專利名稱：陣列基板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)，特別涉及一種陣列基板及其制造方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display ；簡稱LCD)是通過控制在液晶面板上陣列排列的液晶像素的光透過率來顯示各種畫面。一般把驅(qū)動(dòng)液晶面板用的驅(qū)動(dòng)芯片壓接 在薄膜晶體管液晶顯示裝置(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display ；簡稱=TFT IXD)面板上的方法有三種引線鍵合(Wire Bonding ；簡稱WB)方式、帶狀載體壓接(Tape Automated Bonding ；簡稱:TAB)方式和芯片直壓(Chip On Glass ；簡稱:C0G)的方式。在 液晶面板的制造工藝中為了在制成液晶核之前先檢出不良的面板，以防止不良的面板流到 后續(xù)的工藝，進(jìn)行陣列基板測試(Array Test)。在適用COG方式的制造工藝時(shí)，通常采用進(jìn) 行陣列基板測試之前先將信號(hào)線通過連接線都連接起來，等陣列基板測試結(jié)束之后，再用 激光切割的方法把信號(hào)線斷開的方法。但是用激光切割柵極線或數(shù)據(jù)線金屬的時(shí)候，會(huì)產(chǎn) 生金屬顆粒，形成污染，而且激光切割的這樣一個(gè)過程影響了作業(yè)速度，降低了生產(chǎn)效率。為了減少激光切割的工序，已經(jīng)提出了各種方法。例如在韓國專利 KR2005-0110745中提出一種在柵極線或數(shù)據(jù)線上附加設(shè)計(jì)薄膜晶體管(Thin Film Transistor ；以下簡稱TFT)開關(guān)，TFT的柵極都連在一起用一個(gè)開關(guān)信號(hào)來控制它的開關(guān) 狀態(tài)。這樣，陣列基板測試的時(shí)候只需加開啟信號(hào)打開開關(guān)，測試之后也不需要特殊的處 理。但是柵極/數(shù)據(jù)線通過TFT并列連接，有時(shí)候即使實(shí)際信號(hào)斷開了也會(huì)因?yàn)橄虏勘彻?產(chǎn)生漏電流而引起信號(hào)失真，而且在制造大型面板的時(shí)候因?yàn)樾枰O(shè)計(jì)大的TFT存在適用 困難的問題。在韓國專利KR2005-0003511中公開了另外一種方法。在面板的最外圍設(shè)計(jì)連接 線，所有的柵極線或數(shù)據(jù)線都垂直連接到連接線上，最后在打磨(Grinding)工藝中消除連 接線，這樣就不用增加額外的工藝。但是這種方法在將驅(qū)動(dòng)芯片壓接在面板的過程中，由于 壓接芯片的強(qiáng)壓，COG壓接焊盤和在其下面走線的連接用走線會(huì)有短路的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板及其方法，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中采用激光切 割工藝產(chǎn)生的污染問題，從而提高產(chǎn)率和生產(chǎn)效率。本發(fā)明的陣列基板，包括顯示畫面的有效區(qū)域和用于給有效區(qū)域提供像素信號(hào)的 焊盤區(qū)域；所述有效區(qū)域包括用第一金屬制成的第一信號(hào)線、用第二金屬制成的第二信 號(hào)線、與所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線電氣連接的開關(guān)元件和由所述開關(guān)元件驅(qū)動(dòng)的 像素電極；所述焊盤區(qū)域還包括測試信號(hào)線；測試用連接線，與有效區(qū)域的信號(hào)線電氣連 接；所述測試用連接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分和一端與所述有效區(qū) 域的第一信號(hào)線或第二信號(hào)線電氣連接的第二部分；所述第一部分和第二部分的另一端相 隔一段距離相對(duì)設(shè)置；所述測試用連接線還包括使所述第一部分的另一端和所述第二部分的另一端電氣連接的連接部。本發(fā)明的陣列基板與現(xiàn)有技術(shù)相比通過陣列基板工藝實(shí)現(xiàn)陣列基板測試之后切 斷信號(hào)線的工序，省去了激光切割信號(hào)線的工序，從而避免了激光切割金屬線時(shí)產(chǎn)生的金 屬顆粒污染問題，提高了產(chǎn)率和生產(chǎn)效率。這種陣列基板不用設(shè)計(jì)TFT結(jié)構(gòu)，沒有信號(hào)失真 的問題，驅(qū)動(dòng)芯片壓接的時(shí)候也不會(huì)出現(xiàn)走線短路的問題。本發(fā)明提供一種陣列基板的制造方法，所述陣列基板包括顯示畫面用的有效區(qū)域 和給所述有效區(qū)域提供信號(hào)用的焊盤區(qū)域，包括在玻璃基板上沉積不透明的導(dǎo)電層； 利用構(gòu)圖工藝形成不透明導(dǎo)電層的圖案，所述不透明導(dǎo)電層的圖案包括給所述有 效區(qū)域提供信號(hào)的第一信號(hào)線和所述焊盤區(qū)域里的測試信號(hào)線和測試用連接線，所述測試 用連接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分和一端與有效區(qū)域的第一信號(hào)線電 氣連接的第二部分，所述第一部分的另一端與第二部分的另一端相隔一段距離相對(duì)設(shè)置；在完成所述不透明導(dǎo)電層的圖案的玻璃基板上沉積絕緣層；利用構(gòu)圖工藝形成使所述焊盤區(qū)域的測試用連接線的第一部分的另一端和第二 部分的另一端裸露的過孔；在完成所述絕緣層上的過孔的玻璃基板上沉積透明導(dǎo)電層；利用構(gòu)圖工藝刻蝕透明導(dǎo)電層，形成所述有效區(qū)域里的像素電極和在所述焊盤區(qū) 域的過孔上使所述測試用連接線的第一部分的另一端和第二部分的另一端連接的連接部 的圖案。通過本發(fā)明陣列基板的制造方法制造的陣列基板在陣列基板測試后，通過構(gòu)圖工 藝刻蝕透明導(dǎo)電層和過孔下面裸露的測試用連接線來斷開信號(hào)線。這種方法省去了激光切 割信號(hào)線的工序，從而避免了激光切割金屬線時(shí)產(chǎn)生的金屬顆粒污染問題，提高了產(chǎn)率和 生產(chǎn)效率。而且，這種方法不用設(shè)計(jì)TFT結(jié)構(gòu)，沒有信號(hào)失真的問題，驅(qū)動(dòng)芯片壓接的時(shí)候 也不會(huì)出現(xiàn)走線短路的問題。


圖1為本發(fā)明陣列基板第一實(shí)施例焊盤區(qū)域的示意圖；圖2為圖1中A-A，向剖面圖；圖3為本發(fā)明陣列基板第二實(shí)施例焊盤區(qū)域的示意圖；圖4為圖3中B-B，向剖面圖；圖5為本發(fā)明陣列基板的制造方法第一實(shí)施例的流程圖；圖6為本發(fā)明陣列基板的制造方法第二實(shí)施例的流程圖。附圖標(biāo)記1-第一信號(hào)線或第二信號(hào)線 2-測試信號(hào)線 3-測試用連接線4-絕緣層5-過孔6-透明導(dǎo)電層7-連接部31-第一部分 32-第二部分
具體實(shí)施例方式下面通過附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
陣列基板第一實(shí)施例
陣列基板包括顯示畫面的有效區(qū)域和用于給有效區(qū)域提供像素信號(hào)的焊盤區(qū)域。 有效區(qū)域包括用第一金屬制成的第一信號(hào)線、用第二金屬制成的第二信號(hào)線、與所述第一 信號(hào)線和所述第二信號(hào)線電氣連接的開關(guān)元件和由所述開關(guān)元件驅(qū)動(dòng)的像素電極。圖1為 本發(fā)明陣列基板第一實(shí)施例焊盤區(qū)域的示意圖，圖2為圖1中A-A’向剖面圖。如圖1、圖2 所示，焊盤區(qū)域包括測試信號(hào)線2，用于提供測試信號(hào)；測試用連接線3，與有效區(qū)域的信 號(hào)線(第一信號(hào)線或第二信號(hào)線1)電氣連接，用于判斷像素電極的電氣連接狀態(tài)；過孔5， 設(shè)在測試用連接線上方的絕緣層4上；透明導(dǎo)電層6，設(shè)在過孔的上方，用于保護(hù)過孔下面 裸露的測試用連接線3。上述測試用連接線由與所述有效區(qū)域的第一信號(hào)線相同的物質(zhì)或者與第二信號(hào) 線相同的物質(zhì)構(gòu)成。本實(shí)施例在絕緣層上設(shè)置過孔，測試用連接線通過過孔5與透明導(dǎo)電層6連在一 起。這樣，本實(shí)施例的陣列基板在陣列基板測試后可以通過構(gòu)圖工藝刻蝕透明導(dǎo)電層6和 過孔5下面裸露的測試用連接線3的方法來斷開原先通過測試信號(hào)線2連在一起的第一信 號(hào)線或第二信號(hào)線，不需要做激光切割工藝，因此，避免了激光切割引起的金屬顆粒污染問 題，提高了產(chǎn)率和生產(chǎn)效率。陣列基板第二實(shí)施例陣列基板包括顯示畫面的有效區(qū)域和用于給有效區(qū)域提供像素信號(hào)的焊盤區(qū)域。 有效區(qū)域包括用第一金屬制成的第一信號(hào)線、用第二金屬制成的第二信號(hào)線、與所述第一 信號(hào)線和所述第二信號(hào)線電氣連接的開關(guān)元件和由所述開關(guān)元件驅(qū)動(dòng)的像素電極。圖3為 本發(fā)明陣列基板第二實(shí)施例焊盤區(qū)域的示意圖，圖4為圖3中B-B’向剖面圖。如圖3、圖4 所示，焊盤區(qū)域包括測試信號(hào)線2，用于提供測試信號(hào)；測試用連接線3，與有效區(qū)域的信 號(hào)線(第一信號(hào)線或第二信號(hào)線1)電氣連接，用于判斷像素電極的電氣連接狀態(tài)；所述測 試用連接線3包括一端與測試信號(hào)線2電氣連接的第一部分31和一端與所述有效區(qū)域的 第一信號(hào)線或第二信號(hào)線電氣連接的第二部分32 ；所述第一部分31和第二部分32的另一 端相隔一段距離相對(duì)設(shè)置；所述測試用連接線3還包括使所述第一部分31的另一端和所述 第二部分32的另一端電氣連接的連接部7。上述測試用連接線的第一部分和第二部分由與所述有效區(qū)域的第一信號(hào)線相同 的物質(zhì)構(gòu)成或者也可以與第二信號(hào)線相同的物質(zhì)構(gòu)成。上述測試用連接線的連接部由與有 效區(qū)域的像素電極同樣的物質(zhì)構(gòu)成。本實(shí)施例在絕緣層上設(shè)置過孔，測試用連接線在過孔處斷開，且通過連接部連在 一起。這樣，本實(shí)施例的陣列基板在陣列基板測試后可以通過刻蝕透明導(dǎo)電層，使得原先通 過測試信號(hào)線連在一起的信號(hào)線斷開，不需要做激光切割。因此，避免了激光切割引起的金 屬顆粒污染問題，提高了產(chǎn)率和生產(chǎn)效率，而且與陣列基板第一實(shí)施例相比因只需刻蝕透 明導(dǎo)電層可以省去一道工序。陣列基板的制造方法第一實(shí)施例圖5為本發(fā)明陣列基板的制造方法第一實(shí)施例的流程圖。如圖5所示，本實(shí)施例 陣列基板的制造方法，包括步驟501、在玻璃基板上沉積不透明的導(dǎo)電層。
步驟502、利用構(gòu)圖工藝形成不透明導(dǎo)電層的圖案。不透明導(dǎo)電層的圖案包括給有效區(qū)域提供信號(hào)的第一信號(hào)線和焊盤區(qū)域里的測 試信號(hào)線和測試用連接線。有效區(qū)域的第一信號(hào)線可為控制是否給像素電極提供像素信號(hào) 的柵極線或給像素電極提供像素信號(hào)的數(shù)據(jù)線。步驟503、在完成所述不透明導(dǎo)電層的圖案的玻璃基板上沉積絕緣層。步驟504、利用構(gòu)圖工藝形成絕緣層上的過孔。步驟505、在完成絕緣層上的過孔的玻璃基板上沉積透明導(dǎo)電層。步驟506、利用構(gòu)圖工藝形成透明導(dǎo)電層的圖案。本發(fā)明所稱的構(gòu)圖工藝包括光刻膠涂覆、掩模、曝光、刻蝕、剝離等工藝。通過本實(shí)施例的方法制造的陣列基板在陣列基板測試后只需用構(gòu)圖工藝刻蝕過 孔上面的透明導(dǎo)電層和過孔下面的測試用連接線就能使原先連接在一起的信號(hào)線斷開，不 需要進(jìn)行激光切割工藝因此能夠避免激光切割金屬線引起的金屬顆粒污染問題。用本實(shí)施 例的方法制造的陣列基板不需要設(shè)計(jì)TFT結(jié)構(gòu)，因此在大型面板上也不存在占用面積過大 不適用的問題，且驅(qū)動(dòng)芯片壓接的時(shí)候也不會(huì)有走線短路的問題?？涛g透明導(dǎo)電層的刻蝕液跟刻蝕信號(hào)線的刻蝕液不一樣，所以需要進(jìn)行兩次刻 蝕。為了減少工序本發(fā)明進(jìn)一步提供另一種優(yōu)選方案。陣列基板的制造方法第二實(shí)施例圖6為本發(fā)明陣列基板的制造方法第二實(shí)施例的流程圖。如圖6所示，本實(shí)施例 的陣列基板的制造方法，包括步驟601、在玻璃基板上沉積不透明的導(dǎo)電層。步驟602、利用構(gòu)圖工藝形成不透明導(dǎo)電層的圖案。不透明導(dǎo)電層的圖案包括給有效區(qū)域提供信號(hào)的第一信號(hào)線和焊盤區(qū)域里的測 試信號(hào)線和測試用連接線，所述測試用連接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分 和一端與有效區(qū)域的第一信號(hào)線電氣連接的第二部分，所述第一部分的另一端與第二部分 的另一端相隔一段距離相對(duì)設(shè)置。有效區(qū)域的第一信號(hào)線可為控制是否給像素電極提供像 素信號(hào)的柵極線或給像素電極提供像素信號(hào)的數(shù)據(jù)線。步驟603、在完成所述不透明導(dǎo)電層的圖案的玻璃基板上沉積絕緣層。步驟604、利用構(gòu)圖工藝形成使所述焊盤區(qū)域的測試用連接線的第一部分的另一 端和第二部分的另一端裸露的過孔。步驟605、在完成所述絕緣層上的過孔的玻璃基板上沉積透明導(dǎo)電層。步驟606、利用構(gòu)圖工藝刻蝕透明導(dǎo)電層，形成所述有效區(qū)域里的像素電極和在所 述焊盤區(qū)域的過孔上使所述測試用連接線的第一部分的另一端和第二部分的另一端連接 的連接部的圖案。通過本實(shí)施例的方法制造的陣列基板在陣列基板測試后只需用構(gòu)圖工藝刻蝕過孔上面的透明導(dǎo)電層就能使原先連接在一起的信號(hào)線斷開，不需要進(jìn)行激光切割工藝因此 能夠避免激光切割金屬線引起的金屬顆粒污染問題。通過本實(shí)施例的方法制造的陣列基板 也不需要設(shè)計(jì)TFT結(jié)構(gòu)，因此在大型面板上也不存在占用面積過大不適用的問題，而且驅(qū) 動(dòng)芯片壓接的時(shí)候也不會(huì)有走線短路的問題。與陣列基板的制造方法第一實(shí)施例的方法制 造的陣列基板相比用本實(shí)施例的方法制造的陣列基板在陣列基板測試后只需刻蝕透明導(dǎo)電層就能斷開原先連接在一起的信號(hào)線，可以省工序，提高產(chǎn)率。
最后所應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參 照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本發(fā)明 的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
一種陣列基板，包括顯示畫面的有效區(qū)域和用于給有效區(qū)域提供像素信號(hào)的焊盤區(qū)域；所述有效區(qū)域包括用第一金屬制成的第一信號(hào)線、用第二金屬制成的第二信號(hào)線、與所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線電氣連接的開關(guān)元件和由所述開關(guān)元件驅(qū)動(dòng)的像素電極；其特征在于所述焊盤區(qū)域包括測試信號(hào)線；測試用連接線，與有效區(qū)域的信號(hào)線電氣連接；所述測試用連接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分和一端與所述有效區(qū)域的第一信號(hào)線或第二信號(hào)線電氣連接的第二部分；所述第一部分和第二部分的另一端相隔一段距離相對(duì)設(shè)置；所述測試用連接線還包括使所述第一部分的另一端和所述第二部分的另一端電氣連接的連接部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述測試用連接線的第一部分和第 二部分由與所述有效區(qū)域的第一信號(hào)線相同的物質(zhì)構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述測試用連接線的第一部分和第 二部分由與所述有效區(qū)域的第二信號(hào)線相同的物質(zhì)構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述測試用連接線的連接部由與有 效區(qū)域的像素電極同樣的物質(zhì)構(gòu)成。
5.一種陣列基板的制造方法，所述陣列基板包括顯示畫面用的有效區(qū)域和給所述有效 區(qū)域提供信號(hào)用的焊盤區(qū)域，其特征在于，包括在玻璃基板上沉積不透明的導(dǎo)電層；利用構(gòu)圖工藝形成不透明導(dǎo)電層的圖案，所述不透明導(dǎo)電層的圖案包括給所述有效區(qū) 域提供信號(hào)的第一信號(hào)線和所述焊盤區(qū)域里的測試信號(hào)線和測試用連接線，所述測試用連 接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分和一端與有效區(qū)域的第一信號(hào)線電氣連 接的第二部分，所述第一部分的另一端與第二部分的另一端相隔一段距離相對(duì)設(shè)置；在完成所述不透明導(dǎo)電層的圖案的玻璃基板上沉積絕緣層；利用構(gòu)圖工藝形成使所述焊盤區(qū)域的測試用連接線的第一部分的另一端和第二部分 的另一端裸露的過孔；在完成所述絕緣層上的過孔的玻璃基板上沉積透明導(dǎo)電層；利用構(gòu)圖工藝刻蝕透明導(dǎo)電層，形成所述有效區(qū)域里的像素電極和在所述焊盤區(qū)域的 過孔上使所述測試用連接線的第一部分的另一端和第二部分的另一端連接的連接部的圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板的制造方法，其特征在于所述有效區(qū)域的第一信 號(hào)線為控制是否給像素電極提供像素信號(hào)的柵極線。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板的制造方法，其特征在于所述有效區(qū)域的第一信 號(hào)線為給像素電極提供像素信號(hào)的數(shù)據(jù)線。
全文摘要
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)，特別涉及一種陣列基板及其制造方法。本發(fā)明的陣列基板，包括顯示畫面的有效區(qū)域和用于給有效區(qū)域提供像素信號(hào)的焊盤區(qū)域。其中，焊盤區(qū)域包括測試信號(hào)線和測試用連接線，所述測試用連接線包括一端與測試信號(hào)線電氣連接的第一部分和一端與所述有效區(qū)域的第一信號(hào)線或第二信號(hào)線電氣連接的第二部分；所述第一部分和第二部分的另一端相隔一段距離分離；所述測試用連接線還包括使所述第一部分的另一端和所述第二部分的另一端電氣連接的連接部。本發(fā)明還提供一種制造上述陣列基板的方法。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比沒有激光切割金屬線時(shí)產(chǎn)生的金屬顆粒污染問題，從而提高了產(chǎn)率和生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)H01L23/48GK101846858SQ20091008101
公開日2010年9月29日 申請(qǐng)日期2009年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者林允植 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司