專利名稱：電極形成方法以及電極形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在基板上形成電極的方法以及裝置，涉及例如在太陽能電池基板等光電轉(zhuǎn)換元件用基板的光電轉(zhuǎn)換面上形成電極的方法以及裝置。
背景技術(shù)：
作為在基板上形成規(guī)定圖形的技術(shù)，有從噴嘴噴出含有圖形材料的涂敷液，以在基板上描繪圖形的方法。例如在日本特開2006-138911號(hào)公報(bào)中記載的技術(shù)中，從相對(duì)于基板向單方向移動(dòng)的噴嘴噴出含有光固化性樹脂的糊狀圖形形成材料，并將其涂敷在基板上，通過照射紫外線使樹脂固化，以在基板上形成圖形。并且，在該技術(shù)中，在使噴嘴相對(duì)于基板進(jìn)行掃描移動(dòng)時(shí)，通過定期改變掃描速度、噴出量、曝光量中的任何一項(xiàng)，以一定間隔形成圖形寬度不同的區(qū)域(節(jié)部)?？紤]將上述文獻(xiàn)所記載的技術(shù)應(yīng)用于例如太陽能電池等光電轉(zhuǎn)換元件的電極形成中。例如在日本特開2005-353851號(hào)公報(bào)記載的技術(shù)中，在太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換面上形成被稱作指狀電極的多根細(xì)電極和橫切這些細(xì)電極的被稱作匯流電極(bus electrode) 的寬電極。通過涂敷液的涂敷形成這種交差的電極圖形的情況下，由于在電極的交點(diǎn)上涂敷液在已有的電極上凸起，導(dǎo)致在電極上表面產(chǎn)生高低差。例如在太陽能電池的情況下，這會(huì)產(chǎn)生在后續(xù)工序中安裝在電極上表面的金屬電極箔的緊貼性降低從而降低設(shè)備的性能、耐久性的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述課題提出的，其目的在于提供一種在基板上形成電極的方法以及裝置中能減少在相互交叉的電極交點(diǎn)處產(chǎn)生的高低差的技術(shù)。本發(fā)明的電極形成方法的第一方式的特征在于，為達(dá)到上述目的，包括指狀電極形成工序，在基板的表面上形成沿第一方向延伸的線狀的指狀電極；涂敷工序，使噴出涂敷液的噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)，從而與上述指狀電極相交叉地在上述基板上涂敷上述涂敷液，其中，上述涂敷液含有電極材料；固化工序，在從向上述基板上涂敷了上述涂敷液開始經(jīng)過規(guī)定時(shí)間后，使上述涂敷液固化以形成匯流電極； 和時(shí)間設(shè)定工序，在執(zhí)行上述固化工序之前，基于涂敷在與上述指狀電極的交叉部上的上述涂敷液的平坦化時(shí)間來設(shè)定上述規(guī)定時(shí)間。在具有這種結(jié)構(gòu)的發(fā)明中，并不是在涂敷了用于形成匯流電極的涂敷液后立即使涂敷液固化，而是經(jīng)過根據(jù)涂敷液的平坦化時(shí)間而設(shè)定的時(shí)間之后使其固化。向形成有指狀電極的基板上剛涂敷了液涂敷時(shí)，涂敷到指狀電極上的涂敷液產(chǎn)生凸起，若直接固化會(huì)導(dǎo)致在電極圖形上殘留凹凸。沒有固化的涂敷液的液面由于其流動(dòng)性逐漸趨于平坦化(拉平)，在這里稱該過程所需的時(shí)間為“平坦化時(shí)間”。即，使用平坦化時(shí)間長的涂敷液時(shí)，涂敷時(shí)的形狀很難破壞，凸起的狀態(tài)持續(xù)較長時(shí)間，與此相對(duì)，使用平坦化時(shí)間短的涂敷液時(shí)，涂敷后凸起在較短時(shí)間內(nèi)變小。因此，通過與涂敷液的拉平速度相對(duì)應(yīng)地設(shè)置從涂敷到固化為止的時(shí)間，就可以減小指狀電極和匯流電極的交點(diǎn)處產(chǎn)生的凸起，可以形成高低差小的電極。另外，一般地指狀電極寬度較細(xì)且數(shù)量多，而匯流電極寬度更寬且數(shù)量少。在這里，如果先形成指狀電極，則由于電極的寬度較細(xì)，涂敷到指狀電極上的涂敷液不會(huì)長時(shí)間停留在電極上，凸起很快就會(huì)被消除。與此相反，如果形成匯流電極后再通過涂敷形成指狀電極，則消除涂敷到較寬的匯流電極上的涂敷液的凸起需要更長的時(shí)間，這段期間涂敷到基板上的匯流電極以外地方的涂敷液也會(huì)擴(kuò)散，很難得到縱橫比高的指狀電極。正如上述原因，優(yōu)選地，采用先形成細(xì)的指狀電極之后再形成寬度更寬的匯流電極這樣的順序。并且，本發(fā)明的電極形成方法的其他方式的特征在于，為達(dá)到上述目的，包括指狀電極形成工序，在基板的表面上形成沿第一方向延伸的線狀的指狀電極，涂敷工序，使噴出涂敷液的噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)，從而與上述指狀電極相交叉地在上述基板上涂敷上述涂敷液，其中，上述涂敷液含有電極材料，和固化工序，在從向上述基板上涂敷了上述涂敷液開始經(jīng)過規(guī)定時(shí)間后，使上述涂敷液固化以形成匯流電極；調(diào)整從涂敷了上述涂敷液開始到執(zhí)行上述固化工序?yàn)橹沟纳鲜鲆?guī)定時(shí)間，從而控制在上述指狀電極和上述匯流電極的交點(diǎn)處的電極的高度。在具有這種結(jié)構(gòu)的發(fā)明中，在形成有指狀電極的基板上，通過涂敷形成匯流電極。 這時(shí)，通過調(diào)整從涂敷了涂敷液開始到使其固化為止的時(shí)間，可以控制在和指狀電極的交點(diǎn)處的涂敷液的擴(kuò)散，并且和上述發(fā)明同樣地，可以形成指狀電極和匯流電極的交點(diǎn)處的凸起小且高低差小的電極。在這些發(fā)明中，例如也可以在形成有指狀電極的基板上涂敷涂敷液，并預(yù)先測(cè)定從涂敷了涂敷液開始到涂敷液的最大高度和指狀電極的高度之差變?yōu)橐?guī)定的容許高低差為止的時(shí)間，并將該時(shí)間作為上述規(guī)定時(shí)間。經(jīng)過如上設(shè)定的時(shí)間之后再對(duì)涂敷液執(zhí)行光照射，由此可以將形成的電極的高低差可靠地控制在容許范圍之內(nèi)。并且，例如也可以在涂敷工序中將含有光固化性材料的涂敷液涂敷到基板上，在固化工序中，對(duì)涂敷到基板上的涂敷液照射光。通過向含有電極材料以及光固化性材料的涂敷液照射光，可以利用光使涂敷液固化以形成電極。在這種情況下，也可以在固化工序中使照射光的光照射單元以與噴嘴的移動(dòng)速度相等或者大致相等的速度相對(duì)于基板向第二方向移動(dòng)。這樣，在匯流電極內(nèi)的各位置上從涂敷了涂敷液到光照射為止的時(shí)間大致恒定，可以抑制匯流電極的高度偏差。并且，也可以在指狀電極形成工序中從噴嘴噴出含有電極材料的涂敷液并涂敷到基板上，以形成指狀電極。雖然用任何方法形成指狀電極本發(fā)明都成立，但是使用如上所述的所謂噴嘴分配(Nozzle Dispense)方式的情況下，可以高效率地形成如指狀電極那樣的細(xì)微且大量的電極圖形。在這種情況下，只要從噴嘴噴出除了電極材料外還含有光固化性材料的涂敷液，并且在噴出后立即執(zhí)行光照射來使涂敷液固化，就可以形成電極的高度與寬度之比即電極的縱橫比大的指狀電極。本發(fā)明可以適當(dāng)?shù)厥褂糜诶缭谧鳛榛宓墓怆娹D(zhuǎn)換元件的光電轉(zhuǎn)換面上形成指狀電極以及匯流電極情況。在這種光電轉(zhuǎn)換元件中優(yōu)選盡可能不遮蔽入射光且電阻低的電極。正因?yàn)楸景l(fā)明的電極形成方法可以以適當(dāng)?shù)膶挾刃纬山孛娓叨雀叩碾姌O，所以適用于這種用途中。并且，本發(fā)明的電極形成裝置的特征在于，為達(dá)到上述目的，具有基板保持單元， 保持形成有沿第一方向延伸的線狀的指狀電極的基板；噴嘴，噴出含有電極材料和光固化性樹脂的涂敷液；移動(dòng)單元，使上述噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)；固化單元，使涂敷到上述基板上的上述涂敷液固化；和調(diào)整單元，調(diào)整從向上述基板涂敷了涂敷液開始到利用上述固化單元進(jìn)行固化為止的時(shí)間。在具有這種結(jié)構(gòu)的發(fā)明中，和上述電極形成方法的發(fā)明同樣地，在形成有指狀電極的基板上涂敷涂敷液而形成匯流電極時(shí)，可以通過調(diào)整單元來調(diào)整從涂敷了涂敷液開始到固化為止的時(shí)間。因此，可以控制與指狀電極的交點(diǎn)處的涂敷液的擴(kuò)散，并且和上述發(fā)明同樣地，可以形成指狀電極和匯流電極的交點(diǎn)處的凸起小且高低差小的電極。在這里，固化單元可以是例如向涂敷到基板上的涂敷液照射光的光照射單元。在這種結(jié)構(gòu)中，可以使用除了電極材料以外還含有光固化性材料的涂敷液，可以使用該涂敷液在基板上形成電極。在這種情況下，例如，移動(dòng)單元也可以使噴嘴和光照射單元相對(duì)于基板一體地移動(dòng)，調(diào)整單元調(diào)整噴嘴和光照射單元在第二方向上的距離。在這種結(jié)構(gòu)中，根據(jù)噴嘴和光照射單元之間的距離來控制涂敷液從噴嘴涂敷到基板后從光照射單元照射光為止的時(shí)間，可以控制與指狀電極的交點(diǎn)處的涂敷液的擴(kuò)散，以形成高低差小的電極。并且，例如，移動(dòng)單元能夠使光照射單元相對(duì)于基板移動(dòng)，調(diào)整單元控制移動(dòng)單元，使得噴嘴以及光照射單元分別相對(duì)于基板移動(dòng)，并且調(diào)整從噴嘴相對(duì)于基板移動(dòng)起光照射單元相對(duì)于基板移動(dòng)為止的時(shí)間。這樣也可以控制與指狀電極的交點(diǎn)處的涂敷液的擴(kuò)散，以形成高低差小的電極。根據(jù)本發(fā)明的電極形成方法以及電極形成裝置，調(diào)整從向形成有指狀電極的基板上涂敷含電極材料的涂敷液到使涂敷液固化為止的時(shí)間，由此可以形成指狀電極和匯流電極的交點(diǎn)處的凸起小且高低差小的電極。


圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明來制造的太陽能電池模塊的一例的圖。圖2A是表示本發(fā)明的電極形成順序的流程圖。圖2B是表示時(shí)間差設(shè)定處理的流程圖。圖3A、圖;3B以及圖3C是示意性地表示時(shí)間差設(shè)定處理的原理的圖。圖4是表示本發(fā)明的電極形成裝置的一個(gè)實(shí)施方式的圖。圖5A以及圖5B是更為詳細(xì)地表示噴嘴部的下表面結(jié)構(gòu)的放大圖。圖6A以及圖6B是示意性地表示指狀電極形成狀態(tài)的圖。圖7A以及圖7B是示意性地表示匯流電極形成狀態(tài)的圖。圖8A、圖8B、圖8C、圖8D、圖8E、圖8F以及圖8G是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第一方式的圖。圖9A、圖9B、圖9C、圖9D以及圖9E是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第二方式的圖。圖10A、圖10B、圖10C、圖IOD以及圖IOE是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第三方式的圖。
具體實(shí)施例方式圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明來制造的太陽能電池模塊的一例的圖。該太陽能電池模塊 M是在設(shè)有光電轉(zhuǎn)換層的基板W的上表面(光入射面)上設(shè)置指狀電極F和匯流電極B而形成的。指狀電極F為以如下方式形成的電極為了不遮蔽入射光而使其寬度較細(xì)，且為了做成低電阻而使其厚度較厚，并且多根電極以相互平行的方式形成。另一方面，以如下方式形成匯流電極B 為了以低損失向外部取出通過指狀電極F集中的電荷，使其寬度較寬， 并且以與各指狀電極F交叉的方式形成一根或者多根。由于后續(xù)工序以及設(shè)備性能上的原因，使指狀電極F和匯流電極B的高度相同。代表性的是，匯流電極B以及指狀電極F的寬度分別為2mm以及IOOym左右。并且，它們的高度都是20 μ m左右。下面對(duì)用于在基板W的表面形成上述結(jié)構(gòu)的電極的處理進(jìn)行詳細(xì)說明。上述的指狀電極F以及匯流電極B都通過如下方式形成利用噴嘴掃描法將含有電極材料(例如銀粉)以及光固化性樹脂的糊狀涂敷液涂敷在基板W上，并向該涂敷液照射如UV光那樣的光從而使其固化。具有代表性的涂敷液粘度為50 · S左右或該值以下。通過涂敷這種涂敷液來形成電極、布線的情況下，由于在它們的交點(diǎn)處涂敷液凸起，表面的平坦性有可能成為問題。即，對(duì)于已形成電極的基板，將從噴嘴噴出的涂敷液以與已設(shè)的電極交叉的方式涂敷的情況下，若涂敷到電極上的涂敷液直接固化，則會(huì)導(dǎo)致該部分電極與其他部分的電極間的高度不一致。另一方面，若不使涂敷液馬上固化而將其放置，則由于液體的平坦化(拉平)作用，涂敷液的液面高度差會(huì)逐漸消除。在本說明書中將此時(shí)所需時(shí)間稱為“平坦化時(shí)間”。基于平坦化時(shí)間的概念，控制從涂敷至獲得其效果為止的時(shí)間差，由此可以消除電極的凸起。圖2A是表示本發(fā)明的電極形成順序的流程圖。在后文中會(huì)詳細(xì)說明各處理步驟中的處理內(nèi)容，首先簡(jiǎn)單說明電極形成處理整體流程的概要。如圖2A所示，起初執(zhí)行時(shí)間差設(shè)定處理(步驟S101)。該處理用于設(shè)定從匯流電極用涂敷液涂敷到基板開始到照射光為止的時(shí)間差。設(shè)定好時(shí)間差后，接下來形成指狀電極F (步驟S102)。就指狀電極F而言，不間斷地執(zhí)行涂敷液的涂敷以及光的照射。對(duì)以上述方式形成有指狀電極F的基板W，以與多個(gè)指狀電極F的每一個(gè)交叉的方式涂敷匯流電極B用涂敷液(步驟S103)。然后，間隔時(shí)間差設(shè)定處理中設(shè)定好的時(shí)間差向涂敷液照射光以使其固化，從而形成匯流電極B(步驟S104)。 如此，在本發(fā)明的電極形成方法中，先形成指狀電極F后再形成匯流電極B。然后，在如此形成的匯流電極B上，例如通過軟釬焊的方式安裝用于向外部提取電流的銅條(ribbon)(步驟 S105)。參照?qǐng)D2B、圖3A、圖以及圖3C對(duì)時(shí)間差設(shè)定處理進(jìn)行說明。圖2B是表示時(shí)間差設(shè)定處理的流程圖。并且，圖3A、圖;3B以及圖3C是示意性地表示時(shí)間差設(shè)定處理原理的圖。在該處理中，首先準(zhǔn)備樣本用基板Ws，并在該樣本用基板Ws上形成指狀電極FF (步驟 S201)。優(yōu)選地，該指狀電極FF具有與太陽能電池模塊M中使用的指狀電極F相同的截面形狀(寬度以及高度)，而其數(shù)量可以較少。接下來，使噴出匯流電極用涂敷液的噴嘴N相對(duì)于基板Ws向方向Dn移動(dòng)，從而將涂敷液P以與事先形成的指狀電極FF交叉的方式涂敷到樣本基板Ws上(步驟S2(^)。此時(shí)，如圖3A所示，優(yōu)選的是涂敷液P的高度和指狀電極FF的高度Hf大致相等。這時(shí)，在與指狀電極FF的交點(diǎn)附近產(chǎn)生涂敷液P的凸起。根據(jù)本申請(qǐng)諸發(fā)明人的實(shí)驗(yàn)知道了如下事實(shí)該凸起部PP并不是產(chǎn)生在指狀電極FF的正上方，而是產(chǎn)生在噴嘴N 的移動(dòng)方向Dn上的指狀電極FF的下游側(cè)的與該指狀電極FF鄰接位置。即，有如下趨勢(shì) 噴嘴N剛通過指狀電極FF的正上方之后，涂敷液P的凸起變得最大。接下來，測(cè)定該凸起部PP的高度即涂敷液的最大高度Hm隨時(shí)間的變化(步驟 S203)。由上述實(shí)驗(yàn)事實(shí)可知，就最大高度Hm而言，優(yōu)選在噴嘴N的移動(dòng)方向Dn上指狀電極FF的下游側(cè)的鄰接位置進(jìn)行測(cè)定。因?yàn)橥蛊鸩縋P中含有的涂敷液逐漸向周圍流動(dòng)而變得均勻，所以如圖3B所示，最大高度Hm以剛涂敷后的高度HmO為最大值，隨著時(shí)間的經(jīng)過逐漸減小。高度Hm隨時(shí)間T的變化可通過如下式近似表示Hm ^ HmO · exp (-T/ τ )。在這里，符號(hào)τ是對(duì)應(yīng)于凸起部PP的高度的變化速度的參數(shù)，換句話說是對(duì)應(yīng)于上述平坦化時(shí)間的參數(shù)。根據(jù)如此求得的凸起部PP的高度變化的測(cè)定結(jié)果，設(shè)定在形成匯流電極時(shí)從涂敷了涂敷液開始到照射光為止的時(shí)間差Ts (步驟S204)。如上所述，由于剛涂敷后在與指狀電極的交點(diǎn)附近產(chǎn)生涂敷液的凸起，所以，剛涂敷后照射光的情況下，涂敷液在凸起的狀態(tài)下直接固化，因此會(huì)在匯流電極上殘留凹凸。這成為使后面安裝的銅條對(duì)電極的緊貼性降低的原因。另一方面，雖然隨著時(shí)間的經(jīng)過凸起逐漸消除并最終達(dá)到大致平坦的狀態(tài)，但是若間隔時(shí)間過長，則涂敷液擴(kuò)散過度，導(dǎo)致匯流電極的高度不足，其結(jié)果指狀電極和匯流電極的高度還是不一致。因此，如圖3C所示，預(yù)先確定相對(duì)于電極高度所容許的高低差的最大值ΔΗ。然后，將凸起部PP的最大高度Hm變?yōu)橹笭铍姌O的高度Hf+容許高低差ΔΗ而得的值所需的時(shí)間設(shè)定為從涂敷了涂敷液到照射光為止的優(yōu)選的時(shí)間差Ts。即，只要從涂敷匯流電極用涂敷液起經(jīng)過時(shí)間Ts后照射光，就能夠?qū)⒅笭铍姌O和匯流電極的高低差控制在容許高低差 ΔΗ以下。就容許高低差ΔΗ而言，沒有必要嚴(yán)格設(shè)定為零，只要根據(jù)指狀電極的排列間距、 匯流電極的寬度、使用的銅條的厚度等適當(dāng)設(shè)定ΔΗ以使其達(dá)到能夠向匯流電極可靠地進(jìn)行銅條的軟釬焊的程度即可。在之后的電極形成中如下所述地使用如此設(shè)定的優(yōu)選時(shí)間差Ts。S卩，向形成有指狀電極F的基板W上涂敷匯流電極B用涂敷液后，在從涂敷了涂敷液起經(jīng)過時(shí)間Ts后，向涂敷液照射光。由此可以將指狀電極F和匯流電極B之間的高低差控制在容許高低差ΔΗ 以下。另外，沒有必要每次在基板上形成電極時(shí)設(shè)定該時(shí)間差Ts。如果基板以及涂敷液的種類、電極的尺寸等、使用的材料以及工藝相同，則該時(shí)間差大致相等，因此只要沒有這些不變就可以直接利用之前的設(shè)定結(jié)果。圖4是表示本發(fā)明的電極形成裝置的一個(gè)實(shí)施方式的圖。該電極形成裝置1用于例如在表面上形成有光電轉(zhuǎn)換層的單晶體硅晶圓等的基板W上形成具有導(dǎo)電性的電極布線，從而制造例如用作為太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換設(shè)備。該裝置1可以恰當(dāng)?shù)厥褂糜诶缭诠怆娹D(zhuǎn)換設(shè)備的光入射面上形成集電極的用途中。在該電極形成裝置1中，在基臺(tái)11上設(shè)有工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，用于保持基板W的工作臺(tái)3通過工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2可以在圖1的X-Y平面內(nèi)移動(dòng)。在基臺(tái)11上以橫跨工作臺(tái) 3的方式設(shè)有3組框架121、122、123，其中，在框架121和框架122上分別安裝有第一頭部 5和第二頭部7。第二頭部7相對(duì)于第一頭部5向(+X)方向隔離配置，并將第一頭部5和第二頭部7之間的間隔設(shè)定為比基板W在X方向上的長度長。工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2具有使工作臺(tái)3在X方向上移動(dòng)的X方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)21、使工作臺(tái)3在Y方向上移動(dòng)的Y方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)22以及使工作臺(tái)3以沿Z方向的軸為中心旋轉(zhuǎn)的 θ旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23。X方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)21的結(jié)構(gòu)為在馬達(dá)211上連接有滾珠絲杠212，而且，固定在Y方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)22的螺母213安裝在滾珠絲杠212上。在滾珠絲杠212的上方固定有導(dǎo)軌214。馬達(dá)211旋轉(zhuǎn)時(shí)，Y方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)22與螺母213 —起沿導(dǎo)軌214在X方向上滑動(dòng)。Y方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)22也具有馬達(dá)221、滾珠絲杠機(jī)構(gòu)以及導(dǎo)軌224，馬達(dá)221旋轉(zhuǎn)時(shí)， θ旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23通過滾珠絲杠機(jī)構(gòu)沿導(dǎo)軌2 在Y方向上移動(dòng)。θ旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23通過馬達(dá) 231使工作臺(tái)3以沿著Z方向的軸為中心旋轉(zhuǎn)。根據(jù)以上的結(jié)構(gòu)，可以變更第一以及第二頭部5、7相對(duì)于基板W的相對(duì)移動(dòng)方向以及朝向。工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2的各馬達(dá)是由控制部6 來控制的。而且，在θ旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23和工作臺(tái)3之間設(shè)有工作臺(tái)升降機(jī)構(gòu)Μ。工作臺(tái)升降機(jī)構(gòu)M根據(jù)來自控制部6的控制指令使工作臺(tái)3升降，使基板W定位在指定高度的位置上(Ζ 方向位置)。作為工作臺(tái)升降機(jī)構(gòu)對(duì)，可以使用基于電磁元件(solenoid)或壓電元件等促動(dòng)器(actuator)的機(jī)構(gòu)、基于齒輪的機(jī)構(gòu)、基于楔狀構(gòu)件的嚙合的機(jī)構(gòu)等。第一頭部5在底座51的下表面具有噴嘴部52，其在基板W上噴出液狀的涂敷液； 以及光照射部53，其向基板W照射UV光(紫外線)，并在噴嘴部52上安裝有供給管522。 供給管522經(jīng)由控制閥5M連接在蓄留含電極材料的涂敷液的箱525。從省略圖示的氮?dú)?(N2)供給源經(jīng)由調(diào)節(jié)器526向箱525導(dǎo)入氮?dú)?，并以一定的壓力?duì)箱525內(nèi)的涂敷液進(jìn)行加壓。通過利用控制部6控制控制閥524的開閉，控制來自噴嘴部52的涂敷液噴出的打開 (ON)以及關(guān)閉(OFF)。光照射部53經(jīng)由光纖531連接在產(chǎn)生紫外線的光源單元532上。雖然省略了圖示，但是光源單元532在其光出射部具有開閉自如的快門，通過其開閉以及開度就可以控制出射光的射出(ON)和截止(OFF)以及光量。光源單元532由控制部6來控制。同樣地，在第二頭部7上設(shè)有底座71、噴嘴部72，在噴嘴部72上連接有供給管 722、控制閥724、箱725、調(diào)節(jié)器726等。并且，在與安裝有第二頭部7的框架122鄰接設(shè)置的框架123中，在底座81上安裝有光照射部83。在光照射部83上連接有光纖831以及光源單元832。這些各結(jié)構(gòu)的功能與設(shè)置在第一頭部5周圍的各對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)的功能相同。框架123可以在X方向上自由滑動(dòng)，由此能改變噴嘴部72和光照射部83間的距離。圖5A以及圖5B是更為詳細(xì)地表示噴嘴部的下表面結(jié)構(gòu)的放大圖。更為詳細(xì)地， 圖5A是表示從下方觀察到的噴嘴部52前端附近的一部分的圖。并且，圖5B是表示從下方觀察到的噴嘴部72前端附近的圖。噴嘴部52的結(jié)構(gòu)如下其內(nèi)部為空洞，并且，如圖5A所示，在其下表面520上，在Y方向上等間隔地設(shè)置有多個(gè)與上述空洞相連通的噴出口 521。 從箱525經(jīng)由供給管522輸送的涂敷液從噴嘴的下表面520的噴出口 521向基板W噴出。涂敷到基板W上的涂敷液通過光照射固化從而形成指狀電極F。另一方面，如圖5B所示，在噴嘴部72的下表面720上設(shè)有一個(gè)沿Y方向延伸的寬的噴出口 721，從箱725經(jīng)由供給管722輸送的涂敷液從噴嘴下表面720的噴出口 721向基板W噴出。涂敷到基板W上的涂敷液通過光照射固化從而形成匯流電極B。根據(jù)匯流電極 B的數(shù)量，在第二頭部7上設(shè)置一個(gè)噴嘴部72或者在Y方向上并排設(shè)置多個(gè)噴嘴部72。在圖1的模塊M的例中，因?yàn)橛袃筛鶇R流電極B，所以設(shè)置兩個(gè)噴嘴部72。另外，也可以和指狀電極用的噴嘴部52同樣地將噴嘴部72做成在Y方向上細(xì)長的一體形狀，并設(shè)置與匯流電極的數(shù)量相對(duì)應(yīng)的數(shù)量的噴出口 721。在該電極形成裝置1中，預(yù)先在箱525、725內(nèi)填充制備好的含有指狀電極F以及匯流電極B的電極材料的涂敷液，并將其涂敷在形成有光電轉(zhuǎn)換層的基板W上，由此能夠制造太陽能電池模塊M。作為涂敷液，可以使用具有導(dǎo)電性以及光固化性并且含有例如導(dǎo)電性粒子、有機(jī)展色料(溶劑、樹脂、增稠劑等的混合物)以及光聚合引發(fā)劑的糊狀混合液。導(dǎo)電性粒子例如為作為電極材料的銀粉末，有機(jī)展色料含有作為樹脂材料的乙基纖維素和有機(jī)溶劑。并且，優(yōu)選地，涂敷液的粘度在執(zhí)行通過光照射的固化處理前為例如50 -S(帕秒)以下，在執(zhí)行固化處理后為350I^*S以上。填充在兩個(gè)箱525、725內(nèi)的涂敷液的組成可以相等，也可以準(zhǔn)備組成分別不同的涂敷液。圖6A以及圖6B是示意性地表示指狀電極形成狀態(tài)的圖。更為詳細(xì)地，圖6A是在 Y方向上觀察從噴嘴部52噴出涂敷液的狀態(tài)的圖，圖6B是從斜上方觀察該狀態(tài)的圖。在電極形成裝置1中，通過工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2使放置在工作臺(tái)3上的基板W在X方向上移動(dòng)的同時(shí)從噴嘴部52的噴出口 521噴出涂敷液。因此，噴出到基板W上的涂敷液Pl和基板W 一起在X方向上(圖中右方)移動(dòng)。即使固定基板W而移動(dòng)第一頭部5，在相對(duì)于基板W的掃描移動(dòng)這一點(diǎn)上是和上述的方法等效的。但是，考慮到在第一頭部5上連接有各種配管， 并且要抑制由噴嘴的振動(dòng)引起的噴出量的變化，所以優(yōu)選的是固定第一頭部5而移動(dòng)基板 I在基板移動(dòng)方向Ds上，在噴嘴部52的下游側(cè)設(shè)有光照射部53，對(duì)涂敷到基板W上的涂敷液Pl照射光Ll (例如紫外線)。在基板W上光Ll照射到的光照射位置上，由于涂敷液含有光固化性樹脂，所以受到光照射部53的光照射后開始固化。如此，通過向含有電極材料的涂敷液中添加光固化性樹脂，并且涂敷后立即向涂敷液照射光以使其固化，就能夠形成寬度窄、高度高且具有高縱橫比的指狀電極F。接下來，在形成匯流電極B之前變更基板W的朝向。在如上所述地形成指狀電極 F的狀態(tài)下，放置基板W的工作臺(tái)3位于第一頭部5和第二頭部7的中間位置。這時(shí)，通過 θ旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23使工作臺(tái)3圍繞Z軸旋轉(zhuǎn)90度。由此，指狀電極F的延伸設(shè)置方向從X方向變成Y方向。圖7Α以及圖7Β是示意性地表示匯流電極形成狀態(tài)的圖。圖7Α是在Y方向觀察從噴嘴部72噴出涂敷液的狀態(tài)的圖。工作臺(tái)3以及基板W的移動(dòng)方向Ds是和形成指狀電極時(shí)的方向相同的X方向。但是，由于基板W旋轉(zhuǎn)了 90度，指狀電極F的延伸設(shè)置方向變?yōu)閅方向，因此從噴嘴部72噴出的涂敷液Ρ2以與已形成的指狀電極F正交的方式涂敷到基板W上。因此，在和指狀電極F的交點(diǎn)附近產(chǎn)生涂敷液Ρ2的凸起。
只要將其靜置事先設(shè)定的時(shí)間Ts，則如圖7B所示，凸起因涂敷液P2的拉平效果而會(huì)減小至容許高低差以下。因此，在這時(shí)從光照射部83照射光L2，就可以使涂敷液P2固化，能夠減小固化后的匯流電極B和指狀電極F的高低差。如此，能夠制作如圖1所示的指狀電極F和匯流電極B相互交叉，并且在其交點(diǎn)處基本上沒有產(chǎn)生電極的高低差的太陽能電池模塊M。下面，對(duì)調(diào)整從涂敷匯流電極用涂敷液到照射光為止的時(shí)間的具體方法進(jìn)行說明。關(guān)于該時(shí)間調(diào)整有多種方法，下面對(duì)其中的幾個(gè)方法分別進(jìn)行說明。圖8A、圖8B、圖8C、圖8D、圖8E、圖8F以及圖8G是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第一方式的圖。在該方式中，鄰接配置(圖4的位置關(guān)系)噴嘴部72和光照射部83，使基板W 在其正下方掃描移動(dòng)兩次。在第一次移動(dòng)中只執(zhí)行涂敷液的涂敷，在第二次移動(dòng)中只執(zhí)行光照射。然后，根據(jù)兩次掃描移動(dòng)間的間隔(interval)來調(diào)整從涂敷到光照射為止的時(shí)間。具體的方式如下所述。如圖8A所示，將形成指狀電極F后的基板W配置在噴嘴部 72的上流側(cè)。然后，如圖8B所示，從噴嘴部72噴出涂敷液P2的同時(shí)使基板W向箭頭方向 Ds移動(dòng)，以在基板W上涂敷涂敷液P2。此時(shí)，不從光照射部83照射光。向基板W涂敷完涂敷液時(shí)，如圖8C所示使基板W向相反方向(-Ds方向)移動(dòng)，使其回到圖8D所示的位置。在該狀態(tài)下使基板暫時(shí)等待。就該等待時(shí)間而言，根據(jù)預(yù)先求好的優(yōu)選時(shí)間差Ts，由控制部6 來確定。然后，如圖8E所示，這次在停止從噴嘴部72噴出涂敷液的狀態(tài)下，只從光照射部 83照射光L2的同時(shí)使基板W向方向Ds移動(dòng)。如此對(duì)涂敷在基板W上的涂敷液P2整體完成光照射時(shí)，如圖8F所示，在基板W上形成已固化的匯流電極B。圖8G表示在上述動(dòng)作期間基板W上的1點(diǎn)的X方向位置隨時(shí)間的變化，符號(hào)A至 F分別對(duì)應(yīng)于圖8A至圖8F的狀態(tài)。通過調(diào)整符號(hào)D所表示的等待時(shí)間的長度，就可以將從涂敷了涂敷液到照射光為止的時(shí)間差設(shè)定為預(yù)先求好的優(yōu)選值Ts。并且，通過使涂敷時(shí)和光照射時(shí)的基板W的移動(dòng)速度相同，可以使在匯流電極B內(nèi)的各位置從涂敷到光照射為止的時(shí)間差恒定，因此可以使匯流電極B的高度恒定。特別地，通過使從涂敷開始時(shí)刻到光照射開始時(shí)刻為止的時(shí)間差為上述值Ts，就可以將匯流電極B和指狀電極F的高低差控制在容許高低差以內(nèi)。另外，也可以用對(duì)基板W回到原位置的速度進(jìn)行調(diào)整的方式來代替在停止?fàn)顟B(tài)下使基板W等待的方式。圖9A、圖9B、圖9C、圖9D以及圖9E是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第二方式的圖。在該方式中，以一定速度移動(dòng)基板W，并通過改變噴嘴部72和光照射部83之間的距離來調(diào)整時(shí)間差。即，通過使安裝有光照射部83的框架123在基臺(tái)11上在X方向上移動(dòng)，如圖9A 所示，將從噴嘴部72到光照射部83為止的距離Dl設(shè)定為和時(shí)間差Ts相對(duì)應(yīng)的值。然后，如圖9B所示，從噴嘴部72噴出涂敷液P2的同時(shí)，使基板W以一定速度Vs 向方向Ds移動(dòng)。如圖9C所示，涂敷完成之后也以相同的速度進(jìn)一步移動(dòng)基板W，如圖9D所示，使其繼續(xù)通過光照射部83的正下方，從而向涂敷液P2照射光L2。在基板W移動(dòng)到光照射部83的正下方之前，是否從光照射部83輸出光是任意的。圖9E表示在這期間基板W上的一點(diǎn)的X方向位置隨時(shí)間的變化，符號(hào)A至D分別對(duì)應(yīng)于圖9A至圖9D的狀態(tài)。如圖9E所示，在該狀態(tài)下根據(jù)噴嘴部72與光照射部83之間的距離Dl和基板W的移動(dòng)速度Vs來確定從涂敷到光照射為止的時(shí)間，通過適當(dāng)設(shè)置這些值能夠確保時(shí)間差Ts。圖10A、圖10B、圖10C、圖IOD以及圖IOE是示意性地表示時(shí)間調(diào)整的第三方式的圖。在該方式中，如圖IOA所示，使噴嘴部72和光照射部83之間的距離固定為相比基板W 在X方向上的長度長的值D2。然后，如圖IOB所示地從噴嘴部72涂敷涂敷液P2之后，如圖IOC所示地使基板W停止在噴嘴部72和光照射部83之間。然后，停止控制部6根據(jù)時(shí)間差Ts來確定的一定時(shí)間，然后，如圖IOD所示再次使基板W向方向Ds移動(dòng)并從光照射部 83向涂敷液P2照射光L2。圖IOE表示在這期間基板W上的一個(gè)點(diǎn)的X方向位置隨時(shí)間的變化，符號(hào)A至D 分別對(duì)應(yīng)于圖IOA至圖IOD的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，可以根據(jù)從涂敷完涂敷液到照射光為止的停止時(shí)間來調(diào)整時(shí)間差。如上所述，在該實(shí)施方式中，當(dāng)通過涂敷在太陽能電池基板W上形成指狀電極F以及匯流電極B時(shí)，首先形成線寬比較細(xì)的指狀電極F，其后形成線寬比較寬的匯流電極B。此時(shí)，就指狀電極F而言，通過涂敷涂敷液后立即照射光以確保高縱橫比。另一方面，就匯流電極B而言，通過調(diào)整從涂敷到光照射為止的時(shí)間差，能確保在與指狀電極的交點(diǎn)附近凸起的涂敷液向周圍擴(kuò)散從而凸起被消除為止的時(shí)間(平坦化時(shí)間)。這樣一來，通過控制從涂敷到固化為止的時(shí)間差，本發(fā)明的電極形成方法以及電極形成裝置中能夠形成相互交叉的電極，特別是減小交點(diǎn)處的高低差的電極。并且，通過使涂敷涂敷液時(shí)的基板移動(dòng)速度和照射光時(shí)的基板移動(dòng)速度相等，并且管理從涂敷開始時(shí)刻到光照射開始時(shí)刻為止的時(shí)間差，就能夠使匯流電極的高度大致恒定，并且能夠使其高度與指狀電極的高度大致一致。如上述說明，在該實(shí)施方式中，工作臺(tái)3發(fā)揮本發(fā)明的“基板保持單元”的功能，噴嘴部72發(fā)揮本發(fā)明的“噴嘴”的功能。并且，工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)2發(fā)揮本發(fā)明的“移動(dòng)單元” 的功能，光照射部83發(fā)揮本發(fā)明的“固化單元”以及“光照射單元”的功能。并且，在上述時(shí)間調(diào)整方法的第一以及第三方式中，控制部6發(fā)揮本發(fā)明的“調(diào)整單元”的功能，另一方面， 在第二方式中，框架123發(fā)揮本發(fā)明的“調(diào)整單元”的功能。另外，本發(fā)明不限定于上述的實(shí)施方式，可以在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)進(jìn)行上述方式以外的各種變更。例如，在上述實(shí)施方式中，通過涂敷液的涂敷以及光照射來形成指狀電極F，但是指狀電極的形成方法是任意的，不限定于從噴嘴涂敷涂敷液來形成電極的方法。并且，在指狀電極的形成中光照射不是必需的。并且，也可以將已形成指狀電極的基板搬入電極形成裝置中來只形成匯流電極。并且，例如，在上述實(shí)施方式中，通過光照射使匯流電極用涂敷液固化后軟釬焊銅條，但是該工序不是必需的。并且，也可以在光照射后增加電極燒成工序。該情況下，可以在形成指狀電極、匯流電極時(shí)分別執(zhí)行燒成工序，也可以在形成匯流電極后一并執(zhí)行燒成工序。 并且，在上述實(shí)施方式中，通過使光照射部83以和噴嘴部72相等的速度相對(duì)于基板W進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，使從涂敷了涂敷液到照射光為止的時(shí)間差在各位置上大致相同，但是不限定于上述方式。如圖3B所示，涂敷液的最大高度Hm的減小量隨著時(shí)間的經(jīng)過逐漸減少，因此特別是在使用粘度高且平坦化時(shí)間長的涂敷液的情況下，即使稍微遲點(diǎn)照射光也基本上不會(huì)產(chǎn)生影響。所以，也可以向基板上涂敷匯流電極用涂敷液后對(duì)該涂敷液整體一并照射光。在這種情況下，可以將從涂敷開始時(shí)刻到光照射開始時(shí)刻為止的時(shí)間差設(shè)定為值Ts，也可以將從涂敷結(jié)束時(shí)刻到光照射開始時(shí)刻為止的時(shí)間差設(shè)定為值Ts。并且，在上述實(shí)施方式中，通過預(yù)先在樣本基板上涂敷涂敷液，以實(shí)驗(yàn)的方法求得時(shí)間差Ts，但是也可以不通過實(shí)驗(yàn)而是根據(jù)涂敷液的物性值進(jìn)行計(jì)算來求出時(shí)間差Ts。并且，也可以將按照每種涂敷液預(yù)先求出的時(shí)間差Ts制成表格來保存，以便在選擇好涂敷液后從該表格中讀出并應(yīng)用優(yōu)選時(shí)間差Ts。并且，在上述實(shí)施方式中，預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)求出時(shí)間差Ts。但是，就從涂敷到光照射為止的時(shí)間差而言，只要在開始光照射之前確定即可。因此也可以例如如下設(shè)置。即，在電極形成裝置中設(shè)置用于檢測(cè)涂敷到基板上的涂敷液高度的高度檢測(cè)傳感器，也可以在高度檢測(cè)傳感器檢測(cè)到匯流電極用涂敷液在基板上達(dá)到規(guī)定的高度時(shí)開始光照射。在這里，就涂敷液的高度而言，由于之前說明的原因，優(yōu)選地，在噴嘴移動(dòng)方向上指狀電極的正上方位置的下游側(cè)位置進(jìn)行檢測(cè)，而不是在指狀電極的正上方位置進(jìn)行檢測(cè)，特別地，更優(yōu)選地在多個(gè)指狀電極中第一個(gè)與涂敷液交叉的指狀電極的下游側(cè)位置進(jìn)行檢測(cè)。并且，在上述實(shí)施方式中，在形成匯流電極時(shí)，通過將含有電極材料以及光固化性材料的涂敷液涂敷到基板的同時(shí)對(duì)涂敷液照射光，以使涂敷液固化，從而得到匯流電極。但是，作為固化涂敷液的方法，不限定于光照射。例如，作為加熱固化單元也可以使用例如輸出遠(yuǎn)紅外線的二氧化碳激光器，通過向涂敷到基板上的涂敷液照射遠(yuǎn)紅外線，使涂敷液加熱固化。并且，也可以通過鄰接配置加熱器或吹熱風(fēng)來使涂敷液加熱固化。并且，也可以通過對(duì)涂敷后的基板周圍環(huán)境進(jìn)行減壓來促進(jìn)涂敷液溶劑成分的揮發(fā)，或者向涂敷后的涂敷液供給酒精從而通過分散溶劑的置換使其固化。在這種情況下，涂敷液中沒有必要含有光固化性材料。并且，在涂敷匯流電極用涂敷液后一并進(jìn)行固化處理時(shí)，可以采用向匯流電極用涂敷液的整個(gè)涂敷區(qū)域一并照射遠(yuǎn)紅外線或者設(shè)置與整個(gè)涂敷區(qū)域?qū)χ玫募訜崞鞯绒k法。并且，在上述實(shí)施方式中，在硅基板上形成電極布線以制造作為太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換設(shè)備，但是基板不限定于硅。例如，在玻璃基板上形成的薄膜太陽能電池或者在除太陽能電池以外的設(shè)備上形成電極時(shí)，也可以適用本發(fā)明。本發(fā)明可以應(yīng)用于在基板上形成電極的方法以及裝置中，例如可以應(yīng)用于在太陽能電池基板上形成電極的方法以及裝置中，特別是適合應(yīng)用于形成相互交叉的指狀電極以及匯流電極的情況。
權(quán)利要求
1.一種電極形成方法，其特征在于，包括指狀電極形成工序，在基板的表面上形成沿第一方向延伸的線狀的指狀電極；涂敷工序，使噴出涂敷液的噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)，從而與上述指狀電極相交叉地在上述基板上涂敷上述涂敷液，其中，上述涂敷液含有電極材料；固化工序，在從向上述基板上涂敷了上述涂敷液開始經(jīng)過規(guī)定時(shí)間后，使上述涂敷液固化以形成匯流電極；和時(shí)間設(shè)定工序，在執(zhí)行上述固化工序之前，基于涂敷在與上述指狀電極的交叉部上的上述涂敷液的平坦化時(shí)間來設(shè)定上述規(guī)定時(shí)間。
2.一種電極形成方法，其特征在于，包括指狀電極形成工序，在基板的表面上形成沿第一方向延伸的線狀的指狀電極，涂敷工序，使噴出涂敷液的噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)，從而與上述指狀電極相交叉地在上述基板上涂敷上述涂敷液，其中，上述涂敷液含有電極材料，和固化工序，在從向上述基板上涂敷了上述涂敷液開始經(jīng)過規(guī)定時(shí)間后，使上述涂敷液固化以形成匯流電極；調(diào)整從涂敷了上述涂敷液開始到執(zhí)行上述固化工序?yàn)橹沟纳鲜鲆?guī)定時(shí)間，從而控制在上述指狀電極和上述匯流電極的交點(diǎn)處的電極的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極形成方法，其特征在于，在形成有上述指狀電極的上述基板上涂敷涂敷液，并預(yù)先測(cè)定從涂敷了涂敷液開始到上述涂敷液的最大高度和上述指狀電極的高度之差變?yōu)橐?guī)定的容許高低差為止的時(shí)間，并將該時(shí)間作為上述規(guī)定時(shí)間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極形成方法，其特征在于，在上述涂敷工序中，將含有光固化性材料的上述涂敷液涂敷到上述基板上，在上述固化工序中，對(duì)涂敷到上述基板上的上述涂敷液照射光。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電極形成方法，其特征在于，在上述固化工序中，使照射上述光的光照射單元以與上述噴嘴的移動(dòng)速度相等或者大致相等的速度相對(duì)于上述基板向上述第二方向移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極形成方法，其特征在于，在上述指狀電極形成工序中，從噴嘴噴出含有電極材料的涂敷液涂敷到基板上，從而形成上述指狀電極。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極形成方法，其特征在于，在作為上述基板的光電轉(zhuǎn)換元件的光電轉(zhuǎn)換面上形成上述指狀電極以及上述匯流電極。
8.一種電極形成裝置，其特征在于，具有基板保持單元，保持形成有沿第一方向延伸的線狀的指狀電極的基板；噴嘴，噴出含有電極材料的涂敷液；移動(dòng)單元，使上述噴嘴相對(duì)于上述基板向與上述第一方向不同的第二方向移動(dòng)；固化單元，使涂敷到上述基板上的上述涂敷液固化；和調(diào)整單元，調(diào)整從向上述基板涂敷了涂敷液開始到利用上述固化單元進(jìn)行固化為止的時(shí)間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電極形成裝置，其特征在于，上述固化單元是向涂敷到上述基板上的上述涂敷液照射光的光照射單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電極形成裝置，其特征在于，上述移動(dòng)單元使上述噴嘴和上述光照射單元相對(duì)于上述基板一體地移動(dòng)，上述調(diào)整單元調(diào)整上述噴嘴和上述光照射單元在上述第二方向上的距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電極形成裝置，其特征在于， 上述移動(dòng)單元能夠使上述光照射單元相對(duì)于上述基板移動(dòng)，上述調(diào)整單元控制上述移動(dòng)單元，使得上述噴嘴以及上述光照射單元分別相對(duì)于上述基板移動(dòng)，并且調(diào)整從上述噴嘴相對(duì)于上述基板移動(dòng)起上述光照射單元相對(duì)于上述基板移動(dòng)為止的時(shí)間。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在基板上形成電極的電極形成方法以及電極形成裝置，在該方法以及裝置中，減少相互交叉的電極的交點(diǎn)處的凹凸。在基板上形成多根指狀電極之后(步驟S102)，通過涂敷形成與之交叉的寬的匯流電極。向基板涂敷含有電極材料以及光固化性樹脂的涂敷液之后(步驟S 103)，經(jīng)過規(guī)定時(shí)間之后向涂敷液照射UV光從而使涂敷液固化(步驟S104)。就從涂敷到光照射為止的時(shí)間差Ts而言，根據(jù)預(yù)先以實(shí)驗(yàn)的方式涂敷的涂敷液的高度變化的測(cè)定結(jié)果來設(shè)定(步驟S101)。
文檔編號(hào)H01L31/18GK102194920SQ201010588989
公開日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月18日
發(fā)明者真田雅和 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社