專利名稱：一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于有機(jī)電致發(fā)光顯示技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制 備方法。
背景技術(shù)：
當(dāng)今，隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展和信息社會(huì)的來(lái)臨對(duì)平板顯示器性能的要求越來(lái)越 高。近年新出現(xiàn)的三種顯示技術(shù)等離子顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器和有機(jī)電致發(fā)光顯示器，均 在一定程度上彌補(bǔ)了陰極射線管和液晶顯示器的不足。其中，有機(jī)電致發(fā)光顯示器OLED (Organic Light Emitting Display)，具有自主 發(fā)光、低電壓直流驅(qū)動(dòng)、全固化、寬視角、顏色豐富等一系列的優(yōu)點(diǎn)，與液晶顯示器相比，有 機(jī)電致發(fā)光顯示器不需要背光源，視角大，功率低，其響應(yīng)速度可達(dá)液晶顯示器的1000倍， 其制造成本卻低于同等分辨率的液晶顯示器，因此，有機(jī)電致發(fā)光顯示器具有廣闊的應(yīng)用 前景。1987 年，美國(guó) Kodak 公司的 C. ff. Tang 等人(C. ff. Tang, S. A. Vanslyke, Appl. Phys. Lett. ,1987,51,913)選擇具有較好成膜性能的三苯胺類衍生物和Alq3分別作為空穴傳輸 層和發(fā)光層兼電子傳輸層，制備得到高量子效率(1% )、高發(fā)光效率(> 1. 51m/ff)、高亮度 (> 1000cd/m2)和低驅(qū)動(dòng)電壓(< 10V)的有機(jī)電致發(fā)光器件(以下簡(jiǎn)稱0LED)。這一突破 性進(jìn)展為有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)展注入了新的動(dòng)力，有機(jī)電致發(fā)光技術(shù)顯示出了它潛在的 實(shí)用價(jià)值。1989 年，C. W. Tang 等人(C. ff. Tang, S. A. Vanslyke, J. Appl. Phys, 1989，65，913) 在發(fā)光層中摻雜熒光染料來(lái)提高OLED的效率，由于熒光染料的摻雜濃度較低，它能夠直接 俘獲載流子，同時(shí)能防止高摻雜濃度時(shí)熒光染料自吸收導(dǎo)致的淬滅。這種摻雜熒光染料器 件的結(jié)構(gòu)一般為雙異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)，它們具有獨(dú)立的空穴傳輸層和電子傳輸層，電子-空穴能 夠在發(fā)光層中進(jìn)行有效復(fù)合，使器件的效率達(dá)到有機(jī)電致熒光器件的理論極限(內(nèi)量子效 率25%，外量子效率5% )。由于0LED將電流轉(zhuǎn)化為光，當(dāng)元件覆蓋一個(gè)大的表面積時(shí)，這兩個(gè)電極必須可以 傳導(dǎo)大量的電流，典型的電流密度為50mA/cm2。但是，在光透明度的要求和較低薄膜電阻 的要求與連接電極的較大的層厚度的要求之間確實(shí)存在矛盾?？梢岳斫鉃椋粋€(gè)比較厚的 (金屬或?qū)щ姷难趸?電極同時(shí)具有較低的薄膜電阻和較低的透光率。到目前為止，0LED雖說(shuō)發(fā)展的較成熟，但是在實(shí)際的應(yīng)用中還有好多令人不滿意 的地方。例如，如何提高0LED的亮度，壽命，穩(wěn)定性等性能，人們還在不停的探索中，通過(guò)發(fā) 明新的材料，摻雜，及設(shè)計(jì)各種的機(jī)構(gòu)和使用特殊的工藝，0LED得到了快速的發(fā)展。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制備方法，有效 改善有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命，發(fā)光效率，減少光電源損耗。本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)
一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，包括陰極玻璃基板，絕緣柱呈矩形陣列分布在陰極 玻璃基板上，絕緣柱的之間分布有排列成陰極圖形的IT0/金屬層，IT0/金屬層上涂覆有機(jī) 層，并且有機(jī)層的高度超過(guò)絕緣柱的高度，有機(jī)層上涂覆W03層和IT0導(dǎo)電層，IT0導(dǎo)電層上 封蓋刻蝕有陽(yáng)極圖形的陽(yáng)極玻璃蓋板，陰極玻璃基板與陽(yáng)極玻璃蓋板對(duì)位貼合，并通過(guò)紫 外固化膠固化。所述的IT0/金屬層為IT0導(dǎo)電層上依次濺射沉積8 lOnm的金屬Ni層和180 200nm的金屬A1層。所述的有機(jī)層從陰極到陽(yáng)極依次為8 lOnm的CH3COOCs層、15 20nm的TPBI 層、15 20nm的RGB發(fā)光層、15 20nm的TCTA層、55 60nm的NPB層、25 30nm的CuPc 層和55 60nm NPB層；有機(jī)層上涂覆的W03層厚度為8 lOnm，W03層上涂覆的ITO導(dǎo)電層厚度為18 20nmo所述的色素發(fā)光層為紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層或藍(lán)色發(fā)光層；所述的紅色發(fā)光層 為TPBI :Ir(ppy)層，Ir(ppy)的摻雜量為TPBI質(zhì)量的11 12% ；所述的綠色發(fā)光層為 TPBI :(FIrpic)層，F(xiàn)Irpic的摻雜量為TPBI質(zhì)量的28 30%；所述的藍(lán)色發(fā)光層為TCTA Ir (MPQ) 2 (acac)層，Ir (MPQ) 2 (acac)的摻雜量為 TCTA 質(zhì)量的 18 20%。所述的絕緣柱的材料是聚甲基丙烯酸己脂、聚乙烯醇、聚酞氨胺或環(huán)氧樹脂。所述的絕緣柱的截面從陰極玻璃板開始到ITO/金屬層部分為柱形，ITO/金屬層 以上的部分為正梯形。所述的陽(yáng)極玻璃蓋板的折射率為1. 65 1. 75，玻璃外表面為不規(guī)則的磨砂面。一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，包括以下步驟1)將干凈的ITO玻璃基板作為陰極玻璃基板，在其上依次濺射金屬Ni層和金屬 A1層，然后850 900°C激光退火35 40s ；2)在濺射有Ni/Al層的陰極ITO玻璃基板上涂布負(fù)性光刻膠，140 150°C預(yù)烘 烤3 3. 5min,曝光40 50s，然后用Na2C03進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在150 160°C后烘烤 4 5min ；用體積比為HC1 HN03 H202 = 5 5 2的刻蝕液對(duì)ITO/Ni/Al層進(jìn)行刻蝕， 刻蝕出陰極圖形；3)在步驟2)得到的具有ITO/Ni/Al金屬圖案的陰極玻璃板上旋涂400 450nm 厚的正性光刻膠，在150 170°C烘烤4 5min，曝光60 70s，用Na2C03進(jìn)行顯影，清洗， 吹干；在160 180°C再次烘烤5 6min，固化，得到絕緣柱；4)在遮擋掩膜板的遮擋掩膜下，在ITO/Ni/Al層上進(jìn)行有機(jī)層的蒸鍍有機(jī)層從下 到上依次為8 lOnm的CH3C00Cs層、15 20nm的TPBI層、15 20nm的R/G/B色素發(fā)光 層、15 20nm 的 TCTA 層、55 60nm 的 NPB 層、25 30nm 的 CuPc 層和 55 60nmNPB 層；在NPB層上再真空蒸鍍8 lOnm的W03層，在W03層上真空蒸鍍18 20nm的IT0 導(dǎo)電層；5)以折射率為1. 65 1. 75的干凈的IT0玻璃基板作為陽(yáng)極封裝蓋板，在陽(yáng)極封 裝蓋板上涂布負(fù)性光刻膠，在140 150°C進(jìn)行預(yù)烘烤3 3. 5min,曝光40 50s ；并用 Na2C03進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在150 160°C烘烤4 5min ；再對(duì)該玻璃基板進(jìn)行IT0刻蝕， 用體積比為HC1 HN03 H202 = 5 5 2的刻蝕液刻出陽(yáng)極圖形；
6)在陰極玻璃基板顯示區(qū)四周的密封區(qū)上涂覆紫外固化膠，在真空下與陽(yáng)極玻璃 蓋板進(jìn)行對(duì)位貼合；7)真空下對(duì)位貼合后，在50°C 70°C、0. 8 IMPa壓合10 20min ；然后在紫外 燈照射下固化紫外固化膠，使得陰極IT0玻璃基板與陽(yáng)極封裝蓋板密封粘合。所述的負(fù)性光刻膠為聚合肉桂酸系或橡膠系的光刻膠。所述的正性光刻膠為聚甲基丙烯酸己脂、聚乙烯醇、聚酞氨胺或環(huán)氧樹脂；絕緣柱 成矩形陣列分布，絕緣柱的截面從陰極玻璃板開始到ITO/Ni/Al部分為柱形，位于ITO/Ni/ A1層刻蝕的陰極圖形的之間，ITO/Ni/Al層以上的部分為正梯形，等間距置于陰極圖形間 隙之上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益的技術(shù)效果本發(fā)明提供的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，通過(guò)濺射退火的方法，得到最 佳的接觸電極，降低了接觸電阻，同時(shí)降低了驅(qū)動(dòng)電壓，提高了陰極電子的注入能力；同時(shí) 采用NPB與CuPc多層結(jié)構(gòu)形成的量子阱結(jié)構(gòu)，阻止了空穴大量注入的能力，平衡電子與空 穴的注入速率，使器件具有更高的復(fù)合效率，提高其發(fā)光效率；利用高折射率玻璃，同時(shí)采 用玻璃的磨砂面，減小了光在有機(jī)層內(nèi)的反射，提高了光從有機(jī)層的輸出效率，也減小了環(huán) 境光的反射，提高了顯示的效果；由于采用真空壓合的工藝，各有機(jī)層之間也得到了很好的 結(jié)合，使電子和空穴在有機(jī)層之間具有更好的傳輸效果；而且在陰極導(dǎo)電層采用M/A1，具 有很高的反射光效率(> 90% )，最后達(dá)到提高顯示器件的顯示效果。


圖1為濺射有Ni/Al金屬層的陰極IT0玻璃基板示意圖；圖2為刻有陰極條形圖案的陰極玻璃基板示意圖；圖3為刻有陰極圖案的陰極玻璃基板的橫截面圖示意圖；圖4為涂有絕緣柱的陰極板橫截面示意圖；圖5為蒸鍍有機(jī)色素層RGB的過(guò)程示意圖；圖6為蒸鍍色素層RGB及IT0后的陰極板部分截面圖示意圖；圖7為刻有陽(yáng)極條形圖案的陽(yáng)極玻璃基板示意圖；圖8為封裝后的彩色有機(jī)電致發(fā)光顯示面板截面圖示意圖。圖中100、陰極玻璃基板；101、陰極IT0層；102、金屬Ni層；103、金屬A1層；104、 絕緣柱；105、CHCOOCs層；106、TPBI層；107有機(jī)色素層，包括紅色色素層107R、綠色色素 層 107G 和藍(lán)色色素層 107B ； 108、TCTA 層；109、NPB 層；110、CuPc 層；111、NPB 層；112、W03 層；113、IT0層；114、密封區(qū)域；115引線；200、陽(yáng)極玻璃基板；201、陽(yáng)極IT0層。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明，所述是對(duì)本發(fā)明的解釋而不 是限定。參見(jiàn)圖1 圖8，一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，包括以下步驟1)將一塊干凈的IT0玻璃基板作為陰極玻璃基板，在02/Ar (02/Ar的體積比為3 6 1，氧流量為40sCCm，本底氣壓為2.0Pa，射頻功率為10W)等離子體中處理5分鐘，然后在陰極玻璃基板100的陰極IT0層101上，依次濺射金屬8 lOnm的Ni層102和180 200nm金屬A1層103，然后850 900°C激光退火35 40s ；該步驟能得到最佳的金屬接觸電極，提高導(dǎo)電性能，降低其接觸電阻，且A1的反 光性強(qiáng)，可以使光幾乎全部從一面射出。本發(fā)明也可以采用其他透明導(dǎo)電薄膜如IZ0的玻
璃/塑料等替代IT0玻璃基板。2)在濺射有Ni/Al層的陰極IT0玻璃基板上涂布負(fù)性光刻膠，140 150°C預(yù)烘烤 3 3. 5min，曝光40 50s，然后用Na2C03(0. 5% )進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在150 160°C 后烘烤4 5min，用體積比為HC1 HN03 H202 = 5 5 2的刻蝕液對(duì)ITO/Ni/Al層進(jìn) 行刻蝕，刻蝕出陰極圖形；如圖2、圖3所示陰極基板玻璃100上的ITO/Ni/Al成為相互平 行的條狀像素圖形，IT0導(dǎo)電電極延伸出密封區(qū)域114，并通過(guò)引線115引出。3)在步驟2)得到的具有ITO/Ni/Al金屬圖案的陰極玻璃板上旋涂400 450nm 厚的正性光刻膠，在150 170°C烘烤4 5min，曝光60 70s，用Na2C03進(jìn)行顯影，清洗， 吹干；在160 180°C再次烘烤5 6min，固化，得到絕緣柱；絕緣柱即為固化后的正性光刻 膠，所述的正性光刻膠為聚甲基丙烯酸己脂、聚乙烯醇、聚酞氨胺或環(huán)氧樹脂。如圖4所示，絕緣柱104成矩形陣列分布，絕緣柱的截面從陰極玻璃板開始到IT0/ 金屬層部分(101/102 103)為柱形，位于ITO/Ni/Al層刻蝕的陰極圖形的之間，IT0/金 屬層以上(103以上)的部分為正梯形，等間距置于IT0條形陰極圖形間隙之上，以隔開以 后涂覆的有機(jī)色素層。4)如圖5、圖6所示，在遮擋掩膜板的遮擋掩膜下，在ITO/Ni/Al層上進(jìn)行有機(jī)層 的蒸鍍有機(jī)層從下到上依次為8 10nm的CH3C00Cs層105、15 20nm的TPBI層106、 15 20nm 的 RGB 色素發(fā)光層 107R/G/B、15 20nm 的 TCTA 層 108、55 60nm 的 NPB 層 109,25 30nm的CuPc層110和55 60nm NPB層111 ；涂覆的總的有機(jī)層的高度超過(guò)絕
緣柱的高度；在NPB層111上再真空蒸鍍8 10nm的冊(cè)3層112，在恥3層112上真空蒸鍍18 20nm的IT0導(dǎo)電層113 ；真空蒸鍍時(shí)的真空度為lO^Pa, 02和H20的含量小于0. lppm。其中，紅色素發(fā)光層107R、綠色素發(fā)光層107G、藍(lán)色素發(fā)光層107B被絕緣柱104 隔開，在蒸鍍時(shí)通過(guò)掩模板的遮掩來(lái)實(shí)現(xiàn)不同的RGB發(fā)光層的蒸鍍，所述的紅色發(fā)光層 107R為TPBI :Ir(ppy)層，Ir(ppy)的摻雜量為TPBI質(zhì)量的11 12% ；所述的綠色發(fā)光層 107G為TPBI (FIrpic)層，F(xiàn)Irpic的摻雜量為TPBI質(zhì)量的28 30% ；所述的藍(lán)色發(fā)光層 107B 為 TCTA :Ir(MPQ)2(acac)層，Ir (MPQ) 2 (acac)的摻雜量為 TCTA 質(zhì)量的 18 20%。5)以折射率為1. 65 1. 75的干凈的IT0玻璃基板作為陽(yáng)極封裝蓋板，在陽(yáng)極封 裝蓋板上涂布負(fù)性光刻膠，在140 150°C進(jìn)行預(yù)烘烤3 3. 5min,曝光40 50s ；并用 Na2C03進(jìn)行顯影(0. 5% )，洗凈，干燥，在150 160°C烘烤4 5min ；再對(duì)該玻璃基板進(jìn)行 IT0刻蝕，用體積比為HC1 HN03 H202 = 5 5 2的刻蝕液刻出陽(yáng)極圖形；如圖7所 示，陰極基板玻璃200上的IT0成為相互平行的條狀像素圖形，IT0導(dǎo)電電極延伸出密封區(qū) 域114，并通過(guò)引線115引出。步驟2)和5)用到的負(fù)性光刻膠為聚合肉桂酸系或橡膠系的光刻膠。其中，聚合肉 桂酸系光刻膠為0SR、SVR(東京應(yīng)用化學(xué)工業(yè)公司產(chǎn)品)、KPR(柯達(dá)公司產(chǎn)品)，橡膠系的 光刻膠為0MR-81，0MR-83系列(東京應(yīng)用化學(xué)工業(yè)公司產(chǎn)品)、Waycoat_HR-100、200 (Hunt化學(xué)工業(yè)公司產(chǎn)品)及KMR-747 (柯達(dá)公司產(chǎn)品)。6)在陰極玻璃基板顯示區(qū)四周的密封區(qū)上涂覆紫外固化膠，在真空下與陽(yáng)極玻璃 蓋板進(jìn)行對(duì)位貼合；7)真空環(huán)境下(0. 1 1. OKPa, 02和H20的含量不小于0. lppm)，對(duì)位貼合后，在 50°C 70°C、0. 8 IMPa壓合10 20min ；然后在紫外燈照射下固化紫外固化膠，使得陰 極IT0玻璃基板與陽(yáng)極封裝蓋板密封粘合。如圖8所制備的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，包括陰極玻璃基板100，絕緣柱呈矩形 陣列分布在陰極玻璃基板上100，絕緣柱的之間分布有排列成陰極圖形的IT0/金屬層 (101/102/103)，IT0/金屬層上涂覆有機(jī)層，并且有機(jī)層的高度超過(guò)絕緣柱的高度，有機(jī)層 上涂覆恥3層112和IT0導(dǎo)電層113，IT0導(dǎo)電層113上封蓋刻蝕有陽(yáng)極圖形IT0導(dǎo)電層201 的陽(yáng)極玻璃蓋板200，陰極玻璃基板100與陽(yáng)極玻璃蓋板200對(duì)位貼合，并通過(guò)紫外固化膠 固化。所述的有機(jī)層從陰極到陽(yáng)極依次為CH3C00Cs層105、TPBI層106、色素發(fā)光層 107、TCTA 層 108、NPB 層 109、CuPc 層 110 和 NPB 層 112，NPB 層 112 上還涂覆 W03 層 112 和 IT0導(dǎo)電層113 ；而色素發(fā)光層107包括紅色素發(fā)光層107R、綠色素發(fā)光層107G、藍(lán)色素發(fā) 光層107B被絕緣柱104隔開。
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權(quán)利要求
一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，包括陰極玻璃基板，絕緣柱呈矩形陣列分布在陰極玻璃基板上，絕緣柱的之間分布有排列成陰極圖形的ITO/金屬層，ITO/金屬層上涂覆有機(jī)層，并且有機(jī)層的高度超過(guò)絕緣柱的高度，有機(jī)層上涂覆WO3層和ITO導(dǎo)電層，ITO導(dǎo)電層上封蓋刻蝕有陽(yáng)極圖形的陽(yáng)極玻璃蓋板，陰極玻璃基板與陽(yáng)極玻璃蓋板對(duì)位貼合，并通過(guò)紫外固化膠固化。
2.如權(quán)利要求1所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的ITO/金屬層為 ITO導(dǎo)電層上依次濺射沉積8 IOnm的金屬Ni層和180 200nm的金屬Al層。
3.如權(quán)利要求1所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的有機(jī)層從陰極到 陽(yáng)極依次為8 IOnm的CH3COOCs層、15 20nm的TPBI層、15 20nm的RGB發(fā)光層、15 20nm 的 TCTA 層、55 60nm 的 NPB 層、25 30nm 的 CuPc 層和 55 60nmNPB 層；有機(jī)層上涂覆的WO3層厚度為8 10nm，W03層上涂覆的ITO導(dǎo)電層厚度為18 20nm。
4.如權(quán)利要求3所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的RGB發(fā)光層為紅色 發(fā)光層、綠色發(fā)光層或藍(lán)色發(fā)光層；所述的紅色發(fā)光層為TPBI :Ir(ppy)層，Ir(ppy)的摻雜 量為TPBI質(zhì)量的11 12% ；所述的綠色發(fā)光層為TPBI (FIrpic)層，F(xiàn)Irpic的摻雜量為 TPBI 質(zhì)量的 28 30% ；所述的藍(lán)色發(fā)光層為 TCTA =Ir (MPQ) 2 (acac)層，Ir (MPQ) 2 (acac) 的摻雜量為TCTA質(zhì)量的18 20%。
5.如權(quán)利要求1所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的絕緣柱的材料是 聚甲基丙烯酸己脂、聚乙烯醇、聚酞氨胺或環(huán)氧樹脂。
6.如權(quán)利要求1所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的絕緣柱的截面從 陰極玻璃板開始到ITO/金屬層部分為柱形，ITO/金屬層以上的部分為正梯形。
7.如權(quán)利要求1所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，所述的陽(yáng)極玻璃蓋板的 折射率為1. 65 1. 75，玻璃外表面為不規(guī)則的磨砂面。
8.一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟1)將干凈的ITO玻璃基板作為陰極玻璃基板，在其上依次濺射金屬Ni層和金屬Al層， 然后850 900°C激光退火35 40s ；2)在濺射有Ni/Al層的陰極ITO玻璃基板上涂布負(fù)性光刻膠，140 150°C預(yù)烘烤3 3. 5min,曝光40 50s，然后用Na2CO3進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在150 160°C后烘烤4 5min;用體積比為HCl HNO3 H2O2 = 5 5 2的刻蝕液對(duì)ITO/Ni/Al層進(jìn)行刻蝕，亥Ij 蝕出陰極圖形；3)在步驟2)得到的具有ITO/Ni/Al金屬圖案的陰極玻璃板上旋涂400 450nm厚的 正性光刻膠，在150 170°C烘烤4 5min，曝光60 70s，用Na2CO3進(jìn)行顯影，清洗，吹干； 在160 180°C再次烘烤5 6min，固化，得到絕緣柱；4)在遮擋掩膜板的遮擋掩膜下，在ITO/Ni/Al層上進(jìn)行有機(jī)層的蒸鍍有機(jī)層從下到上 依次為8 IOnm的CH3COOCs層、15 20nm的TPBI層、15 20nm的RGB發(fā)光層、15 20nm 的 TCTA 層、55 60nm 的 NPB 層、25 30nm 的 CuPc 層和 55 60nmNPB 層；在NPB層上再真空蒸鍍8 IOnm的WO3層，在WO3層上真空蒸鍍18 20nm的ITO導(dǎo) 電層；5)以折射率為1.65 1. 75的干凈的ITO玻璃基板作為陽(yáng)極封裝蓋板，在陽(yáng)極封裝蓋 板上涂布負(fù)性光刻膠，在140 150°C進(jìn)行預(yù)烘烤3 3. 5min,曝光40 50s ；并用Na2CO3進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在150 160°C烘烤4 5min ；再對(duì)該玻璃基板進(jìn)行ITO刻蝕，用體 積比為HCl HNO3 H2O2 = 5 5 2的刻蝕液刻出陽(yáng)極圖形；6)在陰極玻璃基板顯示區(qū)四周的密封區(qū)上涂覆紫外固化膠，在真空下與陽(yáng)極玻璃蓋板 進(jìn)行對(duì)位貼合；7)真空下對(duì)位貼合后，在50°C 70°C、0.9 IMPa壓合15 20min ；然后在紫外燈照 射下固化紫外固化膠，使得陰極ITO玻璃基板與陽(yáng)極封裝蓋板密封粘合。
9.如權(quán)利要求8所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，其特征在于，所述的負(fù)性 光刻膠為聚合肉桂酸系或橡膠系的光刻膠。
10.如權(quán)利要求8所述的彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，其特征在于，所述的正性 光刻膠為聚甲基丙烯酸己脂、聚乙烯醇、聚酞氨胺或環(huán)氧樹脂；絕緣柱成矩形陣列分布，絕 緣柱的截面從陰極玻璃板開始到ITO/Ni/Al部分為柱形，位于ITO/Ni/Al層刻蝕的陰極圖 形的之間，ITO/Ni/Al層以上的部分為正梯形，等間距置于陰極圖形間隙之上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制備方法，該有機(jī)發(fā)光顯示面板包括陰極玻璃基板，絕緣柱呈矩形陣列分布在陰極玻璃基板上，絕緣柱的之間分布有排列成陰極圖形的ITO/金屬層，ITO/金屬層上涂覆有機(jī)層，并且有機(jī)層的高度超過(guò)絕緣柱的高度，有機(jī)層上涂覆WO3層和ITO導(dǎo)電層，ITO導(dǎo)電層上封蓋刻蝕有陽(yáng)極圖形的陽(yáng)極玻璃蓋板，陰極玻璃基板與陽(yáng)極玻璃蓋板對(duì)位貼合，并通過(guò)紫外固化膠固化。所制備的有機(jī)發(fā)光顯示面板有效改善有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命，發(fā)光效率，減少光電源損耗。
文檔編號(hào)H01L51/52GK101866945SQ201010214268
公開日2010年10月20日 申請(qǐng)日期2010年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月30日
發(fā)明者李俊 申請(qǐng)人:彩虹集團(tuán)公司