié)果之后，經(jīng)由交接設(shè)備70送到密封設(shè)備組40，在非活性干燥氣體環(huán)境下，用0DF(0ne Drop Fill 滴下式注入法)等密封設(shè)備721進(jìn)行氣密密封。完成的基板經(jīng)由交接設(shè)備80被輸送到到后面的工序中。如上所述，由于全部的工序能夠以主基板為單位進(jìn)行處理，所以容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化并且生產(chǎn)率高。實(shí)施例3為了確保有機(jī)EL面板的發(fā)光壽命，在本發(fā)明實(shí)施方式的檢查修正設(shè)備內(nèi)，通過(guò)干燥氮?dú)獾确腔钚愿稍餁怏w在露點(diǎn)-70°C以下進(jìn)行管理，為了容易地進(jìn)行露點(diǎn)管理和節(jié)省非活性干燥氣體，期望將檢查修正設(shè)備內(nèi)的空間降低到最小限度。由于本實(shí)施方式的檢查修正設(shè)備是應(yīng)用了光學(xué)的設(shè)備，所以使用以玻璃板作為窗口的框體結(jié)構(gòu)，通過(guò)將檢測(cè)系統(tǒng)和激光照射系統(tǒng)配置在玻璃板外，可以較大地降低非活性干燥氣體的空間。圖18表示降低充滿非活性干燥氣體的空間801的點(diǎn)燈檢查裝置的例子。點(diǎn)燈檢查裝置806的載物臺(tái)805、主基板320以及探針802與傳遞室804相連接，處于具備玻璃窗 800的結(jié)構(gòu)體803中，線性傳感器3M在玻璃窗之外，在點(diǎn)燈基板上進(jìn)行掃描，對(duì)點(diǎn)燈圖像進(jìn)行拍攝。圖19是表示降低充滿非活性干燥氣體的空間811的修正裝置的例子的圖。激光修正裝置815載物臺(tái)812、主基板320與傳遞室816相連接，位于具備玻璃窗810的結(jié)構(gòu)體 813中，檢測(cè)系統(tǒng)與激光照射系統(tǒng)820在玻璃窗之外，修正主基板上缺陷像素的異物。根據(jù)以上設(shè)備結(jié)構(gòu)，能夠較大地降低非活性干燥氣體充滿的空間。實(shí)施例4在本發(fā)明的實(shí)施方式中使用通過(guò)激光修正裝置的照明系統(tǒng)拍攝的圖像，評(píng)價(jià)下層 TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案之間的圖案偏差，將該圖案偏差作為偏置值反饋給有機(jī)EL膜成膜設(shè)備的像素圖案位置對(duì)位。圖20關(guān)于下層TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案的偏差說(shuō)明了一例。在背板形成工序中作成柵極線901和數(shù)據(jù)線902，在真空蒸鍍工序中形成有機(jī)發(fā)光層910(920)。分別把數(shù)據(jù)線902和柵極線901的圖案端面作為χ方向、y方向的基準(zhǔn)，預(yù)先計(jì)算出與正常的有機(jī)發(fā)光層圖案910的端面的距離Xl和yl。關(guān)于相互遠(yuǎn)離的多個(gè)像素，測(cè)定從拍攝到的有機(jī)發(fā)光層圖案920的基準(zhǔn)線開(kāi)始的位置x2和y2，計(jì)算出偏差量Δχ、Δγ。通過(guò)將該值作為偏置值反饋給有機(jī)發(fā)光層成膜工序中的遮光板的位置對(duì)位，能夠抑制有機(jī)發(fā)光層圖案的偏差。由于有機(jī)EL膜成膜工序與測(cè)量偏差的檢查修正工序是連續(xù)的工序，所以能夠及時(shí)反饋測(cè)定結(jié)果，能夠抑制像素偏差不良的生成。在上述實(shí)施方式中通常水平保持基板來(lái)進(jìn)行處理，但是為了降低設(shè)備占用面積， 也可以垂直保持基板。產(chǎn)業(yè)上的利用可能性如上所述，根據(jù)本發(fā)明，對(duì)于形成了有機(jī)EL元件和配線的主基板上的有機(jī)EL面板，通過(guò)經(jīng)由專用配線向各面板的像素進(jìn)行供電，能夠進(jìn)行點(diǎn)燈檢查，通過(guò)非點(diǎn)燈像素的檢測(cè)以及用激光去除該像素內(nèi)的缺陷部位，能夠進(jìn)行修復(fù)，所以即使最終面板形式是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)也能夠修復(fù)像素缺陷。此外，能夠提供檢查修正的處理時(shí)間短，缺陷修正的成功率高，因?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)率提高的檢查修正設(shè)備以及系統(tǒng)，能夠有助于預(yù)測(cè)今后將普及的大型有機(jī)EL顯示器的合格率和生產(chǎn)率的提高。此外，如上所述，在本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備中，由于能夠檢查出微小的缺陷，所以能夠提供像素修復(fù)的成功率高、自動(dòng)化容易且生產(chǎn)率高的有機(jī)EL顯示器面板的修正設(shè)備，能夠有助于預(yù)測(cè)今后將普及的大型有機(jī)EL顯示器面板的合格率和生產(chǎn)率的提高。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備，其特征在于，具有點(diǎn)燈單元，向具有使有機(jī)EL元件的各像素點(diǎn)燈的點(diǎn)燈檢查用專用配線以及專用電極極板的主基板的所述專用電極極板供電，使所述各像素點(diǎn)燈；以及缺陷像素檢測(cè)單元，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中的未點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備，其特征在于， 所述專用電極極板設(shè)在所述主基板的至少一邊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備，其特征在于，所述主基板具有至少一個(gè)面板，所述點(diǎn)燈單元能夠至少以面板為單位向所述各像素一起供電。
4.一種有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，具有 權(quán)利要求1所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備；以及缺陷修正設(shè)備，其具備光學(xué)檢查所述缺陷像素的異物的位置的異物位置檢查單元和對(duì)所述檢測(cè)出的異物的位置照射激光，修正所述缺陷像素的缺陷修正單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，所述異物位置檢查單元是捕捉缺陷像素的圖像，與正常像素的圖像進(jìn)行比較，來(lái)檢測(cè)像素內(nèi)的缺陷及其位置的單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，具有阻擋膜形成設(shè)備，重新形成在修正所述缺陷像素時(shí)一同被去除的阻擋膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，具有判定單元，在修正所述缺陷像素后至少向所述缺陷像素供電，判定像素是否點(diǎn)燈。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，具有低濕度環(huán)境維持單元，將所述點(diǎn)燈檢查設(shè)備、所述缺陷修正設(shè)備控制為低濕度環(huán)境。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于， 所述低濕度環(huán)境維持單元是去除水分的水分去除單元或維持為非活性干燥氣體環(huán)境的單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，所述缺陷修正設(shè)備將所述主基板安放在低濕度環(huán)境中，使所述激光經(jīng)由透明窗照射所述異物。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，所述缺陷像素檢測(cè)單元是通過(guò)圖像捕捉向所述像素供電后點(diǎn)燈的狀態(tài)，處理所述圖像來(lái)檢測(cè)所述缺陷像素的單元，所述點(diǎn)燈檢查設(shè)備具備判定單元，其根據(jù)所述圖像，以所述面板為單位來(lái)檢查線缺陷、 不均勻、像素內(nèi)彩色邊紋中的至少一種不良，進(jìn)行良品不良品的判定，所述缺陷修正設(shè)備選出僅具有所述缺陷像素的不良的所述面板，修正所述缺陷像素。
12.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置，其特征在于，所述缺陷像素檢測(cè)單元是通過(guò)圖像捕捉所述點(diǎn)燈的狀態(tài)，處理所述圖像檢測(cè)所述缺陷像素的單元，所述主基板具有至少一個(gè)面板，所述缺陷修正設(shè)備，在所述面板內(nèi)的所述缺陷像素在規(guī)定的個(gè)數(shù)以內(nèi)時(shí)，修正所述面板的所述缺陷像素。
13.一種有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查方法，其特征在于，具有點(diǎn)燈步驟，向具有使有機(jī)EL元件的各像素點(diǎn)燈的點(diǎn)燈檢查用專用配線以及專用電極極板的主基板的所述專用電極極板供電，使所述各像素點(diǎn)燈；以及缺陷像素檢測(cè)步驟，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中的未點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查方法，其特征在于，所述主基板具有至少一個(gè)面板，所述點(diǎn)燈步驟能夠至少以面板為單位向所述像素一起{共 ο
15.一種有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正方法，其特征在于，除了權(quán)利要求13所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查方法具有的步驟之外，還具有光學(xué)檢測(cè)所述缺陷像素的異物的位置的異物位置檢測(cè)步驟；以及對(duì)所述檢測(cè)出的異物的位置照射激光，修正所述缺陷像素的缺陷修正步驟。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正方法，其特征在于， 所述異物位置檢測(cè)步驟是捕捉缺陷像素的圖像，與正常像素的圖像進(jìn)行比較，檢測(cè)像素內(nèi)的缺陷及其位置的步驟。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正方法，其特征在于，具有阻擋膜形成步驟，重新形成在修正所述缺陷像素時(shí)一同被去除的阻擋膜。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正方法，其特征在于，具有判定步驟，在修正所述缺陷像素后至少向所述缺陷像素供電，判定所述缺陷像素是否點(diǎn)大丁 ο
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正方法，其特征在于， 所述缺陷像素檢測(cè)步驟通過(guò)圖像捕捉向所述像素供電后點(diǎn)燈的狀態(tài)，所述點(diǎn)燈檢查方法具備判定步驟，根據(jù)所述圖像，以所述面板為單元檢查線缺陷、不均勻、像素內(nèi)彩色邊紋中的至少一種不良，進(jìn)行良品不良品的判定，所述缺陷修正步驟選出僅具有所述缺陷像素的不良的所述面板，修正所述缺陷像素。
20.一種有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，具有成膜組，具備在主基板上使有機(jī)EL元件形成材料成膜的有機(jī)EL膜形成設(shè)備； 點(diǎn)燈檢查修正組，其設(shè)置在所述成膜組的后級(jí)，具備使所述主基板的像素點(diǎn)燈來(lái)檢查點(diǎn)燈狀態(tài)檢測(cè)缺陷像素的點(diǎn)燈檢查設(shè)備、和根據(jù)所述點(diǎn)燈檢查設(shè)備的檢查結(jié)果，修正所述缺陷像素的缺陷修正設(shè)備；密封組，其設(shè)置在所述點(diǎn)燈檢查修正組的后級(jí)，具有用覆蓋玻璃對(duì)所述主基板的一面進(jìn)行密封的密封設(shè)備；第1交接設(shè)備，其設(shè)置在所述成膜組和所述點(diǎn)燈檢查修正組之間，進(jìn)行所述主基板的交接；第2交接設(shè)備，其設(shè)置在所述點(diǎn)燈檢查修正組和所述密封組之間，進(jìn)行所述主基板的交接；以及基板輸送設(shè)備，輸送所述主基板。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，所述點(diǎn)燈檢查修正組具有權(quán)利要求1至3的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，所述點(diǎn)燈檢查修正組具有權(quán)利要求4至12的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)EL顯示器基板的缺陷檢查修正裝置。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，設(shè)有全體低濕度環(huán)境維持單元，除了所述點(diǎn)燈檢查修正組之外，還將所述密封組、所述第1交接設(shè)備、所述第2 交接設(shè)備以及所述基板輸送設(shè)備控制為低濕度環(huán)境。
24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，具有評(píng)價(jià)主基板上的下層TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案之間的圖案偏差，將該圖案偏差作為偏置值反饋給所述有機(jī)EL膜形成設(shè)備的像素圖案位置對(duì)位的單元。
25.根據(jù)權(quán)利要求20所述的有機(jī)EL顯示器制造系統(tǒng)，其特征在于，所述點(diǎn)燈檢查修正組具有控制為低濕度環(huán)境的低濕度環(huán)境維持單元，所述第1交接設(shè)備具有從真空環(huán)境切換為低濕度環(huán)境的環(huán)境切換單元。
26.一種有機(jī)EL顯示器制造方法，其特征在于，具有成膜步驟，在主基板上使有機(jī)EL元件形成材料成膜；點(diǎn)燈步驟，向所述主基板的各像素供電使所述各像素點(diǎn)燈；缺陷像素檢測(cè)步驟，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中沒(méi)有點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置；缺陷修正步驟，檢測(cè)所述缺陷像素內(nèi)的異物并修正所述缺陷像素；以及密封步驟，在修正所述缺陷后將所述主基板的一面密封。
27.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的有機(jī)EL顯示器制造方法，其特征在于，經(jīng)由在所述主基板上設(shè)置的點(diǎn)燈檢查用專用配線以及專用電極極板來(lái)進(jìn)行所述供電。
28.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的有機(jī)EL顯示器制造方法，其特征在于，具有評(píng)價(jià)主基板上的下層TFT圖案和有機(jī)發(fā)光層圖案之間的圖案偏差，將該圖案偏差作為偏置值反饋給所述有機(jī)EL膜形成設(shè)備的像素圖案位置對(duì)位的步驟。
29.一種有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其對(duì)通過(guò)有機(jī)EL元件形成了像素的主基板上的所述像素的缺陷照射激光來(lái)修正該缺陷，其特征在于，具有激光照射系統(tǒng)，根據(jù)所述缺陷的位置信息和大小，經(jīng)由具有使所述激光透過(guò)的透光圖案的光掩模，對(duì)所述缺陷的位置進(jìn)行照射。
30.根據(jù)權(quán)利要求四所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，具有觀察系統(tǒng)，將非點(diǎn)燈不良像素的圖像與正常像素的圖像進(jìn)行比較，檢測(cè)非點(diǎn)燈不良像素內(nèi)的所述缺陷的位置和大小。
31.根據(jù)權(quán)利要求四所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，所述透光圖案是包圍所述缺陷的周圍，能夠帶狀地去除所述缺陷的周圍的圖案。
32.根據(jù)權(quán)利要求四所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于， 所述透光圖案是直徑大于所述缺陷的透光圖案。
33.根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，具有具備多個(gè)大小不同的所述透光圖案的所述光掩模，并且具有與所述缺陷的大小相匹配地選擇所述透光圖案的選擇單元。
34.根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，具有多個(gè)改變了所述透光圖案的大小的所述光掩模，并具有與所述缺陷的大小相匹配地選擇所述光掩模的選擇單元。
35.根據(jù)權(quán)利要求四至32的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部具有保持所述主基板的載物臺(tái)和所述激光照射系統(tǒng)以及所述觀察系統(tǒng)，并具有控制單元，通過(guò)水分去除機(jī)構(gòu)或非活性干燥氣體將所述構(gòu)造體的內(nèi)部控制為低濕度。
36.根據(jù)權(quán)利要求四至32的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于，具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部安放保持所述主基板的載物臺(tái)，照射所述激光的激光振蕩器設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體外，經(jīng)由設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體上的透過(guò)窗照射所述激光。
37.根據(jù)權(quán)利要求30所述的有機(jī)EL顯示器面板修正設(shè)備，其特征在于， 具備結(jié)構(gòu)體，在該結(jié)構(gòu)體內(nèi)部安放保持所述主基板的載物臺(tái)，所述觀察系統(tǒng)設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體外，經(jīng)由設(shè)在所述結(jié)構(gòu)體上的透過(guò)窗檢測(cè)所述缺陷的位置和大小。
38.一種有機(jī)EL顯示器面板修正方法，對(duì)通過(guò)有機(jī)EL元件形成了像素的主基板上的所述像素的缺陷照射激光來(lái)修正該缺陷，其特征在于，根據(jù)所述缺陷的位置信息和大小，經(jīng)由具有使所述激光透過(guò)的透光圖案的光掩模照射所述缺陷的位置。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的有機(jī)EL顯示器面板修正方法，其特征在于，將非點(diǎn)燈不良像素的圖像與正常像素的圖像進(jìn)行比較，檢測(cè)非點(diǎn)燈不良像素內(nèi)的所述缺陷的位置和大小。
40.根據(jù)權(quán)利要求38所述的有機(jī)EL顯示器面板修正方法，其特征在于，所述透光圖案是包圍所述缺陷的周圍，能夠帶狀地去除所述缺陷的周圍的圖案。
41.根據(jù)權(quán)利要求38所述的有機(jī)EL顯示器面板修正方法，其特征在于， 所述透光圖案是直徑大于所述缺陷的透光圖案。
42.根據(jù)權(quán)利要求40或41所述的有機(jī)EL顯示器面板修正方法，其特征在于，所述光掩模具有多個(gè)改變了大小的所述透光圖案，與所述缺陷的大小相匹配地選擇所述透光圖案。
43.根據(jù)權(quán)利要求40或41所述的有機(jī)EL顯示器面板修正方法，其特征在于， 具有多個(gè)所述光掩模，所述光掩模具有各個(gè)大小不同的所述透光圖案，與所述缺陷的大小相匹配地選擇所述光掩模。
全文摘要
本發(fā)明提供一種有機(jī)EL顯示器基板的點(diǎn)燈檢查設(shè)備及其方法，即使最終的面板形式是樹(shù)脂密封結(jié)構(gòu)也能修復(fù)像素缺陷，缺陷修復(fù)后的像素的可靠性高，或檢查修正的處理時(shí)間短、或缺陷修正的成功率高，能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)化且生產(chǎn)率高。在本發(fā)明中，向具有使有機(jī)EL元件的各像素點(diǎn)燈的點(diǎn)燈檢查用專用配線以及專用電極極板的主基板的所述專用電極極板供電，使所述各像素點(diǎn)燈，根據(jù)所述點(diǎn)燈結(jié)果檢測(cè)所述各像素中未點(diǎn)燈的缺陷像素及其位置。并且，在密封前對(duì)所述缺陷像素的異物照射激光來(lái)修復(fù)缺陷時(shí)，根據(jù)所述缺陷的位置信息和大小，經(jīng)由具有使所述激光透過(guò)的透光圖案的光掩模照射所述缺陷的位置。
文檔編號(hào)H01L27/32GK102169094SQ20101061172
公開(kāi)日2011年8月31日 申請(qǐng)日期2010年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月22日
發(fā)明者吉武康裕, 松浦宏育, 片岡文雄 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高新技術(shù)