專利名稱：用于斷路器的屏蔽裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種斷路器，更具體地說，涉及一種用于保護(hù)斷路器內(nèi)的元件的屏蔽直O(jiān)背景技術(shù)
包括塑殼斷路器在內(nèi)的斷路器具有至少一對可分離觸頭。第一觸頭，稱為“靜觸 頭”，固定在殼體內(nèi)。另一觸頭，“動觸頭”，設(shè)置在作為觸頭臂承載組件的一部分的動觸頭臂 上，該觸頭臂承載組件與操作機(jī)構(gòu)聯(lián)接。兩個(gè)觸頭均設(shè)置在導(dǎo)電元件上，導(dǎo)電元件與聯(lián)接至 斷路器的線路或者負(fù)載電連通。操作機(jī)構(gòu)構(gòu)造成使動觸頭在第一閉合位置與第二斷開位置 之間移動，在第一位置，固定觸頭和動觸頭接觸并電連接，在第二位置，動觸頭與固定觸頭 分離從而觸頭斷開電連接?？梢允謩踊蛘咄ㄟ^斷路器的斷開/脫扣機(jī)構(gòu)對操作機(jī)構(gòu)進(jìn)行操 作。當(dāng)斷路器具有多個(gè)極時(shí)，每個(gè)極都具有自己的一組可分離觸頭。
每組觸頭通常設(shè)置在單獨(dú)的觸頭室內(nèi)。殼體通常具有基部和主蓋，大多數(shù)部件設(shè) 置在該基部中。滅弧室構(gòu)造成消散在觸頭分離后所產(chǎn)生的電弧。也就是說，當(dāng)觸頭分離時(shí)， 可能形成電弧，特別是在過電流(over-current)的情況下。電弧在滅弧室中消散，但該電 弧仍然會產(chǎn)生氣體并可能產(chǎn)生熔融碎屑的噴濺。由于電弧氣體可能產(chǎn)生回吹/反吹并且熔 融碎屑可能噴濺到觸頭臂承載組件或操作機(jī)構(gòu)或兩者中，因此通常存在問題。電弧氣體通 常從排氣裝置排出。但是，可能具有腐蝕性的熔融碎屑和電弧氣體可能對觸頭臂承載組件 部件或操作機(jī)構(gòu)部件或二者產(chǎn)生影響，導(dǎo)致其損壞。因此，需要在產(chǎn)生電弧時(shí)保護(hù)斷路器內(nèi) 部的一些部件。發(fā)明內(nèi)容
具有改進(jìn)屏蔽裝置的改進(jìn)斷路器能夠在電弧發(fā)生期間為斷路器內(nèi)部的部件提供 保護(hù)。該斷路器的觸頭臂承載組件包括一定數(shù)量的彈簧，該一定數(shù)量的彈簧將設(shè)置在觸頭 臂上的一定數(shù)量的動觸頭偏壓成與靜觸頭接合并且電連接。本文所使用的表述“一定數(shù)量” 及其變形應(yīng)當(dāng)廣義地表示任何非零的數(shù)量，包括數(shù)量一。屏蔽裝置設(shè)置在觸頭臂承載組件 的承載殼上并位于彈簧附近。屏蔽裝置的屏蔽構(gòu)件被偏壓成與觸頭臂接合。當(dāng)斷路器在接 通(ON)位置與斷開(OFF)或脫扣(TRIPPED)位置之間運(yùn)動時(shí)，屏蔽裝置的屏蔽構(gòu)件在縮回 位置與展開/伸出位置之間運(yùn)動，在此期間該屏蔽構(gòu)件與觸頭臂保持接合并保護(hù)彈簧在產(chǎn) 生電弧期間不受損壞。在一個(gè)實(shí)施例中，屏蔽構(gòu)件由受到電弧沖擊時(shí)產(chǎn)生氣體的材料形成， 這樣的氣體有助于促使電弧進(jìn)入斷路器的熄弧溝內(nèi)。
因此，本發(fā)明的一個(gè)方面是提供一種改進(jìn)的斷路器，在產(chǎn)生電弧時(shí)該斷路器保護(hù) 其內(nèi)部的一些部件。
本發(fā)明的另一方面是提供一種具有改進(jìn)的屏蔽裝置的改進(jìn)的斷路器，該屏蔽裝置 設(shè)置在斷路器的觸頭臂承載組件上并隨之在接通狀態(tài)/位置與斷開位置或脫扣位置或斷 開位置及脫扣位置二者之間運(yùn)動。
本發(fā)明的另一方面是提供一種改進(jìn)的斷路器，其具有形成在觸頭臂承載組件上的 插孔并具有屏蔽構(gòu)件，該屏蔽構(gòu)件可活動地設(shè)置在插孔中并被偏壓成與觸頭臂承載組件的 一定數(shù)量的觸頭臂相接合。
本發(fā)明的另一方面是提供一種改進(jìn)的用于斷路器中的屏蔽裝置，其中該屏蔽裝置 包括屏蔽構(gòu)件，該屏蔽構(gòu)件設(shè)置在斷路器內(nèi)的一些部件附近并在產(chǎn)生電弧的情況下產(chǎn)生氣 體以保護(hù)部件不受損害。


結(jié)合附圖閱讀以下對優(yōu)選實(shí)施例的描述，可全面理解本發(fā)明，其中
圖1是根據(jù)本發(fā)明的改進(jìn)的斷路器的示意圖2是處于接通狀態(tài)的圖1的斷路器的剖視圖3是類似于圖2的視圖，不同之處僅在于斷路器處于斷開或脫扣位置；
圖4是圖1的斷路器的觸頭臂承載組件的一部分的透視圖；以及
圖5是圖4的觸頭臂承載組件的一部分的分解視圖。
說明書全文中相同的附圖標(biāo)記表示相同的構(gòu)件。
附圖標(biāo)記列表
10斷路器
14靜觸頭組件
18動觸頭組件
22操作機(jī)構(gòu)
26脫扣單元
30屏蔽裝置
34殼體
38基部
42靜觸頭
46動觸頭
50觸頭臂
54觸頭臂彈簧
58承載殼
62屏蔽構(gòu)件
66屏蔽彈簧
70插孔
74引導(dǎo)部
78滅弧室具體實(shí)施方式
圖1以示意圖形式示出了改進(jìn)的斷路器10，其在圖2-5中部分地示出。斷路器10 是可與電路的線路和負(fù)載連接并構(gòu)造成在某些預(yù)定情形下中斷該電路的電氣開關(guān)裝置。
斷路器10包括靜觸頭組件14、動觸頭組件18、操作機(jī)構(gòu)22和脫扣單元沈，它們都設(shè)置在斷路器10的殼體34上。殼體34包括基部38和蓋(在此未明確示出)。動觸頭組 件18為觸頭臂承載組件形式并可相對于靜觸頭組件14在接通(ON)操作狀態(tài)、斷開(OFF) 操作狀態(tài)和脫扣(TRIPPED)操作狀態(tài)之間運(yùn)動。在此所示的斷路器10的典型實(shí)施例中，斷 開操作狀態(tài)與脫扣操作狀態(tài)實(shí)質(zhì)上相同。
動觸頭組件18和操作機(jī)構(gòu)22在操作上連接在一起。操作機(jī)構(gòu)22構(gòu)造成在接通、 斷開和脫扣操作狀態(tài)之間操作動觸頭組件18。脫扣單元沈與操作機(jī)構(gòu)22在操作上相連 接并用于啟動該操作機(jī)構(gòu)以致使斷路器10在過電流情形及其它情形下從接通操作狀態(tài)運(yùn) 動至斷開或脫扣操作狀態(tài)。脫扣單元26可包括電流互感器或其它結(jié)構(gòu)，其以本技術(shù)領(lǐng)域中 公知的方式操作以在靜觸頭組件14的一定數(shù)量的靜觸頭42和動觸頭組件18的一定數(shù)量 的動觸頭46電連接在一起(例如處于斷路器10的接通操作狀態(tài))時(shí)檢測流經(jīng)這些靜觸頭 42和動觸頭46的電流。斷路器10在圖1和2中被示出為處于接通操作狀態(tài)，在圖3中被 示出為處于斷開或脫扣操作狀態(tài)。
動觸頭組件18包括承載殼58。動觸頭組件18還包括多個(gè)觸頭臂50、多個(gè)觸頭 臂彈簧M和屏蔽裝置30，它們都設(shè)置在承載殼58上。觸頭臂50的一端與承載殼58相連 接。動觸頭46之一靠近各觸頭臂的自由端設(shè)置在該觸頭臂上，該自由端和該觸頭臂與承載 殼58的連接部位相對。盡管在此沒有明確示出，但各動觸頭46都與分流器(shunt)電連 接，該分流器又與斷路器10的負(fù)載端子連接。
觸頭臂彈簧M設(shè)置在承載殼58上，并且在斷路器10的接通操作狀態(tài)下這些觸頭 臂彈簧M將觸頭臂50朝靜觸頭42偏壓，從而將動觸頭46有效地偏壓成與靜觸頭42接合 并電連接。盡管在此所示的實(shí)施例中，多個(gè)動觸頭46中的每一個(gè)都接合單個(gè)、即共用的靜 觸頭42，但可以理解的是可以采用其它構(gòu)型而不會脫離本發(fā)明的構(gòu)思。
從圖5可以看出，屏蔽裝置30包括屏蔽構(gòu)件62和一定數(shù)量的屏蔽彈簧66。在此 所示的典型實(shí)施例中，屏蔽裝置30中所采用的屏蔽彈簧66的數(shù)量為2個(gè)，但應(yīng)當(dāng)注意，在 其它實(shí)施方式中也可以采用不同數(shù)量和構(gòu)型的結(jié)構(gòu)來偏壓該屏蔽構(gòu)件62而不會脫離本發(fā) 明的構(gòu)思。還應(yīng)當(dāng)注意，在一些實(shí)施方式中不使用屏蔽彈簧66也可能達(dá)到在此提及的相同 的技術(shù)效果。
所示實(shí)施例中的屏蔽構(gòu)件62為板狀的平行六面體實(shí)心結(jié)構(gòu)，其構(gòu)造成用作屏障 以抵擋電弧發(fā)生期間電弧氣體(arc gas)和熔融材料對斷路器10的觸頭臂彈簧M和其它 結(jié)構(gòu)的沖擊。屏蔽構(gòu)件62可由在受到電弧沖擊時(shí)產(chǎn)生氣體的材料形成。這樣的材料對本 領(lǐng)域技術(shù)人員來說是公知的。此外，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，屏蔽構(gòu)件62也可由在 出現(xiàn)電弧時(shí)不產(chǎn)生氣體的材料形成。
由圖2和圖3可以理解，承載殼58具有形成在其中的插孔70。屏蔽裝置30至少 部分地設(shè)置在插孔70中。屏蔽裝置30可在縮回位置與展開位置之間運(yùn)動，當(dāng)動觸頭組件 18處于其接通操作狀態(tài)時(shí)，屏蔽裝置30位于縮回位置，如圖2中大致所示，當(dāng)動觸頭組件 18處于斷開或脫扣位置時(shí)，屏蔽裝置30位于展開位置，如圖3中大致所示。由圖2和圖3 可以理解，屏蔽構(gòu)件62在圖2的接通操作狀態(tài)和圖3的斷開及脫扣操作狀態(tài)下與觸頭臂50 接合，并且在這些操作位置之間運(yùn)動的過程中基本上總是保持這樣的接合。在展開位置，屏 蔽構(gòu)件62的至少一部分保持被置于插孔70中，但可以注意到在縮回位置屏蔽構(gòu)件62的相 對更多的部分被接納在插孔70中。由圖4和5可以理解，屏蔽構(gòu)件62可滑動地接納在一對引導(dǎo)部74中，該對引導(dǎo)部74形成在承載殼58中并與插孔70對準(zhǔn)。
由圖2和圖3還可以看出，屏蔽構(gòu)件62在斷路器10的所有操作狀態(tài)下都位于觸 頭臂彈簧M附近。另外，屏蔽構(gòu)件設(shè)置在觸頭臂彈簧M與殼體34的滅弧室78之間。在 斷路器10的接通操作狀態(tài)下，屏蔽構(gòu)件62接合并橫跨動觸頭組件18的所有觸頭臂50。每 個(gè)極的動觸頭組件18均包括多個(gè)觸頭臂50及相應(yīng)的觸頭臂彈簧M?？梢宰⒁獾?，在此所 示的典型實(shí)施例中，動觸頭組件18包括十一個(gè)觸頭臂50和十一個(gè)相應(yīng)的觸頭臂彈簧M， 但是應(yīng)注意，在其它的實(shí)施方式中，也可以采用不同的數(shù)量而不會脫離本發(fā)明的構(gòu)思。在斷 路器10的接通操作狀態(tài)下，每個(gè)觸頭臂50由相應(yīng)的一個(gè)觸頭臂彈簧M偏壓向靜觸頭42。 因此觸頭臂彈簧M用作偏壓元件，當(dāng)斷路器10處于接通操作狀態(tài)時(shí)，該偏壓元件將動觸頭 46有效地偏壓成與靜觸頭42接合并電連接。
由圖2和圖3還可以理解，動觸頭46設(shè)置在觸頭臂50的下側(cè)/底面(從圖2和 圖3的視角看)。屏蔽構(gòu)件62和觸頭臂彈簧M各自在觸頭臂50的上側(cè)/頂面(也從圖2 和圖3的視角看)與該觸頭臂50接合，該上側(cè)位于觸頭臂50的與設(shè)置有動觸頭46的表面 相對的表面上。
在某些情形(例如過電流情形)下，脫扣單元沈啟動操作機(jī)構(gòu)22以使斷路器10 從圖2的接通操作狀態(tài)運(yùn)動至圖3的斷開或脫扣操作狀態(tài)。在這樣的情況下，在分開之時(shí) 可能在靜觸頭42與一個(gè)或多個(gè)動觸頭46之間產(chǎn)生電弧(在此未明確示出)。該電弧將向 左(從圖2和圖3的視角看)運(yùn)動到滅弧室78中，在該滅弧室中電弧最終熄滅。然而，在 電弧完全熄滅之前，電弧可能產(chǎn)生電弧氣體和/或熔融材料的等離子體，如果其沉積在斷 路器10內(nèi)的某些元件上，可能引起對這些元件的損害。因此，有利的是，提供屏蔽裝置30 以阻擋電弧氣體、熔融材料等從滅弧室78流向觸頭臂彈簧M。關(guān)于這一點(diǎn)，應(yīng)注意到在展 開狀態(tài)下屏蔽構(gòu)件62至少部分地設(shè)置在插孔70中，該屏蔽構(gòu)件62被接納在引導(dǎo)部74中 并接合觸頭臂50的上側(cè)(從圖2和圖3的視角看)。屏蔽構(gòu)件62在插孔70和引導(dǎo)部74 中這樣的接納以及屏蔽構(gòu)件62與觸頭臂50的接合用于提供屏障以阻擋電弧氣體和熔融材 料從滅弧室78繞過屏蔽構(gòu)件62流向觸頭臂彈簧M，從而在產(chǎn)生電弧的情況下保護(hù)觸頭臂 彈簧M不受損害。可以理解通過這種方式可以對斷路器內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)進(jìn)行保護(hù)。
應(yīng)注意，在屏蔽構(gòu)件62在接通操作狀態(tài)與斷開或脫扣操作狀態(tài)之間運(yùn)動的過程 中，該屏蔽構(gòu)件62與觸頭臂50持續(xù)地接合能夠保護(hù)觸頭臂彈簧M在動觸頭組件18在這 些操作狀態(tài)之間運(yùn)動期間始終不受電弧氣體和熔融碎屑的影響，在產(chǎn)生電弧的情況下這保 護(hù)了觸頭臂彈簧M免受損害。屏蔽構(gòu)件62與觸頭臂50的這種持續(xù)接合由屏蔽彈簧66實(shí) 現(xiàn)，屏蔽彈簧66為偏壓構(gòu)件，該偏壓構(gòu)件在從承載殼58朝觸頭臂50的方向上偏壓屏蔽構(gòu) 件62。還可看出，屏蔽彈簧66將屏蔽構(gòu)件62朝展開位置偏壓。
因此可以看出，在產(chǎn)生電弧的情況下有利的屏蔽裝置30和有利的斷路器10保護(hù) 觸頭臂彈簧M不因電弧氣體和熔融碎屑而受損。如果在出現(xiàn)電弧時(shí)屏蔽構(gòu)件62產(chǎn)生氣體， 則這些氣體傾向于將電弧氣體以及熔融材料推向滅弧室78以使其熄滅/消滅，從而進(jìn)一步 保護(hù)觸頭臂彈簧M。
盡管對本發(fā)明的特定實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)描述，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，根 據(jù)本發(fā)明的總體教導(dǎo)可以對細(xì)節(jié)展開各種變型和替換。因此，所公開的特定布置僅僅是示 例性的，而不是對本發(fā)明范圍的限定，本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求及其任意和全部等效方式的全部范圍確定。
權(quán)利要求
1.一種用于電氣開關(guān)裝置(10)的屏蔽裝置(30)，所述電氣開關(guān)裝置包括靜觸頭組件 (14)和動觸頭組件(18)，所述靜觸頭組件包括一定數(shù)量的靜觸頭(42)，所述動觸頭組件包 括一定數(shù)量的動觸頭(46)、一定數(shù)量的觸頭臂(50)、一定數(shù)量的偏壓元件(54)、以及承載 殼(58)，所述一定數(shù)量的動觸頭設(shè)置在所述一定數(shù)量的觸頭臂上，所述一定數(shù)量的觸頭臂 設(shè)置在所述承載殼上，所述動觸頭組件可在第一操作狀態(tài)和第二操作狀態(tài)之間運(yùn)動，在所 述第一操作狀態(tài)下所述一定數(shù)量的靜觸頭和所述一定數(shù)量的動觸頭電連接，在所述第二操 作狀態(tài)下所述一定數(shù)量的靜觸頭和所述一定數(shù)量的動觸頭斷開電連接，在所述第一操作狀 態(tài)下所述一定數(shù)量的偏壓元件將所述一定數(shù)量的觸頭臂背離殼體并朝向所述一定數(shù)量的 靜觸頭偏壓，所述屏蔽裝置包括屏蔽構(gòu)件(62)，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成保護(hù)所述一定數(shù)量的偏壓元件不因電弧的產(chǎn)生而 受損。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述一定數(shù)量的偏壓元件在所述承 載殼和所述一定數(shù)量的觸頭臂之間延伸，并且所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成設(shè)置在所述承載殼上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成相對于所述承 載殼是可動的。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成在所述承載殼 和所述一定數(shù)量的觸頭臂之間延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述承載殼具有形成在其中的插孔 (70)，所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分構(gòu)造成被接納在所述插孔中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成可在縮回位置 與展開位置之間運(yùn)動，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成當(dāng)所述動觸頭組件處于第一操作狀態(tài)時(shí)所述屏 蔽構(gòu)件位于所述縮回位置，當(dāng)所述動觸頭組件處于第二操作狀態(tài)時(shí)所述屏蔽構(gòu)件位于所述 展開位置，并且所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分構(gòu)造成在所述縮回位置和所述展開位置均被接 納在所述插孔中。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述承載殼包括與所述插孔對準(zhǔn)的 一定數(shù)量的引導(dǎo)部(74)，所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分構(gòu)造成可動地設(shè)置在所述一定數(shù)量的 引導(dǎo)部中。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽裝置還包括一定數(shù)量的偏 壓構(gòu)件(66)，所述一定數(shù)量的偏壓構(gòu)件構(gòu)造成將所述屏蔽構(gòu)件偏壓成接合所述一定數(shù)量的 觸頭臂。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成在所述動觸頭 組件在所述第一操作狀態(tài)和所述第二操作狀態(tài)之間運(yùn)動期間所述屏蔽構(gòu)件與所述一定數(shù) 量的觸頭臂保持接合。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件由構(gòu)造成在出現(xiàn)電弧 的情況下產(chǎn)生氣體的材料形成。
11.一種電氣開關(guān)裝置(10)，包括:殼體(34)；靜觸頭組件(14)，所述靜觸頭組件設(shè)置在所述殼體上并包括一定數(shù)量的靜觸頭02)；動觸頭組件(18)，所述動觸頭組件設(shè)置在所述殼體上并包括一定數(shù)量的動觸頭(46)、一定數(shù)量的觸頭臂(50)、一定數(shù)量的偏壓元件(M)、以及承載殼(58)；所述一定數(shù)量的動觸頭設(shè)置在所述一定數(shù)量的觸頭臂上；所述一定數(shù)量的觸頭臂設(shè)置在所述承載殼上；所述動觸頭組件可在第一操作狀態(tài)和第二操作狀態(tài)之間運(yùn)動，在所述第一操作狀態(tài)下 所述一定數(shù)量的靜觸頭和所述一定數(shù)量的動觸頭電連接，在所述第二操作狀態(tài)下所述一定 數(shù)量的靜觸頭和所述一定數(shù)量的動觸頭斷開電連接；在所述第一操作狀態(tài)下所述一定數(shù)量的偏壓元件將所述一定數(shù)量的觸頭臂背離所述 殼體并朝向所述一定數(shù)量的靜觸頭偏壓；以及屏蔽裝置(30)，所述屏蔽裝置包括屏蔽構(gòu)件(62)，所述屏蔽構(gòu)件構(gòu)造成保護(hù)所述一定 數(shù)量的偏壓元件不因電弧的產(chǎn)生而受損。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件設(shè)置在所述承 載殼上，所述一定數(shù)量的偏壓元件在所述承載殼和所述一定數(shù)量的觸頭臂之間延伸。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件相對于所述承 載殼是可動的。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件在所述承載殼 和所述一定數(shù)量的觸頭臂之間延伸。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述承載殼具有形成在其中 的插孔(70)，所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分被接納在所述插孔中。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件可在縮回位置 與展開位置之間運(yùn)動，當(dāng)所述動觸頭組件處于所述第一操作狀態(tài)時(shí)所述屏蔽構(gòu)件位于所述 縮回位置，當(dāng)所述動觸頭組件處于所述第二操作狀態(tài)時(shí)所述屏蔽構(gòu)件位于所述展開位置， 并且所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分在所述縮回位置和所述展開位置均被接納在所述插孔中。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述承載殼包括與所述插孔 對準(zhǔn)的一定數(shù)量的引導(dǎo)部(74)，所述屏蔽構(gòu)件的至少一部分可動地設(shè)置在所述一定數(shù)量的 引導(dǎo)部中。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽裝置還包括一定數(shù) 量的偏壓構(gòu)件(66)，所述一定數(shù)量的偏壓構(gòu)件將所述屏蔽構(gòu)件偏壓成接合所述一定數(shù)量的 觸頭臂。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，在所述動觸頭組件在所述第 一操作狀態(tài)和所述第二操作狀態(tài)之間運(yùn)動期間，所述屏蔽構(gòu)件與所述一定數(shù)量的觸頭臂保持接合。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電氣開關(guān)裝置，其特征在于，所述屏蔽構(gòu)件由構(gòu)造成在出 現(xiàn)電弧的情況下產(chǎn)生氣體的材料形成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有改進(jìn)屏蔽裝置(30)的改進(jìn)斷路器(10)，該斷路器在電弧發(fā)生期間為斷路器內(nèi)的部件提供保護(hù)。該斷路器的觸頭臂承載組件(18)包括一定數(shù)量的彈簧(54)，其將設(shè)置在觸頭臂(50)上的一定數(shù)量的動觸頭(46)偏壓成與靜觸頭(42)接合并電連接。屏蔽裝置設(shè)置在觸頭臂承載組件的承載殼(58)上并位于彈簧附近。屏蔽裝置的屏蔽構(gòu)件(62)被偏壓成接合觸頭臂。當(dāng)斷路器在接通位置和斷開或脫扣位置之間運(yùn)動時(shí)，屏蔽裝置的屏蔽構(gòu)件在縮回位置和展開位置之間運(yùn)動，在此期間屏蔽構(gòu)件與觸頭臂保持接合并且在產(chǎn)生電弧的情況下保護(hù)彈簧不受損害。在一個(gè)實(shí)施例中，屏蔽構(gòu)件由受到電弧沖擊時(shí)產(chǎn)生氣體的材料形成。
文檔編號H01H1/64GK102034617SQ201010537299
公開日2011年4月27日 申請日期2010年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月28日
發(fā)明者B·J·沙爾滕布蘭德, C·A·羅杰斯, J·M·斯米爾澤, M·A·亞努塞克, P·R·吉布森 申請人:伊頓公司