專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將處理液供給到被處理基板上，進(jìn)行規(guī)定的處理的基板處理技術(shù)，特別是涉及以平流方式沿著水平方向一邊輸送基板，一邊進(jìn)行液處理的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
最近，在LCD(液晶顯示器)制造過程中的抗蝕劑涂敷顯影處理系統(tǒng)中，作為能夠適應(yīng)有利于LCD用基板(例如玻璃基板)的大型化的顯影方式，正在普及在沿著水平方向敷設(shè)有滾柱的輸送路徑上，一邊輸送基板一邊在輸送過程中進(jìn)行顯影、洗滌、干燥等一系列顯影處理工序這樣的所謂平流方式。這樣的平流方式與使基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動的旋轉(zhuǎn)方式相比，前者具有大型基板的處理簡單、不發(fā)生霧(mist)、再附著到基板上的可能性小等優(yōu)點(diǎn)。
采用平流方式的現(xiàn)有技術(shù)的顯影處理裝置，為了提高顯影液的分別回收率，例如在專利文獻(xiàn)1中揭示有在平流輸送路徑中，在顯影液供給部的下游側(cè)，設(shè)置有使基板沿著輸送方向傾斜的基板傾斜機(jī)構(gòu)，在顯影液供給部中在水平的基板上托著顯影液，原封不動地平流，將基板輸送到輸送路徑的下游側(cè)，經(jīng)過規(guī)定時間后，在輸送路徑上的規(guī)定位置，基板傾斜機(jī)構(gòu)使基板向前或者向后傾斜，使基板上的顯影液受重力作用而落下，用顯影液回收用的盤收集落下來的顯影液。然后，基板傾斜機(jī)構(gòu)通過上述這樣的傾斜姿勢在一定時間內(nèi)將液體除去，一旦使基板返回水平姿勢，接著基板便平流地被送到下游側(cè)的洗滌部，于是，洗滌噴嘴將洗滌液噴射到呈水平姿勢的基板上，在基板上進(jìn)行從顯影液到洗滌液的置換(停止顯影)。在該洗滌部中從基板上落下來的液體被收集在洗滌液回收用的盤中。然后，在洗滌處理過的基板平流地通過下游側(cè)的干燥部的期間，氣刀沿著與輸送方向相反的方向使高壓氣流撞擊到呈水平姿勢的基板上，將液體吹跑，使基板表面干燥。
專利文獻(xiàn)1日本特開2003-7582號公報可是，在上述這樣的現(xiàn)有技術(shù)的顯影處理裝置中，在輸送路徑上使托著顯影液的基板停止，從水平狀態(tài)向傾斜狀態(tài)進(jìn)行姿勢變換，在傾斜姿勢下將液體除去后，再返回水平姿勢，再開始平流式的輸送，這樣的機(jī)構(gòu)以及一系列動作的另一方面，是結(jié)構(gòu)繁雜、效率低。另外，由于從進(jìn)行顯影液的除去開始至在下游側(cè)的洗滌部中進(jìn)行液體置換即開始進(jìn)行停止顯影用的洗滌處理為止的時間延遲長，所以在進(jìn)行洗滌處理之前，從基板的前端側(cè)開始使被處理面干燥，存在發(fā)生斑狀污跡這樣的顯影處理品質(zhì)下降的懸念。
另外，關(guān)于顯影時間，也難以保證基板上的面內(nèi)均勻性。即，在停止位置使托著顯影液的基板從水平狀態(tài)向傾斜狀態(tài)進(jìn)行姿勢變換時，由于基板上各部分的運(yùn)動速度、運(yùn)動范圍(特別是高度位置)等不同，所以不可能用與供給顯影液時相同的時間差進(jìn)行各部分的液體除去，其結(jié)果從顯影液的供給到顯影停止的時間即顯影時間，對基板的各部分(特別是基板的前端部和后端部之間)來說，存在離散的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述的現(xiàn)有技術(shù)的問題而完成的，其目的在于提供一種在平流式的輸送線路上，有效地順暢地進(jìn)行分別回收供給到被處理基板上的第一處理液，置換成第二處理液的工作的基板處理裝置。
本發(fā)明的另一個目的在于提供一種在平流式的輸送線路上，在經(jīng)過規(guī)定的處理時間后，有效地且在面內(nèi)均勻地進(jìn)行分別回收供給到被處理基板上的第一處理液，置換成第二處理液的工作的基板處理裝置。
本發(fā)明的再一個目的在于提供一種在平流式的輸送線路上，一邊輸送被處理基板，一邊在基板上依次進(jìn)行一系列處理時，同時實(shí)現(xiàn)各種處理之間的連續(xù)性乃至提高生產(chǎn)率、以及防止互相干擾的基板處理裝置。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的基板處理裝置包括平流式的輸送線路，該平流式的輸送線路包括沿著水平的規(guī)定的輸送方向敷設(shè)使被處理面取朝上的姿勢輸送被處理基板用的輸送體，沿著上述輸送方向具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第一輸送區(qū)間，接在上述第一輸送區(qū)間之后具有向上傾斜的輸送路徑的第二輸送區(qū)間，接在上述第二輸送區(qū)間之后具有向下傾斜的輸送路徑的第三輸送區(qū)間，以及接在上述第三輸送區(qū)間之后具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第四輸送區(qū)間；為了在上述輸送線路上驅(qū)動上述基板而驅(qū)動上述輸送體的輸送驅(qū)動部；在上述第一或者第二輸送區(qū)間內(nèi)將第一處理液供給到上述基板上的第一處理液供給部；以及在上述第三輸送區(qū)間內(nèi)將第二處理液供給到上述基板上的第二處理液供給部。
在上述的裝置結(jié)構(gòu)中，在第二以及第三輸送區(qū)間內(nèi)，形成比第一以及第四輸送區(qū)間隆起得高的隆起部。基板在該隆起部的上升傾斜路徑(第二輸送區(qū)間)中上升時，基板上的第一處理液受重力作用而向下方即后方移動，從基板后端落下。這時，在基板上從基板的前端側(cè)向后端側(cè)以與輸送速度大致相等的移動速度進(jìn)行第一處理液的除去。這樣越過隆起部的向上傾斜路徑的基板在其上表面上殘留有非常薄的第一處理液的液膜的狀態(tài)下，進(jìn)入向下傾斜路徑(第三輸送區(qū)間)。在這里，通過第二處理液供給部將第二處理液供給沿著該向下傾斜路徑下降的基板，使基板上各部分殘留的薄的第一處理液受重力和第二處理液流的壓力作用而向前方流下，從基板前端除去。這樣，在基板上從基板的前端側(cè)向后端側(cè)以與輸送速度大致相等的速度，將第一處理液置換成第二處理液。
如果采用本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，則在輸送方向設(shè)定其長度比基板的尺寸短的第二輸送區(qū)間，另外，優(yōu)選使所述第二輸送區(qū)間和所述第三輸送區(qū)間相加的區(qū)間的長度比上述基板的尺寸短。在此情況下，基板利用其撓性在全長的一部分上形成類似隆起部的突筋的基板隆起部，而且以與輸送速度相等的速度使上述隆起部從基板的前端到后端沿著與輸送方向相反的方向一邊相對地移動，一邊通過輸送線路的隆起部(第二以及第三輸送區(qū)間)。
本發(fā)明的平流式的輸送線路比起在各輸送區(qū)間的邊界地點(diǎn)進(jìn)行彎曲成銳角的線路變更，優(yōu)選在其附近描繪適當(dāng)?shù)那拾霃竭M(jìn)行線路變更，另外，隆起部的頂點(diǎn)呈平坦結(jié)構(gòu)，就是說，第二輸送區(qū)間的終端部和第三輸送區(qū)間的始端部之間實(shí)質(zhì)上也能形成為水平的輸送路徑的結(jié)構(gòu)。
另外，如果采用本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，則在第二輸送區(qū)間內(nèi)設(shè)置將從輸送線路的輸送路徑離開向上方的基板的部位抑制在規(guī)定的高度位置用的基板抑制部。該基板抑制部優(yōu)選具有與基板的左右兩緣部接觸的可旋轉(zhuǎn)的一對滾輪。當(dāng)基板沿著第二輸送區(qū)間內(nèi)的向上傾斜路徑上升時，基板的后端部即使從輸送線路的輸送路徑離開上方，也能夠一邊受基板抑制部決定的高度限制，一邊維持后傾姿勢直至頂部附近，所以能將基板上的液體除去從頭至尾地進(jìn)行到最后(基板后端)。
另外，作為一種優(yōu)選方式，在第一處理液供給部下游側(cè)的第二輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置，設(shè)置有將氣體噴射到基板上的第一氣刀。基板在第二輸送區(qū)間內(nèi)的向上傾斜路徑中上升時，由第一氣刀將氣流噴射到基板上，能夠輔助或者促進(jìn)基板上的第一處理液的除去。
另外，優(yōu)選在第一處理液供給部下游側(cè)的第一或者第二輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置，設(shè)置觸發(fā)第一處理液從基板的后端落下用的液體除去觸發(fā)部。作為一種優(yōu)選方式，該液體除去觸發(fā)部也可以用在輸送路徑上作為輸送體配置的外徑呈一定的圓柱狀或者圓筒狀的滾柱構(gòu)成?；蛘撸鳛榱硪环N優(yōu)選方式，液體除去觸發(fā)部也可以用從上方沿著與輸送方向相反的方向?qū)饬鲊娚涞交宓暮蠖瞬可系臍獾稑?gòu)成。
如果采用本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，則第一處理液供給部具有在第一輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置向基板噴射第一處理液的處理液供給噴嘴，輸送驅(qū)動部使基板以一定的速度通過第一以及第二輸送區(qū)間進(jìn)行輸送。在此情況下，在下游側(cè)的第二以及第三輸送區(qū)間內(nèi)，用與在第一輸送區(qū)間將第一處理液供給到基板上時大致相同的掃描速度，從基板的前端向后端進(jìn)行第一處理液的除去乃至向第二處理液的置換。
如果采用一種優(yōu)選方式，則設(shè)置有在第一以及第二輸送區(qū)間內(nèi)在輸送路徑的下方收集落下來的液體用的第一液體收集部；以及在第三以及第四輸送區(qū)間在輸送路徑的下方收集落下來的液體用的第二液體收集部。在這樣的結(jié)構(gòu)中，能夠?qū)⒂傻谝惶幚硪汗┙o部供給到基板上的第一處理液的大部分分別回收到第一液體收集部中。第二處理液主要被回收到第二液體收集部中。
如果采用一種優(yōu)選方式，則在第二輸送區(qū)間和第三輸送區(qū)間的邊界附近，設(shè)置有將沿著輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第一隔壁。在該第一隔壁上形成連通輸送線路用的開口。
另外，如果采用一種優(yōu)選方式，則輸送線路包括接在第四輸送區(qū)間之后具有向上傾斜的輸送路徑的第五輸送區(qū)間；以及接在第五輸送區(qū)間之后具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第六輸送區(qū)間。在這樣的結(jié)構(gòu)中，從第四輸送區(qū)間到第六輸送區(qū)間形成上升臺階部。該上升臺階部或者第五輸送區(qū)間的長度優(yōu)選設(shè)定得比基板的尺寸短。由此，基板利用其撓性而在基板全長的一部分上形成類似該臺階部的線狀的基板臺階部，而且以與輸送速度相等的速度使基板臺階部從基板的前端到后端沿著與輸送方向相反的方向一邊相對地移動，一邊通過輸送線路的上升臺階部(第五輸送區(qū)間)。在該上升臺階部(第五輸送區(qū)間)中，殘留在基板上的第二處理液在重力作用下從基板前端側(cè)向后方移動，從基板后端落下。
如果采用一種優(yōu)選方式，則為了在第五或第六輸送區(qū)間內(nèi)幫助來自基板上的液體(第二處理液)的除去，設(shè)置有沿著與輸送方向相反方向?qū)怏w噴射到基板上的第二氣刀。
如果采用一種優(yōu)選方式，則在第五輸送區(qū)間和第六輸送區(qū)間的邊界附近，設(shè)置有將沿著輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第二隔壁。在該第二隔壁上形成連通輸送線路用的開口。
如果采用一種優(yōu)選方式，則輸送線路包括在第一輸送區(qū)間的上游側(cè)在比第一輸送區(qū)間高的位置具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第七輸送區(qū)間；以及在該第七輸送區(qū)間和第一輸送區(qū)間之間具有呈傾斜的輸送路徑的第八輸送區(qū)間。在這樣的結(jié)構(gòu)中，從第七輸送區(qū)間到第一輸送區(qū)間形成下降臺階部。該下降臺階部能發(fā)揮阻止被供給到基板上的第一處理液在基板上傳布而到達(dá)上游側(cè)相鄰的其他單元或處理部的功能。該上升臺階部即第八輸送區(qū)間的長度也可以設(shè)定得比基板的尺寸短。另外，在第八輸送區(qū)間和第一輸送區(qū)間的邊界附近，也可以設(shè)置將沿著輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第三隔壁。
另外，在本發(fā)明中，在輸送線路上基板采取的朝上姿勢不只是水平姿勢或輸送方向的傾斜姿勢，包括向任意方向(例如左右橫向)傾斜的姿勢。
如果采用本發(fā)明的基板處理裝置，則利用上述的結(jié)構(gòu)及作用，能在平流式的輸送線路上分別回收供給到被處理基板上的第一處理液，有效地順暢地進(jìn)行置換成第二處理液的工作。另外，經(jīng)過了規(guī)定的處理時間后還能分別回收第一處理液，有效地在面內(nèi)均勻地進(jìn)行置換成第二處理液的工作。另外，在平流式的輸送線路上，一邊輸送被處理基板一邊在基板上依次進(jìn)行一系列處理時，能同時實(shí)現(xiàn)各種處理之間的連續(xù)性乃至提高生產(chǎn)率、以及防止互相干擾。


圖1是表示能適用本發(fā)明的涂敷顯影處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖2是表示上述涂敷顯影處理系統(tǒng)的熱處理部的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖3是表示上述涂敷顯影處理系統(tǒng)的處理程序的流程圖。
圖4是表示實(shí)施方式的顯影單元內(nèi)的總體結(jié)構(gòu)的正視圖。
圖5是表示實(shí)施方式的輸送線路的結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖6是表示實(shí)施方式的輸送線路的驅(qū)動部的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖7是表示在實(shí)施方式的輸送線路中液體從基板上落下時的一個實(shí)施例的作用的圖。
圖8是在實(shí)施方式中促使液體從基板上落下用的一個實(shí)施例的圖。
圖9是表示實(shí)施方式的輸送線路的向上傾斜路徑中能適用的一個實(shí)施例的立體圖。
圖10是表示實(shí)施方式的輸送線路的向上傾斜路徑中能適用的一個實(shí)施例的立體圖。
圖11是表示實(shí)施方式的輸送線路的向上傾斜路徑中能適用的一個實(shí)施例的立體圖。
圖12是表示實(shí)施方式中在輸送線路的隆起部附近進(jìn)行的液體處理的作用的圖。
圖13是表示實(shí)施方式中在輸送線路的上升臺階部附近進(jìn)行的液體處理乃至干燥處理的作用的圖。
圖14是表示實(shí)施方式的清洗加工部內(nèi)的總體結(jié)構(gòu)的正視圖。
圖15是表示在圖14所示的實(shí)施方式中下降臺階部的一種作用的局部側(cè)視圖。
圖16是表示在圖14所示的實(shí)施方式中下降臺階部的一種作用的平面圖。
圖17是表示在圖14所示的實(shí)施方式中下降臺階部的一種作用的局部側(cè)視圖。
標(biāo)號說明10涂敷顯影處理系統(tǒng)24清洗加工部32顯影加工部41紫外線準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)42除塵清洗單元(SCR)94顯影單元(DEV)120輸送線路120a、120b隆起部120c臺階部122顯影部124洗滌部126干燥部128滾柱130顯影液供給噴嘴(顯影噴嘴)136顯影液再利用機(jī)構(gòu)138、140、142洗滌液供給噴嘴(洗滌噴嘴)145洗滌液供給噴嘴(洗滌噴嘴)148氣刀152隔壁182同步帶186氣體噴嘴188帶狀循環(huán)帶190滾輪192氣刀200輸送線路200a、200b隆起部
200c上升臺階部200d下降臺階部224風(fēng)扇過濾單元(FFU)226氣幕噴嘴228藥液供給噴嘴230滾筒刷子232清洗噴射管234雙流體噴嘴236洗滌液供給噴嘴(洗滌噴嘴)238氣刀具體實(shí)施方式
圖1中示出了作為能適用本發(fā)明的基板處理裝置的一個結(jié)構(gòu)例的涂敷顯影處理系統(tǒng)。該涂敷顯影處理系統(tǒng)10設(shè)置在凈化室內(nèi)，例如將LCD用的玻璃基板作為被處理基板，在LCD制造工序中，進(jìn)行光刻工序中的清洗、抗蝕劑涂敷、預(yù)烘焙、顯影以及后烘焙等各種處理。曝光處理由與該系統(tǒng)相鄰設(shè)置的外部的曝光裝置12來進(jìn)行。
該涂敷顯影處理系統(tǒng)10在中心部配置橫向長的加工臺(P/S)16，在其縱向(X方向)兩端部上配置盒臺(C/S)14和接口臺(I/F)18。
盒臺(C/S)14是系統(tǒng)10的盒送入送出口，具有能夠沿著水平方向(Y方向)排列放置四個能收容多個被重疊成多層的基板G的盒C的載物臺20；以及相對該載物臺20上的盒C進(jìn)行基板G的出入的輸送機(jī)構(gòu)22。輸送機(jī)構(gòu)22具有能夠保持基板G的單元例如輸送臂22a，能夠用X、Y、Z、θ四個軸工作，與相鄰的加工臺(P/S)16側(cè)進(jìn)行基板G的交接。
加工臺(P/S)16按照加工流程或者工序的順序，將各處理部配置在沿著系統(tǒng)的水平縱向(X方向)延伸的平行且相反的一對線路A、B上。更詳細(xì)地說，在從盒臺(C/S)14側(cè)開始朝向接口臺(I/F)18側(cè)的上游部的加工線路A上，將清洗加工部24、第一熱處理部26、涂敷加工部28、以及第二熱處理部30配置成橫向一列。這里，清洗加工部24具有共有一條平流輸送線路的平流方式的受激準(zhǔn)分子(excimer)UV照射單元(e-UV)41、以及除塵清洗單元(SCR)42。另外，涂敷加工部28具有抗蝕劑涂敷單元(CT)82、減壓干燥單元(VD)84。
另一方面，在從接口臺(I/F)18側(cè)開始朝向盒臺(C/S)14側(cè)的下游部加工線路B上，將第二熱處理部30、顯影加工部32、脫色加工部34、以及第三熱處理部36配置成橫向一列。這里，顯影加工部32和脫色加工部34是平流型的，用共同的平流輸送線路連接。
在兩條加工線路A、B之間設(shè)置有輔助輸送空間38，能以一個為單位水平方向放置基板G的往返運(yùn)輸器40利用圖中未示出的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，能夠沿著線路方向(X方向)雙向移動。
與清洗加工部24的下游側(cè)相鄰的第一熱處理部26，沿著加工線路A在中心部設(shè)置有縱型的輸送機(jī)構(gòu)46，在其前后兩側(cè)將多個單元重疊成多層配置。例如，如圖2所示，在上游側(cè)的多層單元部(TB)44中，按照從下開始的順序，重疊基板交接用的通過單元(PASSL)50、脫水烘焙用的加熱單元(DHP)52、54、以及粘接單元(AD)56。這里，通過單元(PASSL)50用來從除塵清洗單元(SCR)42側(cè)以平流方式接收基板G。另外，在下游側(cè)的多層單元部(TB)48中，按照從下開始的順序，重疊基板交接用的通過單元(PASSR)60、冷卻單元(COL)62、64、以及粘接單元(AD)66。這里，通過單元(PASSR)60以平流方式將基板G送到涂敷加工部28側(cè)。
如圖2所示，縱型輸送機(jī)構(gòu)46包括能夠沿著在鉛直方向延伸的導(dǎo)軌68升降移動的升降輸送體70；在該升降輸送體70上能夠沿著θ方向轉(zhuǎn)動或者旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)輸送體72；以及在該旋轉(zhuǎn)輸送體72上能夠一邊支撐基板G一邊沿著前后方向進(jìn)退或者伸縮的輸送臂或者小鑷子(pincette)74。對升降輸送體70進(jìn)行升降驅(qū)動用的驅(qū)動部76設(shè)置在垂直導(dǎo)軌68的基端側(cè)，對旋轉(zhuǎn)輸送體72進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動用的驅(qū)動部78安裝在升降輸送體70上，對輸送臂74進(jìn)行進(jìn)退驅(qū)動用的驅(qū)動部80安裝在旋轉(zhuǎn)輸送體72上。各驅(qū)動部76、78、80例如可以用電動機(jī)等構(gòu)成。這樣構(gòu)成的輸送機(jī)構(gòu)46能夠使兩個相鄰的多層單元部(TB)44、48中的任意一個單元選取高速升降乃至旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，也能夠與輔助輸送空間38側(cè)的往返運(yùn)輸器40交接基板G。
與涂敷加工部28的下游側(cè)相鄰的第二熱處理部30也有與上述第一熱處理部26同樣的結(jié)構(gòu)，在兩條加工線路A、B之間設(shè)置有縱型的輸送機(jī)構(gòu)90，將一個多層單元部(TB)88設(shè)置在加工線路A側(cè)(最末尾)，將另一個多層單元部(TB)92設(shè)置在加工線路B側(cè)(開頭)。另外，配置在顯影加工部32的下游側(cè)的第三熱處理部36也有與上述第一熱處理部26或者第二熱處理部30同樣的結(jié)構(gòu)，沿著加工線路B設(shè)置有縱型的輸送機(jī)構(gòu)100、以及在其前后兩側(cè)設(shè)置有一對多層單元部(TB)98、102。
接口臺(I/F)18具有進(jìn)行相鄰的曝光裝置12和基板G的互相交往用的輸送裝置104，在其周圍配置著緩沖載物臺(BUF)106、擴(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108、以及外圍裝置110。定置型的緩沖盒(圖中未示出)放置在緩沖載物臺(BUF)106上。擴(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108是具有冷卻功能的基板交接用的載物臺，使加工臺(P/S)16側(cè)和基板G互相交往時使用。外圍裝置110例如可以是使字幕拍錄裝置(TITLER)和外圍曝光裝置(EE)呈上下層疊的結(jié)構(gòu)。輸送裝置104具有能保持基板G的單元例如輸送臂104a，進(jìn)行相鄰的曝光裝置12或者各單元(BUF)106、(EXT·COL)108、(TITLER/EE)110和基板G的交接。
圖3中示出了對該涂敷顯影處理系統(tǒng)中的一個基板G的處理順序。首先，在盒臺(C/S)14中輸送機(jī)構(gòu)22從載物臺20上的規(guī)定的盒C中取出基板G，送入加工臺(P/S)16的清洗加工部24的輸送線路中(步驟S1)。
在清洗加工部24內(nèi)，在輸送線路上沿著加工線路A的方向平流地輸送基板G，途中在受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41以及除塵清洗單元(SCR)42中，依次進(jìn)行紫外線清洗處理和除塵清洗處理等(步驟S2、S3)。在除塵清洗單元(SCR)42內(nèi)，清洗處理后的基板G被送入一如原樣地被放置在該輸送線路上的第一熱處理部26的上游側(cè)開式塔(TB)44內(nèi)的通過單元(PASSL)50中。
在第一熱處理部26中，基板G由縱型輸送機(jī)構(gòu)46按照規(guī)定的順序，送回規(guī)定的單元。例如，基板G最初從通過單元(PASSL)50移動到加熱單元(DHP)52、54中的一個內(nèi)，在這里接受脫水處理(步驟S4)。其次，基板G移動到冷卻單元(COL)62、64中的一個內(nèi)，在這里基板冷卻到一定的溫度(步驟S5)。然后，基板G移動到粘接單元(AD)56、66中的一個內(nèi)，在這里接受疏水化處理(步驟S6)。該疏水化處理結(jié)束后，基板G在冷卻單元(COL)62、64中的一個內(nèi)冷卻到一定的溫度(步驟S7)。最后，基板G移動到屬于下游側(cè)多段單元部(TB)48的通過單元(PASSR)60中。
這樣，在第一熱處理部26內(nèi)，基板G通過輸送機(jī)構(gòu)46能在上游側(cè)的多段單元部(TB)44和下游側(cè)的多段單元部(TB)48之間任意地往返運(yùn)行。另外，在第二以及第三熱處理部30、36中也進(jìn)行同樣的基板輸送工作。
在第一熱處理部26中接受了上述的一系列熱或熱系列的處理的基板G，從下游側(cè)多段單元部(TB)48內(nèi)的通過單元(PASSR)60移動到下游側(cè)相鄰的涂敷加工部28的抗蝕劑涂敷單元(CT)82。
基板G在抗蝕劑涂敷單元(CT)82中，用旋涂法將抗蝕劑液涂敷在基板上表面(被處理面)上，此后，在下游側(cè)相鄰的減壓干燥單元(VD)84中，接受減壓干燥處理(步驟S8)。
在涂敷加工部28中接受了上述這樣的抗蝕劑涂敷處理的基板G被交給位于下游側(cè)相鄰的屬于第二熱處理部30的上游側(cè)多段單元部(TB)88的通過單元(PASS)。
在第二熱處理部30內(nèi)，基板G由輸送機(jī)構(gòu)90按照規(guī)定的順序，送回規(guī)定的單元。例如，基板G最初從該通過單元(PASS)移動到加熱單元(PREBAKE)中的一個內(nèi)，在這里接受抗蝕劑涂敷后烘焙(步驟S9)。其次，基板G移動到冷卻單元(COL)中的一個內(nèi)，在這里基板冷卻到一定的溫度(步驟S10)。然后，基板G經(jīng)由下游側(cè)多段單元部(TB)92側(cè)的通過單元(PASS)，或者不經(jīng)由而交給接口臺(I/F)18側(cè)的擴(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108。
在接口臺(I/F)18中，基板G被從擴(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108送入外圍裝置110的外圍曝光裝置(EE)，在這里接受了顯影時將附著在基板G的周邊部上的抗蝕劑除去用的曝光后，被送給相鄰的曝光裝置12(步驟S11)。
在曝光裝置12中，基板G上的抗蝕劑被曝光成規(guī)定的電路圖形。然后，結(jié)束了圖形曝光的基板G一旦從曝光裝置12返回接口臺(I/F)18(步驟11)，首先被送入外圍裝置110的字幕拍錄裝置(TITLER)，在這里，規(guī)定的信息被記載在基板上的規(guī)定的部位(步驟S12)。然后，基板G返回?cái)U(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108。接口臺(I/F)18中的基板G的輸送、以及與曝光裝置12中的基板G的互相交往由輸送裝置104進(jìn)行。
在加工臺(P/S)16上，在第二熱處理部30中輸送機(jī)構(gòu)90從擴(kuò)展·冷卻載物臺(EXT·COL)108接受曝光后的基板G，通過加工線路B側(cè)的多段單元部(TB)92內(nèi)的通過單元(PASS)，交給顯影加工部32。
在顯影加工部32中，將從該多段單元部(TB)92內(nèi)的通過單元(PASS)接收的基板G平流地送入顯影單元(DEV)94。在顯影單元(DEV)94中，基板G在向加工線路B的下游側(cè)平流式的輸送線路上輸送的期間，進(jìn)行洗滌、干燥一系列顯影處理(步驟S13)。
在顯影加工部32中接受了顯影處理的基板G被送入一如原樣地被放置在平流式的輸送線路上的下游側(cè)相鄰的脫色加工部34中，在這里，接受i線照射單元(i-UV)96進(jìn)行的脫色處理(步驟S14)。脫水處理后的基板G被交給第三熱處理部36的上游側(cè)多段單元部(TB)98內(nèi)的通過單元(PASS)。
在第三熱處理部36中，基板G最初從該通過單元(PASS)移動到加熱單元(POBAKE)中的一個中，在這里接受后烘焙(步驟S15)。其次，基板G移動到下游側(cè)多段單元部(TB)102內(nèi)的通過冷卻單元(PASS·COL)中，在這里基板冷卻到規(guī)定的溫度(步驟S16)。由輸送機(jī)構(gòu)100進(jìn)行第三熱處理部36中的基板G的輸送。
在盒臺(C/S)14側(cè)，輸送機(jī)構(gòu)22從第三熱處理部36的通過冷卻單元(PASS·COL)接收結(jié)束了涂敷顯影處理的全部工序的基板G，將接收的基板G收容在任意一個(通常是第一個)盒C中(步驟S1)。
在該涂敷顯影處理系統(tǒng)10中，能將本發(fā)明應(yīng)用于有平流式的輸送線路的顯影加工部32及清洗加工部24中。
實(shí)施方式1以下，參照圖4～圖13說明將本發(fā)明應(yīng)用于顯影加工部32的顯影單元(DEV)94中的一個實(shí)施方式。
圖4中模式地示出了該實(shí)施方式的顯影單元(DEV)94內(nèi)的總體結(jié)構(gòu)。該顯影單元(DEV)94如圖所示，沿著加工線路B設(shè)置沿著水平方向(X方向)延伸的平流式的輸送線路120，沿著該輸送線路120從上游側(cè)開始依次設(shè)置顯影部122、洗滌部124、以及干燥部126。
輸送線路120沿著輸送方向(X方向)以一定間隔敷設(shè)以使被處理面向上的姿勢輸送基板G用的滾柱128，以第二熱處理部30(圖1)中的多段單元部(TB)92內(nèi)的通過單元(PASS)為始點(diǎn)，通過顯影單元(DEV)94及脫色加工部34，以第三熱處理部36(圖1)中的多段單元部(TB)98內(nèi)的通過單元(PASS)為終端。輸送線路120的各滾柱128通過齒輪機(jī)構(gòu)或帶機(jī)構(gòu)，連接在例如有電動機(jī)的輸送驅(qū)動部(圖中未示出)上。
該輸送線路120沿著輸送方向(X方向)從始點(diǎn)到終點(diǎn)，位置高度并非連續(xù)地相同，途中在規(guī)定的地方有隆起部120a、120b、以及臺階部120c，如圖4所示，根據(jù)從輸送方向(X方向)的一側(cè)看到的輸送路徑的形狀，能區(qū)分為9個輸送區(qū)間M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9。
第一輸送區(qū)間M1是從多段單元部(TB)92的通過單元(PASS)內(nèi)的始點(diǎn)P0到設(shè)定在比顯影部122內(nèi)的出口稍微靠前(上游側(cè))的位置的第一區(qū)間變更點(diǎn)P1為止的區(qū)間，有照樣保持始點(diǎn)P0的高度位置的大致沿著水平直線延伸的水平輸送路徑。第二輸送區(qū)間M2是從上述第一區(qū)間變更點(diǎn)P1到設(shè)定在顯影部122和洗滌部124的邊界附近位置的第二區(qū)間變更點(diǎn)P2為止的區(qū)間，有到達(dá)比始點(diǎn)P0的高度位置高規(guī)定量(例如10～25mm)的第一隆起部120a的頂部為止以規(guī)定的傾斜角(例如2～5°)上升的向上傾斜的輸送路徑。
第三輸送區(qū)間M3是從上述第二區(qū)間變更點(diǎn)P2到設(shè)定在洗滌部124的入口附近的第三區(qū)間變更點(diǎn)P3為止的區(qū)間，有從上述第一隆起部120a的頂部至比它低規(guī)定量(例如10～25mm)的第一底部位置為止的以規(guī)定的傾斜角(例如2～5°)下降的向下傾斜的輸送路徑。第四輸送區(qū)間M4是從洗滌部124內(nèi)入口附近的上述第三區(qū)間變更點(diǎn)P3到設(shè)定在內(nèi)部靠后的規(guī)定位置的第四區(qū)間變更點(diǎn)P4為止的區(qū)間，有與上述第一底部位置相同高度大致沿著水平直線延伸的水平輸送路徑。
第五輸送區(qū)間M5是在洗滌部124內(nèi)從上述第四區(qū)間變更點(diǎn)P4到設(shè)定在離開它規(guī)定距離的下游側(cè)的位置的第五區(qū)間變更點(diǎn)P5為止的區(qū)間，具有到達(dá)比第一底部位置高規(guī)定量(例如10～25mm)的第二隆起部120b的頂部為止以規(guī)定的傾斜角(例如2～5°)上升的向上傾斜的輸送路徑。第六輸送區(qū)間M6是從洗滌部124內(nèi)上述第五區(qū)間變更點(diǎn)P5到設(shè)定在離開它規(guī)定的距離的下游側(cè)位置的第六區(qū)間變更點(diǎn)P6為止的區(qū)間，有從上述第二隆起部120b的頂部至比它低規(guī)定量(例如10～25mm)的第二底部位置為止的以規(guī)定的傾斜角(例如2～5°)下降的向下傾斜的輸送路徑。
第七輸送區(qū)間M7是在洗滌部124內(nèi)從上述第六區(qū)間變更點(diǎn)P6到設(shè)定在離開它規(guī)定距離的下游側(cè)的位置即比出口稍微靠前(上游側(cè))的位置的第七區(qū)間變更點(diǎn)P7為止的區(qū)間，具有與上述第二底部位置高度相同大致沿著水平直線延伸的水平輸送路徑。第八輸送區(qū)間M8是從上述第七區(qū)間變更點(diǎn)P7到設(shè)定在洗滌部124和干燥部126的邊界附近的第八區(qū)間變更點(diǎn)P8為止的區(qū)間，具有到比上述第二底部位置高規(guī)定量(例如10～25mm)的臺階部120c的上段位置為止以規(guī)定的傾斜角(例如2～5°)上升的向上傾斜的輸送路徑。
第九輸送區(qū)間M9是從上述第八區(qū)間變更點(diǎn)P8通過干燥部126以及脫色加工部34(圖1)至多段單元部(TB)98(圖1)的通過單元(PASS)內(nèi)的終點(diǎn)為止的區(qū)間，有使上述臺階部120c的上段位置的高度保持一定沿著水平直線延伸的水平輸送路徑。
另外，輸送線路120比起在各區(qū)間變更點(diǎn)進(jìn)行彎曲成銳角的線路變更，最好在其附近描繪適當(dāng)?shù)那拾霃竭M(jìn)行線路變更，另外，隆起部120a、120b也可以呈有平坦(水平)的頂部的臺形的形狀。
在顯影部122中，在第一輸送區(qū)間M1內(nèi)的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或者多個從上方朝向在輸送線路120上用滾柱輸送而移動的呈水平姿勢的基板G噴射基準(zhǔn)濃度的顯影液用的顯影液供給噴嘴(以下簡稱“顯影噴嘴”)130。各顯影噴嘴130例如由具有狹縫狀的噴射口或配置成一列的多個微細(xì)孔徑噴射口的長條形的噴嘴構(gòu)成，從圖中未示出的顯影液供給源通過管道供給顯影液。
在顯影部122內(nèi)，還設(shè)置有收集落到輸送線路120下方的顯影液用的盤132。該盤132的排液口通過排液管134通到顯影液再利用機(jī)構(gòu)136中。顯影液再利用機(jī)構(gòu)136通過盤132以及排液管134回收從顯影液噴嘴130將顯影液盛在基板G上時溢出而落下的顯影液，將原液或者溶劑加在回收的顯影液中，將調(diào)整為基準(zhǔn)濃度的再循環(huán)的顯影液送給上述顯影液供給源。
在洗滌部124中，在入口附近的第三輸送區(qū)間M3內(nèi)的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或多個從上方朝向通過輸送線路120的上述第一隆起部120a的向下斜面的基板G噴射液體置換(顯影停止)用的洗滌液的第一洗滌液供給噴嘴(以下簡稱“洗滌噴嘴”)138。另外，在中心部的第五輸送區(qū)間M5內(nèi)的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或多個從上方朝向通過輸送線路120的上述第二隆起部120b的向上斜面的基板G噴射清洗用的洗滌液的第二洗滌噴嘴140。另外，在其下游側(cè)相鄰的第六輸送區(qū)間M6內(nèi)的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或多個從上方朝向通過輸送線路120的第二隆起部120b的向下斜面的基板G噴射清洗用的洗滌液的第三洗滌噴嘴142。再者，在洗滌部124的出口附近第八輸送區(qū)間M8內(nèi)的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或者多個從上方朝向沿著輸送線路120的向上臺階部120c上升的基板G噴射最后清洗用的洗滌液的第四洗滌噴嘴145。各洗滌噴嘴138、140、142、145例如由具有與上述顯影液噴嘴130同樣結(jié)構(gòu)的長條形噴嘴構(gòu)成，從圖中未示出的洗滌液供給源通過管道供給洗滌液。
在洗滌部124內(nèi)，設(shè)置有收集落到輸送線路120下方的洗滌液用的盤144。該盤144的排液口通過排液管146通到洗滌液回收部(圖中未示出)。雖然圖中未示出，但還能設(shè)置從輸送線路120的下方對基板G的下表面噴射清洗用的洗滌液的下部洗滌噴嘴。
在干燥部126中，在第九輸送區(qū)間M9的始端附近的規(guī)定位置，沿著輸送方向配置一個或多個朝向上升到輸送線路120的上述臺階部120c后的基板G，從上方沿著與輸送方向相反的方向噴射將液體除去乃至干燥用的高壓氣流(通常為空氣流)的長條形的氣嘴或者氣刀148。也可以設(shè)置從輸送線路120的下方朝向基板G的下表面噴射將液體除去乃至干燥用的高壓氣流的下部氣刀(圖中未示出)。另外，在干燥部126內(nèi)也可以設(shè)置收集落到輸送線路120下方的液體用的盤(圖中未示出)。
在下游側(cè)相鄰的脫色加工部34中，設(shè)置有從上方朝向在輸送線路120上用滾柱輸送移動的基板G照射脫色處理用的i線(波長365nm)的i線照射單元(i-UV)96。
顯影單元(DEV)94將顯影部122、洗滌部124以及干燥部126收容在呈一體的外殼150內(nèi)，在不同的處理部之間的邊界上設(shè)置有將沿著輸送線路120周圍的空間分隔成上游側(cè)和下游側(cè)用的沿著鉛直方向延伸的隔壁152、154。更詳細(xì)地說，隔壁152設(shè)置在顯影部122和洗滌部124的邊界附近即第二輸送區(qū)間M2和第三輸送區(qū)間M3的邊界附近，隔壁154設(shè)置在洗滌部124和顯影部126的邊界附近即第八輸送區(qū)間M8和第九輸送區(qū)間M9的邊界附近。在各隔壁152、154上分別形成通向輸送線路120的開口156、158。
在該顯影單元(DEV)94中，各處理部122、124、126內(nèi)的空間通過隔壁152、154上的開口156、158互相連通。在顯影部122以及干燥部126中，利用將室外的空氣引入用的風(fēng)扇160、162、以及對來自這些風(fēng)扇160、162的空氣流進(jìn)行除塵的空氣過濾器164、166，清凈的空氣從天井向下流供給到室內(nèi)。其中，從顯影部122的天井供給的清凈空氣將顯影處理時發(fā)生的顯影液的霧卷入，通過上述隔壁152上的開口156，流入洗滌部124的室內(nèi)。另一方面，從干燥部126的天井供給的清凈空氣將干燥(液體除去)處理時發(fā)生的洗滌液的霧卷入，通過上述隔壁154上的開口158，流入洗滌部124的室內(nèi)。在洗滌部124的底部設(shè)置有例如安裝了有排氣泵或排氣扇的排氣機(jī)構(gòu)的排氣口170。如上所述從顯影部122側(cè)流入的混雜霧的空氣和從干燥部側(cè)流入的混雜霧的空氣將在洗滌部124內(nèi)發(fā)生的霧卷入并從左右合流，從排氣口170排出。
這里，說明該顯影單元(DEV)94的總體工作。如上所述，在第二熱處理部30(圖1)中，曝光后的基板G由輸送機(jī)構(gòu)90送入多段單元部(TB)92的通過單元(PASS)。如圖4所示，在該通過單元(PASS)內(nèi)，設(shè)置有從輸送機(jī)構(gòu)90(圖1)接收基板G的升降桿升降機(jī)構(gòu)172。如果用該升降桿升降機(jī)構(gòu)172在輸送線路120上水平地移動基板G，則通過輸送驅(qū)動部的驅(qū)動產(chǎn)生的一定速度的滾柱輸送，基板G被輸送到相鄰的顯影單元(DEV)94中。
在顯影單元(DEV)94中，最初在顯影部122中，在輸送線路120的第一輸送區(qū)間M1內(nèi)，基板G以水平姿勢移動的期間，由固定設(shè)置的顯影噴嘴130供給顯影液，從基板前端向基板后端以與輸送速度相等的掃描速度，將顯影液盛在基板G上。從基板G上溢出的顯影液被收集在盤132中。
如上所述，盛上了顯影液的基板G此后在第二輸送區(qū)間M2內(nèi)沿著第一隆起部120a的向上傾斜路徑上升，在這里基板G上的顯影液在重力作用下向下方即向后方移動，從基板后端落下。落下來的顯影液被收集在盤132中。這時，在基板G上從基板的前端側(cè)向后端側(cè)，以與輸送速度大致相等的移動速度進(jìn)行顯影液的除去。這樣越過了第一隆起部120a的基板G在其上面殘留著非常薄的顯影液薄膜的狀態(tài)下，到達(dá)洗滌部124側(cè)的向下傾斜路徑(第三輸送區(qū)間M3)。
在洗滌部124中，基板G沿著第三輸送區(qū)間M3的向下傾斜路徑下降時，上方的洗滌噴嘴138通過將洗滌液供給到基板G上，薄薄地殘留在基板G各部分上的顯影液受到重力和洗滌液流的壓力，向前方流下，從基板前端流出。流到了基板G的前方的顯影液以及洗滌液被收集在盤144中。這樣顯影液在基板G上從基板G的前端側(cè)向后端側(cè)以與輸送速度大致相等的速度被置換成洗滌液，顯影停止。
如上所述結(jié)束了顯影處理的基板G通過水平的第四輸送區(qū)間M4，在下一個第五輸送區(qū)間M5內(nèi)沿著第二隆起部120b的向上傾斜路徑上升。這時，殘留在基板G上置換用的洗滌液在重力作用下從基板前端側(cè)向后方移動，從基板后端落下。另外，一次清洗用的洗滌液由上方的洗滌噴嘴140供給到基板G上，一邊將舊的洗滌液趕除去，該新的洗滌液也一邊從基板后端落下。流到了基板后方的洗滌液被收集到盤144中。這樣，越過了第二隆起部120b的頂點(diǎn)的基板G，在一次清洗用的洗滌液以薄薄的液膜殘留在它上面的狀態(tài)下，到達(dá)第二隆起部120b的向下傾斜路徑(第六輸送區(qū)間M6)。
其次，基板G沿著第二隆起部120b的向下傾斜路徑(M6)下降時，二次清洗用的新的洗滌液由上方的洗滌噴嘴142供給到基板G上，將薄薄的殘留在基板G上的一次清洗液趕到前方的新的洗滌液也從基板前端落下。在基板G的前方落下的洗滌液被收集在盤144中。
如上所述結(jié)束了洗滌處理的基板G通過水平的第七輸送區(qū)間M7，在下一個第八輸送區(qū)間M8內(nèi)沿著上升臺階部120c的傾斜路徑上升。這時，殘留在基板G上的加工用洗滌液在重力作用下從基板前端側(cè)向后方移動，從基板后端落下。另外，最后清洗用的洗滌液由上方的洗滌噴嘴145供給到基板G上，一邊將舊的洗滌液趕除去，該新的洗滌液也一邊從基板后端落下。流到了基板后方的洗滌液被收集到盤144中。然后，基板G沿著臺階部120c上升，一旦進(jìn)入干燥部126側(cè)即第九輸送區(qū)間M9內(nèi)的上段輸送路徑，便通過氣刀148將與輸送方向相反方向的高壓氣流射向基板G，將殘留在基板G上的洗滌液推到基板后方，從基板后方趕出(液體除去)。從基板G的后方飛出去的洗滌液被收集在盤144中。
這樣，在顯影單元(DEV)32內(nèi)結(jié)束了一系列顯影處理工序的基板G直接移動到輸送線路120上，在下游側(cè)相鄰的脫色加工部34中接受脫色處理后，被送到多段單元部(TB)98(圖1)的通過單元(PASS)中。
如上所述，在該實(shí)施方式的顯影單元(DEV)32中，基板G通過具有一定速度的滾柱輸送而在將單元縱斷的輸送線路120上移動，在其平流式的移動中，在顯影部122、洗滌部124以及干燥部126中分別依次進(jìn)行顯影處理、洗滌處理、干燥處理。
特別是在顯影部122中，在水平輸送線路(M1)上的規(guī)定位置，顯影液被盛在呈水平姿勢的基板G上，從這里開始在輸送線路120的下游側(cè)位于離開規(guī)定的距離的地方的第一隆起部120a的傾斜路徑上，利用重力除去顯影液乃至停止顯影。特別是由于基板G沿著第一隆起部120a的向上傾斜路徑(M2)上升時，基板G上的顯影液的大部分流向后方，所以不需要特意使基板停止并舉起，從水平姿勢變換成傾斜姿勢。而且，基板G一旦越過向上傾斜路徑(M2)，在基板G的上表面(被處理面)還未干燥時，便絲毫不差地在向上傾斜路徑(M3)上供給液體置換用的洗滌液，所以能防止在液體置換之前由所不希望的干燥引起的顯影不良(發(fā)生斑痕等)。另外，由于在基板G的各部分上進(jìn)行顯影液的除去乃至顯影停止的掃描方向及速度，與顯影液盛在基板G的各部分上時的掃描方向及速度相等，所以能提高面內(nèi)的顯影時間的均勻性，進(jìn)而提高顯影的均勻性。另外，基板G通過隆起部120a時形成的基板隆起部或傾斜部是局部的(瘤狀)，從基板總體來看，基板上的顯影液流是低速平緩的。因此，難以引起基板上的液流紊亂或斷流。這一點(diǎn)，在使基板總體從水平姿勢急劇地變換到規(guī)定角度的傾斜姿勢的現(xiàn)有方式中，容易引起在基板上快速流下的顯影液紊亂或者斷流，成為顯影模糊的原因。
在洗滌部124中，基板G通過輸送線路120的第二隆起部120b時，在其向上傾斜路徑(M5)上進(jìn)行一次清洗，在向下傾斜路徑(M6)上進(jìn)行二次清洗。在傾斜路徑(M5、M6)上基板G上的洗滌液受重力作用而自然地流到基板后方或者基板前方并流下，所以能夠有效地進(jìn)行基板的清洗。另外，通過向上傾斜路徑(M5)時基板上的洗滌液靠向后方，從基板后端落下，所以能省略在該向上傾斜路徑(M5)上供給清洗水的洗滌噴嘴140。可是，用必要最小限度的清洗水快速地沖洗停止顯影用的洗滌液后，在該向上傾斜路徑(M5)上進(jìn)行一次清洗非常有效。因此，只在向下傾斜路徑(M6)側(cè)排列多個洗滌噴嘴142，將其中的一個作為向上傾斜路徑(M5)側(cè)的一次清洗用的洗滌噴嘴140配置的方法在性能價格比方面有利。
在該實(shí)施方式中，在其稍微下游側(cè)設(shè)置在上升臺階部120c的上方的洗滌噴嘴145具有與上述洗滌噴嘴140同樣的作用和效果，所以也能夠構(gòu)成將第二隆起部120b省略的結(jié)構(gòu)、即置換成水平直線的輸送路徑的結(jié)構(gòu)。在此情況下，也可以沿著水平輸送路徑配置上述洗滌噴嘴140、142，或者也可以省略。
在干燥部126中，基板G通過輸送線路120的臺階部120c時，在其向上傾斜路徑(M8)上殘留在基板G上的洗滌液的大部分受重力作用而自然地流到基板后方并流下，所以能節(jié)省配置在上段的水平輸送路徑(M9)側(cè)的氣刀148的個數(shù)和干燥用氣體的消費(fèi)量。另外，也能將氣刀148設(shè)置在向上傾斜路徑(M8)的上方。
另外，在顯影單元(DEV)32的外殼150內(nèi)，使由設(shè)置在顯影部122中的清凈空氣供給部(160、164)供給的清凈空氣流從顯影部122流向洗滌部124，使由設(shè)置在干燥部126中的清凈空氣供給部(162、166)供給的清凈空氣流從干燥部126流向洗滌部124。在顯影部122及干燥部126內(nèi)發(fā)生的霧被快速地收集到洗滌部124中，霧不會從洗滌部124向顯影部122及干燥部126倒流。由此，能有效地且可靠地防止在顯影部122及干燥部126內(nèi)霧再次附著在基板G上。另外，在洗滌部124內(nèi)霧即使附著在基板G上，也會與洗滌液一起被立刻洗掉，所以沒有任何障礙。
其次，就圖5～圖13，說明該實(shí)施方式的顯影單元(DEV)32中各部的實(shí)施例及作用。
如上所述，盛上了顯影液的基板G沿著輸送線路120的隆起部120a的向上傾斜路徑M2上升時，基板G上的液體受重力作用而向后方靠近。這時，顯影液在表面張力作用下從基板G的后端落下，所以優(yōu)選施加一種破壞該表面張力促使顯影液順暢且均勻地流下的適當(dāng)?shù)耐饬蜃饔谩?br> 圖5表示從這樣的觀點(diǎn)出發(fā)適合用于向上傾斜路徑M2的滾柱輸送路徑的結(jié)構(gòu)。在該結(jié)構(gòu)例中，在輸送線路120的滾柱128中，對應(yīng)于輸送區(qū)間使用兩種滾柱128A、128B。詳細(xì)地說，構(gòu)成水平輸送路徑M1以及向下傾斜路徑M3的第一類型的滾柱128A這樣構(gòu)成將直徑大的滾輪部174固定安裝在比較細(xì)的軸172的多個地方，將基板G放置在滾輪部174上，進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。用于向上傾斜路徑M2的第二類型的滾柱128B這樣構(gòu)成有與第一類型的滾輪部174直徑相同的圓柱或圓筒狀的軸176，將基板G放置在該軸176本身上，進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。另外，在第二類型的滾柱128B上，優(yōu)選沿著軸向以適當(dāng)?shù)拈g隔安裝多個例如橡膠制的防止打滑用的環(huán)177。
如圖7所示，第二類型的滾柱128B將基板G的后端推出時，由于滾柱128B的軸176接觸在基板G的后端整個邊緣部上，所以顯影液R從基板G的后端整個邊緣部均勻地卷繞在軸176上并灑落下來。
在圖5中，各滾柱128(128A、128B)將兩端部可旋轉(zhuǎn)地支撐在軸承178上，帶傳動機(jī)構(gòu)的同步帶182纏掛在安裝在一端部側(cè)的軸承178外側(cè)端上的齒輪式帶輪180上。該同步帶182連接在由電動機(jī)構(gòu)成的輸送驅(qū)動部(圖中未示出)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動軸上。另外，各滾柱128的齒輪式帶輪180及同步帶182配置在外殼150的外面。
如圖6所示，惰輪184配置在相鄰的滾柱128、128之間。各惰輪184能夠在將同步帶182繞掛在各齒輪式帶輪180上用的連接位置(用實(shí)線表示的位置)和將同步帶182從各齒輪式帶輪180上取下來用的位置(用虛線表示的位置)之間切換。
圖8中示出了在輸送線路120的向上傾斜路徑M2上協(xié)助顯影液從基板G的后端灑落用的另一種方法。該方法是將氣體噴嘴或氣刀186配置在向上傾斜路徑M2的適當(dāng)位置例如底部位置的上方，從該氣刀186臨時或者瞬間向基板G的后端部噴出高壓氣體(通常為高壓空氣)，用該高壓氣體的壓力將顯影液R從基板G的后端吹落到后方。
圖9所示的結(jié)構(gòu)適合于以較大的斜率形成輸送線路120的向上傾斜路徑M2的情況下使用，如圖所示，帶狀循環(huán)帶188掛在相鄰的滾柱128、128之間?；錑在向上傾斜路徑M2的入口，從到此為止的水平移動變?yōu)橄蛏弦苿訒r，基板G的前端被放在帶188上，能平滑地移動到上段側(cè)的滾柱122上。
圖10所示的結(jié)構(gòu)是在輸送線路120的向上傾斜路徑M2上除去液體時可靠地防止顯影液的殘留液殘留在基板G的后端部用的結(jié)構(gòu)，在向上傾斜路徑M2的上方、最好比頂部稍微靠上游側(cè)的位置，以規(guī)定的高度配置與基板G的左右兩側(cè)邊緣部接觸的一對滾輪190。
基板G通過向上傾斜路徑M2時，基板G上的液體在重力作用下向基板后方靠攏，從基板后端落下，但如果基板G的大部分從基板前端移動到向下傾斜路徑M3側(cè)，則基板G的后端部向上離開上傾斜路徑M2。這時，如果基板G的后端部如虛線G’所示較大地向上眺起，則顯影液的殘留液有可能殘留在基板G的后端部?？墒牵绻捎迷摻Y(jié)構(gòu)例，則即使基板G的后端部向上離開上傾斜路徑M2，但由于一邊受滾輪190的高度限制，一邊直至頂部附近都能維持后傾姿勢，所以直至最后的最后能逐漸地將基板G上的液體除去。另外也能構(gòu)成使?jié)L輪190旋轉(zhuǎn)而將基板G向前方輸送的結(jié)構(gòu)。
圖11表示將促使液體除去用的氣刀192配置在輸送路徑120的向上傾斜路徑M2的上方的結(jié)構(gòu)?；錑沿著向上傾斜路徑M2上升時，通過氣刀192從上方向下吹氣流，能促使顯影液在基板G上向下流到后方。上傾斜路徑M2的傾斜角或者高度差小時，能夠適用該結(jié)構(gòu)。
另外，上述的各部的實(shí)施例(圖5～圖11)不限定于對輸送路徑120的第一隆起部120a的適用，也能適用于第二隆起部120b和臺階部120c。
圖12中模式地示出了基板G在輸送路徑120上通過第一隆起部120a時的液處理動作。如圖所示，基板G利用其撓性，在全長的一部分上仿照隆起部120a形成突條樣的基板隆起部Ga，而且以等于輸送速度的速度，使基板隆起部Ga從基板的前端到后端一邊沿著與輸送方向相反的方向相對地移動，一邊通過輸送線路120的隆起部120a。輸送方向上的第一隆起部120a的區(qū)間長度、即輸送區(qū)間M2、M3相加的長度例如為數(shù)十cm左右，比基板G的全長(例如100～250cm)短。
在向上傾斜路徑M2上，在基板G上顯影液R利用重力流向基板后方，顯影液R的液膜從基板G的前端向后端以等于輸送速度的速度從盛滿液體的狀態(tài)變化到薄膜R的狀態(tài)。在變成了薄膜R’的時刻，顯影達(dá)到終盤(例如95％以上)。
如果基板G越過隆起部120a的頂點(diǎn)移動到向下傾斜路徑M3，便通過從上方的洗滌噴嘴138以帶狀的噴射流供給洗滌液S，基板G上的洗滌液S在附著液的線附近，呈薄膜狀態(tài)的顯影液R’快速地被置換成洗滌液S，顯影完全停止。置換后的顯影液R’向前方流下，從基板前端落下。這時，被置換成了洗滌液的顯影液R’流過的區(qū)域已經(jīng)(前一瞬間)停止顯影，所以顯影的進(jìn)行不受任何影響。另外，如圖12所示，將隆起部120a夾在中間，顯影液R在基板后端側(cè)的區(qū)域中流動，另一方面，洗滌液S在基板前端側(cè)的區(qū)域中流動，所以基板G總體能用液體的重量保持穩(wěn)定的姿勢，通過輸送線路120的隆起部120a。另外，基板G通過隆起部120a時，在其頂部前后，就是說在基板前端側(cè)和基板后端側(cè)，能不混合地供給不同的液體(顯影液和洗滌液)，能防止顯影模糊。因?yàn)樵诨錑上顯影液和洗滌液一旦混合，基板G的各部分上液體濃度不同，容易引起顯影斑跡。另外，不停止基板G的輸送，在短距離或空間內(nèi)能有效地將基板G上的不同的液體分別回收到各不相同的盤132、144中。
即使在輸送線路120的第二隆起部120b上，只由于液體不同也具有與上述第一隆起部120a同樣的作用。不過，如上所述，也能省略第二隆起部120b，用呈水平直線的輸送線路構(gòu)成該區(qū)間。
圖13中，模式地示出了基板G通過輸送線路120的臺階部120c(輸送區(qū)間M8)時的液體除去的動作。如圖所示，基板G利用其撓性，在全長的一部分上仿照隆起部120a形成突條樣的基板隆起部Gc，而且以等于輸送速度的速度，使基板隆起部Gc從基板的前端到后端一邊沿著與輸送方向相反的方向相對地移動，一邊通過輸送線路120的上升臺階部120c(M8)。
在該上升臺階部120c(M8)上，在基板G上使用過的洗滌液S以及從洗滌噴嘴145供給到基板G上的新的洗滌液S利用重力向基板后方流，洗滌液S的液膜從基板G的前端向后端以大致等于輸送速度的速度從盛滿液體的狀態(tài)變化到薄膜S’的狀態(tài)?；錑一旦越過臺階部120c(M8)，進(jìn)入上段的水平輸送路徑M9，便通過從上方的氣刀148沿著與輸送方向相反的方向以刀狀的噴射流的形式吹出高壓氣流，在基板G上以薄膜狀態(tài)殘留的洗滌液S’向基板后端側(cè)集中，從基板上除去。
實(shí)施方式2其次，參照圖14～圖17說明將本發(fā)明應(yīng)用于清洗加工部24的一種實(shí)施方式。
圖14中示出了本發(fā)明的一種實(shí)施方式的清洗加工部24內(nèi)的結(jié)構(gòu)。該清洗加工部24如圖所示，沿著加工線路A設(shè)置沿著水平方向(X方向)延伸的平流式的輸送線路200，沿著該輸送線路200配置受激準(zhǔn)分子照射單元(e-UV)41和除塵清洗單元(SCR)42。而且，在除塵清洗單元(SCR)42內(nèi)，從上游側(cè)開始依次設(shè)置有送入部202、除塵清洗部204、吹風(fēng)清洗部206、洗滌部208、干燥部210以及送出部212。
輸送線路200沿著輸送方向(X方向)以一定間隔敷設(shè)使被處理面采取朝上的姿勢輸送基板G用的滾柱214，在清洗加工部24的入口具有始點(diǎn)，穿越受激準(zhǔn)分子照射單元(e-UV)41以及除塵清洗單元(SCR)42，第一熱處理部26(圖1)中的多段單元部(TB)44內(nèi)的通過單元(PASSL)50(圖2)為終端。輸送線路200的各滾柱214例如通過齒輪機(jī)構(gòu)或者帶機(jī)構(gòu)等傳動機(jī)構(gòu)，連接在具有電動機(jī)的輸送驅(qū)動部(圖中未示出)上。
該輸送線路200沿著輸送方向(X方向)從始點(diǎn)至終點(diǎn)同一高度位置也不是連續(xù)的，途中在規(guī)定的位置有隆起部200a、200b、上升臺階部200c以及下降臺階部200d。更詳細(xì)地說，第一隆起部200a設(shè)置在送入部202內(nèi)，第二隆起部200b設(shè)置在吹風(fēng)清洗部206內(nèi)，上升臺階部200c設(shè)置在洗滌部208內(nèi)，下降臺階部200d設(shè)置在干燥部210和送出部212的邊界附近，這些起伏部以外的輸送區(qū)間形成水平直線輸送路徑。
受激準(zhǔn)分子照射單元(e-UV)41在輸送線路200的上方，設(shè)置有收容紫外燈216的燈室218。紫外燈216例如由電介質(zhì)阻擋層放電燈構(gòu)成，將適合于有機(jī)污染的清洗用的波長為172nm的紫外線(受激準(zhǔn)分子紫外光)通過石英玻璃窗220照射在正下方的輸送線路200上的基板G上。在紫外燈216的背后或上方設(shè)置有橫斷面呈圓弧狀的凹面反射鏡222。
在除塵清洗單元(SCR)42中，以向下流的方式供給清凈的空氣的風(fēng)扇過濾單元(FFU)224安裝在送入部202的天井上。噴嘴、氣刀等工具設(shè)置在第一隆起部200a的上方。
在除塵清洗部204內(nèi)，沿著輸送線路200從上游側(cè)開始依次配置氣幕噴嘴226、藥液供給噴嘴228、滾筒刷子230以及清洗噴射管232。氣幕噴嘴226這樣配置對從其正下方通過的基板G的上表面，向輸送方向的下游側(cè)噴射狹縫狀的空氣流。在氣幕噴嘴226的正下方，配置沿著全長有圓筒狀的軸的第二類型的滾柱214。藥液供給噴嘴228、滾筒刷子230及清洗噴射管232能將輸送線路200夾在中間設(shè)置在其上下兩側(cè)。
在吹風(fēng)清洗部206內(nèi)，在第二隆起部200b的向上傾斜路徑的上方，作為吹風(fēng)清洗用噴嘴設(shè)置有例如雙流體噴嘴234。在洗滌部208內(nèi)，在上升臺階部200c的上方，設(shè)置有洗滌噴嘴236。在干燥部210內(nèi)，在水平輸送路徑的上方設(shè)置有氣刀238。另外，也可以將輸送線路200夾在中間，在其上下兩側(cè)設(shè)置洗滌噴嘴236以及氣刀238。另外，也能夠在吹風(fēng)清洗部206中設(shè)置從輸送線路200的下方對基板G的下表面(背面)噴射清洗用的洗滌液的下部洗滌噴嘴(圖中未示出)。在送出部212的天井中，也能安裝以向下流的方式供給清凈的空氣的風(fēng)扇過濾單元(FFU)240。在下降臺階部200d的上方不特別設(shè)置噴嘴、氣刀等工具。
在相鄰的單元或者處理部41、202、204、206、208、210、212之間，分別設(shè)置有隔壁242、244、246、248、250、252。另外，在對液體進(jìn)行處理的處理部204、206、208、210內(nèi)，分別設(shè)置有收集下落到輸送線路200下方的液體用的盤254、256、258、260?；厥障到y(tǒng)或排液系統(tǒng)的管道連接在設(shè)置在各盤的底上的排液口上。另外，在位于除塵清洗單元(SCR)42的中心部的吹風(fēng)清洗部206內(nèi)的底部上，設(shè)置有例如通過有排氣泵或排氣扇的排氣機(jī)構(gòu)(圖中未示出)的排氣口262。
這里，說明該清洗加工部24的總體工作及作用。
如上所述，利用盒臺(C/S)14側(cè)的輸送機(jī)構(gòu)22，將未處理的基板G送入輸送線路200上，以滾柱輸送的平流方式向加工線路A的下游側(cè)輸送。
在受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41中，由燈室218內(nèi)的紫外燈216發(fā)生的紫外線透過石英玻璃窗220，照射在輸送線路200上的基板G上。由該紫外線激勵基板表面附近的氧而產(chǎn)生臭氧，基板表面上的有機(jī)物利用該臭氧進(jìn)行氧化·汽化而被除去。
這樣，在受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41中接受了紫外線清洗處理的基板G進(jìn)入下游側(cè)相鄰的除塵清洗單元(SCR)42，通過送入部202內(nèi)的第一隆起部200a，而被送給除塵清洗部204。
在除塵清洗部204中，最初由藥液噴嘴228例如將酸或堿系列藥液噴射到基板G上。殘留在基板G上的藥液由于受到來自氣幕噴嘴226的空氣流的作用，所以在基板G上流到上游側(cè)，而不會進(jìn)入送入部202側(cè)。另外，圓筒滾柱214B具有一邊堵塞基板G的表面?zhèn)纫贿呥M(jìn)行輸送，致使液體不會沿著基板G的背面來到送入部202側(cè)的功能。被供給了藥液的基板G此后從滾筒刷子230的下面一邊受到擦拭一邊穿過。滾涂刷子230在圖中未示出的刷子驅(qū)動部的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的作用下，沿著與輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)，將基板表面上的異物(塵埃、破片、污染物等)擦除。此后，清洗噴射管232將清洗液例如純水噴射到基板G上，將基板上浮游的異物洗掉。在除塵清洗部204內(nèi)從基板G乃至輸送線路200落下來的液體被收集到盤254中。
此后，基板G進(jìn)入吹風(fēng)清洗部206，到達(dá)第二隆起部200b，在該向上傾斜路徑中上升時，接受由雙流體噴嘴234進(jìn)行的吹風(fēng)清洗。雙流體噴嘴234對準(zhǔn)沿著第二隆起部200b的向上傾斜路徑上升的基板G上液膜的厚度變薄的地方，噴射加壓的清洗液(例如水)和加壓的氣體(例如氮)的混合流體，用加壓的兩種流體非常強(qiáng)的沖擊力，將附著或殘留在基板G的表面上的異物除去?；錑上的液體的大部分在隆起部200b的向上傾斜路徑側(cè)被吹到下方(上游側(cè))，被收集到盤256中。在隆起部200b的向下傾斜路徑側(cè)即在洗滌部208中被帶到基板G上的液體幾乎沒有。
在洗滌部208中，洗滌噴嘴236向沿著上升臺階部200c上升的基板G，供給最終清洗用的洗滌液。被供給到基板G上的洗滌液在基板上向基板后端側(cè)流，其大部分落到洗滌部208內(nèi)的盤258中。這樣將洗滌液噴射到沿著上升臺階部200c上升的呈傾斜姿勢的基板G上，進(jìn)行洗滌處理的方式，與將洗滌液噴射到呈水平姿勢的基板上的現(xiàn)有的方式相比，基板上的液流和置換效率好，能大幅度地降低洗滌液的用量。
如果基板G沿著上升臺階部200c上升并進(jìn)入水平運(yùn)行路徑區(qū)間，則等待氣刀238，沿著與輸送方向相反的方向?qū)錑噴射高壓氣流。由此，殘留在基板G上的洗滌液向基板后方集中，從基板后端排出(液體除去)。
從送入部202的天井中的風(fēng)扇過濾單元(FFU)224向下供給的清凈空氣通過上述隔壁244、246的開口(基板通路)，流入吹風(fēng)清洗部206的室內(nèi)，這時在除塵清洗部204內(nèi)發(fā)生的藥液等的霧也進(jìn)入吹風(fēng)清洗部206內(nèi)。另一方面，從送出部212的天井中的風(fēng)扇過濾單元(FFU)240向下供給的清凈空氣通過上述隔壁252、250、248的開口(基板通路)，流入吹風(fēng)清洗部206的室內(nèi)，這時在干燥室210及洗滌部208內(nèi)發(fā)生的洗滌液等的霧也進(jìn)入吹風(fēng)清洗部206內(nèi)。于是，從送入部202一側(cè)流來的混雜霧的空氣、以及從送出部212一側(cè)流來的混雜霧的空氣，也將在吹風(fēng)清洗部206內(nèi)發(fā)生的霧卷入，從左右合流后從底部的排氣口262排出。因此，在吹風(fēng)清洗部206內(nèi)發(fā)生的霧不會進(jìn)入相鄰的室、特別是洗滌部208中。
如上所述，在除塵清洗單元(SCR)42中，在平流式的輸送線路200的中途設(shè)置有隆起部200b及上升臺階部200c，而且在它們的上方及其附近，配置吹風(fēng)清洗用噴嘴或洗滌噴嘴等工具，關(guān)于基板G上的液體處理，能獲得與上述的第一實(shí)施方式的顯影單元(DEV)32同樣的作用和效果。
另外，該除塵清洗單元(SCR)42在其入口或送入部202內(nèi)設(shè)置有隆起部200a，在其出口或送出部212內(nèi)設(shè)置有下降臺階部200d。
就圖15～圖17，說明設(shè)置在送入部202內(nèi)的隆起部200d的作用。另外，省略氣幕噴嘴226。
如圖15及圖16所示，利用隆起部200a的壁，阻止從除塵清洗單元(SCR)42內(nèi)的藥液供給噴嘴228滴到基板G上的藥液K向上游側(cè)擴(kuò)展(特別是用虛線270表示的在基板中央部的擴(kuò)展)。
另外，如果在系統(tǒng)的工作中突然發(fā)生報警，輸送線路200停止，則在輸送線路200上移動的各基板G便停止在液體處理過程中的各個位置上。這時，即使基板G跨越受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41和除塵清洗單元(SCR)42停止，但如圖17所示，利用隆起部200a的壁，依然能阻止(阻塞)基板G上的藥液K進(jìn)入受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41。
如果藥液等其他液體進(jìn)入受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41內(nèi)，則成為石英玻璃窗220和紫外燈216等劣化和故障的原因。因此，迄今在受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41和藥液供給噴嘴228之間設(shè)置了一個基板大小的空間間隔或緩沖區(qū)。如果采用該實(shí)施方式，則利用上述這樣的隆起部200a的阻塞功能，能省略這樣大小空間的緩沖區(qū)，能夠盡可能地在受激準(zhǔn)分子UV照射單元(e-UV)41附近，配置除塵清洗單元(SCR)42側(cè)配置的藥液供給噴嘴228。另外，也能用下降臺階部代替該隆起部200a。
送出部212內(nèi)的下降臺階部200d是使輸送線路200的始點(diǎn)和終點(diǎn)的高度位置一致用的部分。如上所述在送入部202內(nèi)設(shè)置有下降臺階部的情況下，在送出部212內(nèi)就不需要下降臺階部200d了。
以上，雖然說明了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但本發(fā)明不限定于上述的實(shí)施方式，在其技術(shù)思想的范圍內(nèi)，能進(jìn)行各種變形或變更。例如，在上述顯影加工部32的輸送線路200或清洗加工部24的輸送線路200中，能以任意的順序及在任意的位置設(shè)置上述這樣的隆起部或臺階部。例如，在上述顯影加工部32的輸送線路120中，也能在顯影部122的入口附近設(shè)置隆起部或下降臺階部。由此，從顯影噴嘴130供給到基板G上的顯影液不會影響上游側(cè)相鄰的其他單元，且能使輸送線路120的始點(diǎn)的高度位置與終點(diǎn)的高度位置一致。另外，也能將設(shè)在除塵清洗單元(SCR)42中的氣幕噴嘴226及圓筒滾柱214B的結(jié)構(gòu)或功能應(yīng)用于顯影單元(DEV)94中。上述實(shí)施方式的輸送線路120、200中的基板G的仰臥姿勢雖然是水平姿勢或前后方向(X方向)的傾斜姿勢，但也可以取左右方向(Y方向)等其他方向的姿勢。
上述的實(shí)施方式雖然是關(guān)于顯影處理裝置及清洗處理裝置的實(shí)施方式，但本發(fā)明能適用于用一種或多種處理液對基板進(jìn)行所希望的處理的任意的處理裝置。本發(fā)明中的被處理基板不限于LCD基板，也可以是平面顯示器用的各種基板、或半導(dǎo)體芯片、CD基板、玻璃基板、光掩模、印刷基板等。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括平流式的輸送線路，該平流式的輸送線路包括沿著水平的規(guī)定的輸送方向敷設(shè)使被處理面取朝上的姿勢輸送被處理基板用的輸送體，沿著所述輸送方向具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第一輸送區(qū)間，接在所述第一輸送區(qū)間之后具有向上傾斜的輸送路徑的第二輸送區(qū)間，接在所述第二輸送區(qū)間之后具有向下傾斜的輸送路徑的第三輸送區(qū)間，以及接在所述第三輸送區(qū)間之后具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第四輸送區(qū)間；為了在所述輸送線路上輸送所述基板而驅(qū)動所述輸送體的輸送驅(qū)動部；在所述第一或者第二輸送區(qū)間內(nèi)將第一處理液供給到所述基板上的第一處理液供給部；以及在所述第三輸送區(qū)間內(nèi)將第二處理液供給到所述基板上的第二處理液供給部。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于沿著所述輸送方向，所述第二輸送區(qū)間的長度比基板的尺寸短。
3.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于沿著所述輸送方向，使所述第二輸送區(qū)間和所述第三輸送區(qū)間相加的區(qū)間的長度比所述基板的尺寸短。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于沿著所述輸送方向，在所述第二輸送區(qū)間的終端部和所述第三輸送區(qū)間的始端部之間，實(shí)質(zhì)上形成水平輸送路徑。
5.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第二輸送區(qū)間內(nèi)，具有將從所述輸送線路的輸送路徑向上方離開的所述基板的部位抑制在規(guī)定的高度位置的基板抑制部。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于所述基板抑制部具有與所述基板的左右兩緣部接觸的可旋轉(zhuǎn)的一對滾輪。
7.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第一處理液供給部的下游側(cè)的所述第二輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置，具有將液體除去用的氣體噴射到所述基板上的第一氣刀。
8.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第一處理液供給部的下游側(cè)的所述第一或者第二輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置，具有觸發(fā)所述第一處理液從所述基板的后端落下用的液體除去觸發(fā)部。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于所述液體除去觸發(fā)部由在所述輸送路徑上作為所述輸送體而配置的外徑呈一定的圓柱狀或者圓筒狀的滾柱構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于所述液體除去觸發(fā)部包括從上方沿著與所述輸送方向相反的方向?qū)饬鲊娚涞剿龌宓暮蠖瞬可系臍怏w噴嘴。
11.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一處理液供給部具有在所述第一輸送區(qū)間內(nèi)的規(guī)定位置向所述基板噴射所述第一處理液的處理液供給噴嘴，所述輸送驅(qū)動部使所述基板以一定的速度通過所述第一以及第二輸送區(qū)間進(jìn)行輸送。
12.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于具有在所述第一以及第二輸送區(qū)間，在所述輸送路徑的下方收集落下來的液體用的第一液體收集部；和在所述第三以及第四輸送區(qū)間，在所述輸送路徑的下方收集落下來的液體用的第二液體收集部。
13.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第二輸送區(qū)間和所述第三輸送區(qū)間的邊界附近，具有將沿著所述輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第一隔壁。
14.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述輸送線路包括接在所述第四輸送區(qū)間之后具有向上傾斜的輸送路徑的第五輸送區(qū)間；以及接在所述第五輸送區(qū)間之后具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第六輸送區(qū)間。
15.如權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于沿著所述輸送方向，所述第五輸送區(qū)間的長度比所述基板的尺寸短。
16.如權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于為了在所述第五或者第六輸送區(qū)間內(nèi)輔助來自所述基板上的所述處理液的液體除去，具有沿著與所述輸送方向相反方向?qū)怏w噴射到所述基板上的第二氣刀。
17.如權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第五輸送區(qū)間和所述第六輸送區(qū)間的邊界附近，具有將沿著所述輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第二隔壁。
18.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述輸送線路包括在所述第一輸送區(qū)間的上游側(cè)，在比所述第一輸送區(qū)間高的位置具有實(shí)質(zhì)上呈水平的輸送路徑的第七輸送區(qū)間；以及在所述第七輸送區(qū)間和所述第一輸送區(qū)間之間具有向下傾斜的輸送路徑的第八輸送區(qū)間。
19.如權(quán)利要求18所述的基板處理裝置，其特征在于沿著所述輸送方向，所述第八輸送區(qū)間的長度比所述基板的尺寸短。
20.如權(quán)利要求18所述的基板處理裝置，其特征在于在所述第八輸送區(qū)間和所述第一輸送區(qū)間的邊界附近，具有將沿著所述輸送線路周圍的空間分割成上游側(cè)和下游側(cè)用的第三隔壁。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，基板(G)利用其撓性在基板全長的一部分上形成類似輸送線路(120)的隆起部(120a)的突筋的基板隆起部(Ga)，以與輸送速度相等的速度使隆起部(Ga)從基板的前端到后端沿與輸送方向相反方向一邊相對移動，一邊通過輸送線路的隆起部(120a)。在向上傾斜路徑(M
文檔編號H01L21/00GK1892423SQ200610094248
公開日2007年1月10日 申請日期2006年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月27日
發(fā)明者小宮洋司, 西村德彥, 八尋俊一 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社