專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對半導體基板、液晶玻璃基板等薄板狀基板(以下稱為“基板”)進行預定的一系列的處理(例如抗蝕劑涂敷處理、顯影處理等)的基板處理裝置。
背景技術：
在過去，已知有對基板進行抗蝕劑涂敷處理、曝光處理、顯影處理等預定的一系列的處理的基板處理裝置。在這樣的基板處理裝置中，曝光處理的所需時間一般大于其它處理的所需時間。為此，已知有下述的基板處理裝置通過設置多個曝光單元，吸收曝光單元的處理能力與其它的處理單元的處理能力的相對的差，來提高基板處理裝置整體的處理效率(比如專利文獻1)。
專利文獻1JP特開平11-16978號公報。
上述基板處理裝置的情況下，另外還需要一個基板運送機構(gòu)，該基板運送機構(gòu)在上述多個曝光單元和其它的處理單元之間將基板運送給多個曝光單元的任一個，進行是否從任一個曝光單元中取出基板的分配和找出作業(yè)。而為了設置進行該分配和找出的基板運送裝置，另外需要新的空間。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述問題而提出的，其目的在于提供一種基板處理裝置，在設置向已有的復合處理部所新添加的處理單元運送基板的機構(gòu)時，使另外新需要的空間可盡可能的小。
本發(fā)明所述的一種基板處理裝置，包括復合處理部，該復合處理部具有對基板進行預定的一系列處理的多個處理單元，其中，在上述復合處理部設置有基板運送機構(gòu)，該基板運送機構(gòu)在上述多個處理單元中的一個和相同的另一個處理單元之間運送上述基板，上述基板運送機構(gòu)以至少其一部分與上述相同的2個處理單元的一部分疊層配置的狀態(tài)設置。
按照該方案，由于以在相同的2個處理單元之間運送基板的基板運送機構(gòu)的至少一部分與這2個處理單元的一部分疊層配置的狀態(tài)設置，故為了設置該基板運送機構(gòu)而所需的空間可以盡可能地減小便可滿足。
另外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板運送機構(gòu)為跨接于上述相同的2個處理單元之間的傳輸帶方式，同時，在上述相同的2個處理單元的每一個上，設置有在各處理單元內(nèi)設置的各部之間進行上述基板的交接的基板運送機械手，該基板運送機械手在與上述基板運送機構(gòu)之間進行上述基板的交接。
按照該方案，由于在各處理單元內(nèi)設置的各個基板運送機械手之間通過傳輸帶方式的基板運送機構(gòu)進行基板的交接，故可以在無需大幅度地改變已有裝置的基本構(gòu)成的情況下，就能設置基板運送機構(gòu)。
另外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，在上述基板運送機構(gòu)中設置有基板朝向改變裝置，該基板朝向改變裝置使運送中的上述基板旋轉(zhuǎn)，改變上述基板的朝向。
按照該方案，由于為了適合于在基板運送目的地的處理單元的處理，可預先在基板運送機構(gòu)中通過基板朝向改變機構(gòu)改變運送中的基板的朝向，故不必預先在基板運送源的處理單元中改變基板朝向，或在運送目的地的處理單元中改變基板的朝向。由此，可以減少為了改變基板的朝向而進行的處理單元內(nèi)的麻煩，故可以不對基板處理的處理能力造成影響，而順利地在上述各處理單元之間運送基板。
此外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板運送機構(gòu)具有基板移送部，其保持上述基板的側(cè)端部，沿水平方向移送上述基板；多個旋轉(zhuǎn)軸，其沿與上述基板的運送方向垂直的方向延伸；多個滾輪，其圍繞該旋轉(zhuǎn)軸而設置，在與上述基板的底部接觸的狀態(tài)下與該旋轉(zhuǎn)軸一起旋轉(zhuǎn)，對上述基板移送部的基板傳送進行導向；開口部，其設置于由這些旋轉(zhuǎn)軸和滾輪構(gòu)成的基板運送路徑上，上述基板朝向改變裝置具有基板保持部，其由與上述基板的底部接觸并保持上述基板的多個長條狀構(gòu)件構(gòu)成；旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其支撐該基板保持部，并使該基板保持部沿水平方向旋轉(zhuǎn)；升降機構(gòu)，其設置于上述開口部，使該旋轉(zhuǎn)機構(gòu)升降，
在上述基板運送路徑上運送上述基板時，上述基板朝向改變裝置成為如下狀態(tài)，即其上述基板保持部的各長條狀構(gòu)件被容置于在上述基板運送路徑的各旋轉(zhuǎn)軸之間形成的第一空間、和在上述基板運送路徑的旋轉(zhuǎn)軸上和上述滾輪的周面之間存在的第二空間中的任意一個空間內(nèi)，在上述基板運送路徑上將上述基板運送到上述被容置的狀態(tài)的上述基板朝向改變裝置的上方時，該基板由通過上述升降機構(gòu)而上升的上述基板保持部保持，通過上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，該基板保持部以90°單位旋轉(zhuǎn)，該基板保持部的各長條狀構(gòu)件在該旋轉(zhuǎn)動作結(jié)束后，通過上述升降機構(gòu)而下降，而容置于上述第一空間或者第二空間的任一個內(nèi)。
按照該方案，由于在基板運送中，基板朝向改變機構(gòu)的基板保持部的長條狀構(gòu)件處于被容置于在基板運送路徑的各旋轉(zhuǎn)軸之間形成的第一空間、和在基板運送路徑的旋轉(zhuǎn)軸上和滾輪的周面之間存在的第二空間中的任意一個空間內(nèi)的狀態(tài)，因此基板朝向改變裝置的存在不會對基板運送路徑上的基板的運送造成妨礙。
另外，由于被運送到容置狀態(tài)的基板朝向改變裝置的上方的基板，由通過升降機構(gòu)而上升的基板保持部保持，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，該基板保持部以90°單位旋轉(zhuǎn)，故可旋轉(zhuǎn)到適合運送目的地的處理單元的處理的朝向。比如，特別有利于運送四邊形的基板的情況。
此外，由于基板保持部的各長條狀構(gòu)件在上述旋轉(zhuǎn)動作結(jié)束后，通過升降機構(gòu)而下降，被容置在第一空間或者第二空間的任一個內(nèi)，故改變基板的朝向后的基板朝向改變機構(gòu)可保持其狀態(tài)而快速地移動到不會對基板的運送造成妨礙的位置。
還有，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板運送機構(gòu)具有運送寬度改變裝置，該運送寬度改變裝置對應于與上述基板運送方向垂直的方向上的上述基板的寬度，改變上述基板移送部的位置。
按照該方案，由于通過運送寬度改變裝置，對應于基板的寬度可改變基板移送部的位置，因此與基板的朝向造成的基板寬度的變化無關而可運送基板，另外，所運送的基板的尺寸不限于1種。
再有，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板移送部，對應于與上述基板運送方向垂直的方向上的上述基板的寬度而設置有多個，并且具有切換機構(gòu)，該切換機構(gòu)對應于所運送的基板的寬度，切換上述基板的運送中使用的基板移送部。
按照該方案，由于運送寬度改變裝置對應于所運送的基板的寬度，使基板運送中使用的基板移送部不同，故可更加正確地進行與基板的寬度相對應的基板運送。
另外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板運送機構(gòu)由第一運送機構(gòu)和第二運送機構(gòu)構(gòu)成，該第一運送機構(gòu)將上述基板從上述相同的2個處理單元中的一方向另一方運送，該第二運送機構(gòu)將基板從該另一方的處理單元運送到上述一方的處理單元。
按照該方案，通過第一運送機構(gòu)和第二運送機構(gòu)，在上述2個相同的處理單元之間，可同時進行下述動作，即將結(jié)束了一方的處理單元中的處理的基板運送到另一方的處理單元的動作，以及將結(jié)束了該另一方的處理單元中的處理的基板再次返回到上述一方側(cè)的處理單元的動作。由此，在上述2個相同的處理單元之間，能夠不會對后續(xù)進行的基板運送造成妨礙而連續(xù)雙向地運送基板，可將基板從一方的處理單元運送到另一方的處理單元后，快速地將基板從該另一方的處理單元返回到原先的處理單元中。
此外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述第一運送機構(gòu)和上述第二運送機構(gòu)疊層配置。
按照該方案，由于第一運送機構(gòu)和第二運送機構(gòu)疊層配置，故可減少設置基板運送機構(gòu)所必需的空間。
再有，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，設置有基板對齊裝置，該基板對齊裝置使上述基板運送方向上的上述基板的緣部處于與上述基板運送方向垂直的狀態(tài)而使上述基板對齊。
按照該方案，由于可在基板運送到上述處理單元之前的階段，通過基板運送機構(gòu)，在正確地修正在運送中產(chǎn)生的基板的位置誤差或朝向的基礎上，將該基板運送到運送目的地的處理單元中。
另外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，上述基板運送機構(gòu)的至少一方的基板運送機械手具有臂部，其為了上述基板的交接而裝載上述基板；基板朝向檢出部，其在從上述基板運送機構(gòu)接收上述基板時，檢測出上述基板運送方向上的上述基板緣部的朝向；動作控制部，其使上述臂部向著與由上述基板朝向檢出部檢測出的上述基板的朝向相對應的方向旋轉(zhuǎn)后，使上述基板裝載于上述臂部上。
按照該方案，由于使臂部向著與由基板朝向檢出部檢測出的基板的朝向相對應的方向旋轉(zhuǎn)，然后，動作控制部將基板裝載于臂部，故設置有該基板運送機械手的處理單元可正確地修正在運送中產(chǎn)生的基板的位置誤差或朝向，可以以正確的姿勢將基板運入到處理單元內(nèi)的各部分。
此外，本發(fā)明所述的基板處理裝置，其中，具有多個上述復合處理部，在一個復合處理部所具有的處理單元、和其它的復合處理部所具有的處理單元之間設置上述基板運送機構(gòu)。
按照該方案，通過基板運送機構(gòu)，在分別設置于上述各復合處理部上的處理單元之間進行基板的傳接，從而可通過設置于各復合處理部上的各個的上述處理單元的全部，或所選擇的任意的處理單元，對1個基板進行處理。
本發(fā)明所述的一種基板處理裝置，包括復合處理部，該復合處理部具有對基板進行預定的包括抗蝕劑涂敷處理或顯影處理的一系列處理的多個處理單元，其中，在上述復合處理部設置有第一接合部，該第一接合部在與對上述基板分別進行曝光處理的2個曝光裝置的一方之間進行上述基板的交接，同時，還具有第二接合部，其在上述復合處理部外設置，與上述2個曝光裝置的另一方之間進行上述基板的交接；基板運送機構(gòu)，其在上述第一接合部和第二接合部之間運送基板，上述基板運送機構(gòu)以至少其一部分與第一接合部以及第二接合部的一部分疊層配置的狀態(tài)設置。
按照該方案，由于在復合處理部設置有與對上述基板分別進行曝光處理的2個曝光裝置的一方之間進行上述基板的交接的第一接合部，在復合處理部之外設置有與上述2個曝光裝置的另一方之間進行上述基板的交接的第二接合部，在第一接合部和第二接合部之間還設置有運送基板的基板運送機構(gòu)，并且上述基板運送機構(gòu)以至少其一部分與第一接合部以及第二接合部的一部分疊層配置的狀態(tài)設置，所以設置該基板運送機構(gòu)所需的空間可以更進一步地減小。


圖1為表示包含本發(fā)明第一實施形式的基板處理裝置的基板處理系統(tǒng)的示意圖；圖2為簡單地表示控制第一復合處理部的第一接合部的控制單元的電路結(jié)構(gòu)的框圖；圖3為表示作為基板運送傳輸帶的一部分的基板運送路徑的立體圖；圖4為表示作為基板運送傳輸帶的一部分的基板移送部的概況的的俯視圖；圖5為表示設置于基板運送傳輸帶上的基板朝向改變裝置的立體圖；圖6為表示基板朝向改變裝置被容置于基板運送路徑的狀態(tài)的俯視圖；圖7為表示基板朝向改變裝置被容置于基板運送路徑的狀態(tài)的俯視圖；圖8為表示基板運送傳輸帶、基板移送部、基板朝向改變裝置和基板運送機械手的位置關系的俯視圖；圖9為概略表示基板運送機械手的機械手手部與基板運送傳輸帶的位置關系的側(cè)視圖；圖10為表示本發(fā)明第二實施形式的基板處理裝置的一部分的圖；圖11為表示本發(fā)明第三實施形式的基板處理裝置的一部分的圖。
具體實施例方式
下面參照附圖，對本發(fā)明的實施形式進行描述。圖1表示包含本發(fā)明第一實施形式的基板處理裝置的基板處理系統(tǒng)A。該基板處理系統(tǒng)A為例如在液晶顯示器用的玻璃基板的處理中承擔照相平版印刷步驟的一部分的裝置，包括第一復合處理部1A和第二復合處理部1B，按照可以采用各個復合處理部，從抗蝕劑涂敷前的清洗處理到抗蝕劑涂敷、曝光、顯影等連續(xù)地依次進行的方式構(gòu)成?；逄幚硌b置1為從該基板處理系統(tǒng)A中除去第一曝光壯裝置101、第二曝光裝置102以外的裝置。
基板處理裝置1包括第一復合處理部1A和第二復合處理部1B。由于第一復合處理部1A和第二復合處理部1B為相同的結(jié)構(gòu)，故以第一復合處理部1A為例進行描述。第一復合處理部1A如該圖所示，包括作為基板供給部的分度器部2；作為復合處理部的清洗單元10、脫水烘焙單元20、抗蝕劑涂敷單元30、預烘焙(pre-bake)單元40、顯影單元80和后烘焙(post-bake)單元90的各處理單元。第一復合處理部1A采用下述的設計結(jié)構(gòu)，其中，其它的處理部與分度器部2呈U字型連接，從而按照所定的運送順序，將從分度器部2供給的基板運送到各單位處理部，同時在各單位處理部處理后，再次將基板返回到上述分度器部2。
分度器部2上設置有裝載容置基板的盒4的盒裝載部、和基板運送機械手3，通過基板運送機械手3，從設置在上述盒裝載部上的盒4取出基板而交接到清洗單元10，并且從后烘焙單元90接收處理后的基板，并容置在原來的盒4中。
清洗單元10具有運入部11、UV臭氧清洗部12、水洗部13、液滴去除部14和運出部15，例如在水平狀態(tài)下運送從分度器部2供給的基板，同時實施清洗處理。
脫水烘焙單元20包括運入部21、加熱部22、緊密貼合強化處理部23和冷卻部24，針對結(jié)束了清洗處理的基板，首先在加熱部22進行加熱處理而去除水分，在緊密貼合強化處理部23涂敷HMDS(六甲基二硅氮烷)，以便提高抗蝕劑的緊密貼合性。最后，在冷卻部24對基板實施冷卻處理。
抗蝕劑涂敷單元30包括運入部31、旋涂部32、減壓干燥部33、邊緣沖洗部34和運出部35，首先，在旋涂部32，在基板的表面上形成均勻的抗蝕劑膜，在減壓干燥部33對其進行減壓烘焙，然后，在邊緣沖洗部34去除基板周緣的不需要的抗蝕劑膜。
預烘焙單元40包括按照多級設置加熱部和冷卻部的2個處理部41，通過設置于這些處理部41之間的機械手42，使基板相對于該處理部41而進出，對基板進行加熱和冷卻處理。
第一曝光裝置101、第二曝光裝置102例如為縮小投影曝光機等的曝光機，對預烘焙后的基板進行曝光。
在復合處理部1A的第一曝光裝置101和預烘焙單元40之間設置第一接合部(處理單元中的1個)60，在復合處理部1B的第二曝光裝置102和預烘焙單元40之間設置第二接合部(處理單元中的1個)61。
在第一接合部60中設置有可容置多個基板的緩沖部601、在預烘焙單元40、曝光裝置101以及緩沖部601之間進行基板的交接的基板運送機械手603、周邊曝光裝置604，并且通過基板運送機械手603將曝光前或曝光后的基板容置于緩沖部601中，使基板可以暫時待命。
在緩沖部601的上方設置有用于將基板運送向第二復合處理部1B的第二接合部61側(cè)的基板運送傳輸帶(基板運送機構(gòu))630。該基板運送傳輸帶630采用疊置在緩沖部601上而設置的結(jié)構(gòu)。通過使基板運送機械手603的臂部上下運動，基板運送機械手603可與緩沖部601或基板運送傳輸帶630的任一個進行基板的交接。
與第一接合部60相同，在第二復合處理部1B側(cè)的第二接合部61上設置有緩沖部611、基板運送機械手613、周邊曝光裝置614。第二接合部61的基板運送機械手613在預烘焙單元等其它的處理單元、曝光裝置102、緩沖部611、以及基板運送傳輸帶630等之間進行基板的交接?；暹\送傳輸帶630經(jīng)過周邊曝光裝置614的上方，從第一復合處理部1A的第一接合部60側(cè)一直延伸設置到和基板運送機械手613之間可進行基板交接的位置。即，基板運送傳輸帶630采用疊層在周邊曝光裝置614上而設置的結(jié)構(gòu)。通過使基板運送機械手613的臂部上下運動，基板運送機械手613可與周邊曝光裝置614或基板運送傳輸帶630的任一個進行基板的交接。
返回到第一復合處理部1A的說明。顯影單元80包括運入部81、顯影部82、水洗干燥部83和運出部84，在顯影部82，比如將顯影液以噴霧形式噴到基板上，同時對基板進行顯影處理。
后烘焙單元90包括運入部91、加熱部92、冷卻部93和運出部94，首先對顯影處理后的基板進行加熱處理，蒸發(fā)去除殘留于基板上的顯影液、清洗液，然后，進行冷卻處理。結(jié)束了在后烘焙單元90處的處理的基板，通過基板運送機械手23，被容置在多個盒4的任一個中。
另外，在圖1中，附圖標記7和8表示基板的裝載臺，在抗蝕劑涂敷單元30和預烘焙單元40之間的基板的交接、或預烘焙單元40和第一曝光單元60的基板運送機械手603之間的基板的交接時，暫時裝載基板。此外，附圖標記70表示將曝光處理后的基板運送到顯影單元80的傳輸帶。
下面對該基板處理系統(tǒng)A的基板處理的流程進行描述。(1)在采用第一復合處理部1A，對基板進行抗蝕劑涂敷、曝光處理、顯影處理等一系列的處理時，毫無疑問可以在第一曝光裝置101進行曝光處理，也可通過基板運送傳輸帶630將基板運送給第二曝光裝置102，在第二曝光裝置102進行曝光處理，另外，也可在第一曝光裝置101和第二曝光裝置102都進行曝光處理。(2)同樣，在采用第二復合處理部1B對基板進行上述一系列的處理時，毫無疑問可以在第一曝光裝置101進行曝光處理，也可在第二曝光裝置102進行曝光處理，還可在第一曝光裝置101和第二曝光裝置102都進行曝光處理。(3)另外，在直到抗蝕劑涂敷為止，在第一復合處理部1A中進行，在第二復合處理部1B進行顯影處理之后的處理的情況下，曝光處理可以在第一曝光裝置101或第二曝光裝置102的任一個中進行，也可以在第一曝光裝置101以及第二曝光裝置102中都進行。(4)同樣，在直到抗蝕劑涂敷為止，在第二復合處理部1B中進行，在第一復合處理部1A中進行顯影處理以后的處理的情況下，對基板的曝光處理既可在第一曝光裝置101或第二曝光裝置102的任一個中進行，也可在第一曝光裝置101和第二曝光裝置102中都進行。如此，對基板進行處理的處理單元可從各個復合處理部、或各曝光裝置中選擇，可實現(xiàn)自由隨意地使用。
圖2為簡單表示控制第一復合處理部1A的第一接合部60的控制單元的電路結(jié)構(gòu)的框圖。另外，第二復合處理部1B的第二接合部61的控制單元也為相同的結(jié)構(gòu)。
控制單元600包括具有CPU、ROM和RAM的接口控制部6001。該接口控制部6001通過LAN·I/F6002，與其它的處理部和主計算機電連接，形成局域網(wǎng)絡(LAN)，在與其它的處理部、主計算機相互獲取各種數(shù)據(jù)的同時，控制第一接合部60的基本動作。在接口控制部6001上連接有具備CPU、ROM和RAM的機械手控制器6003。
機械手控制器6003按照從接口控制部6001接收的、與基板運送機械手603的動作有關的運送命令，使基板運送機械手603進行基板的運送。傳感器6004為檢測出基板是否被保持于基板運送機械手603的臂部上的傳感器。傳感器6004例如由在臂部的前端部的兩端部上各設置一個的光傳感器構(gòu)成，按照由一方的傳感器檢測出基板的時刻、與由另一方的傳感器檢測出基板的時刻的時間差，能夠檢測出基板相對于臂部的位置偏移。
下面對基板運送傳輸帶630進行描述。圖3為表示作為基板運送傳輸帶630的一部分的基板運送路徑的立體圖，圖4為表示作為基板運送傳輸帶630的一部分的基板移送部的概況的俯視圖，圖5為表示設置于基板運送傳輸帶630上的基板朝向改變裝置的立體圖，圖6和圖7為表示基板朝向改變裝置(基板朝向改變裝置)633被收置于基板運送路徑631中的狀態(tài)的俯視圖，圖8為表示基板運送傳輸帶630、基板移送部、基板朝向改變裝置和基板運送機械手的位置關系的俯視圖，圖9為概略表示基板運送機械手的機械手手部與基板運送傳輸帶630的位置關系的側(cè)視圖。
基板運送傳輸帶630包括基板運送路徑631和基板移送部632，在該基板運送傳輸帶630上設置有基板朝向改變裝置633。
基板運送路徑631由旋轉(zhuǎn)軸6311、滾輪6312、支架6313形成。設置有多個旋轉(zhuǎn)軸6311，它們沿著與基板的運送方向垂直的方向延伸。在旋轉(zhuǎn)軸6311上設置有多個滾輪6312，該多個滾輪6312在與基板的底部接觸的狀態(tài)下，與旋轉(zhuǎn)軸6311一起旋轉(zhuǎn)，運送基板。旋轉(zhuǎn)軸6311，在其長度方向的兩端部和長度方向的任意位置，以可旋轉(zhuǎn)的方式被支撐于支架6313上。旋轉(zhuǎn)軸6311按照以下方式設置，即在被軸支撐于支架6313上的狀態(tài)下，滾輪6312的周面位于比支架6313的頂面高的位置。
另外，滾輪6312按照以下方式設定，即從旋轉(zhuǎn)軸6311的周面到滾輪6312的周面的距離大于基板朝向改變裝置633的長條狀構(gòu)件6331a的高度。旋轉(zhuǎn)軸6311通過圖示中省略的驅(qū)動馬達而被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，滾輪6312的周面朝向基板運送方向旋轉(zhuǎn)。該滾輪6312的周面與基板的底部接觸并旋轉(zhuǎn)，由此，將基板向基板運送方向運送。
在基板運送路徑631上，在與基板運送方向垂直的方向的中間部附近，設置有用于設置基板朝向改變裝置633的開口部6314。在開口部6314，僅存在支架6313a，未設置旋轉(zhuǎn)軸6311和滾輪6312。另外，沿著與基板運送方向垂直的方向，在接近中間部的位置上軸支撐旋轉(zhuǎn)軸6311的2個支架6313b上，設置多個深缺口部6315a和淺缺口部6315b，用于容置成為基板朝向改變裝置633的基板保持部的長條狀構(gòu)件。
基板移送部632在本實施形式中，設置有對應于是縱向運送長方形的基板還是橫向運送長方形的基板而選擇性地使用的縱向運送用移送部6321、與橫向運送用移送部6322兩個部分。下面，稱作沿縱向運送或縱向運送的情況，是指使基板的長邊呈平行于基板運送方向的狀態(tài)的運送。另外，稱作沿橫向運送或橫向運送的情況，是指使基板的短邊呈平行于基板運送方向的狀態(tài)的運送。這些縱向運送用移送部6321和橫向運送用移送部6322與和基板運送方向垂直的方向的基板側(cè)端部接觸、保持，沿水平方向移送該基板，對該基板的運送進行引導。
縱向運送用移送部6321包括一對支撐架6321a，該對支撐架6321a沿基板的運送方向延伸，設置于基板的兩側(cè)；旋轉(zhuǎn)滾柱6321b，該旋轉(zhuǎn)滾柱6321b安裝于該支撐架上。旋轉(zhuǎn)滾柱6321b以可旋轉(zhuǎn)的方式在各支撐架6321a上安裝有多個，其旋轉(zhuǎn)軸為與水平方向垂直的方向，沿著與基板運送路徑631相垂直的方向延伸。該旋轉(zhuǎn)滾柱6321b的周面與基板的側(cè)端部接觸并旋轉(zhuǎn)，由此，對基板的運送進行引導。
在各支撐架6321a上，安裝有水平移動用單驅(qū)動缸(運送寬度改變裝置)6321c和垂直移動用雙驅(qū)動缸(運送寬度改變裝置)6321d，該水平移動用單驅(qū)動缸6321c在水平方向上，使支撐架6321a向著與基板運送方向垂直的方向移動，上述垂直移動用雙驅(qū)動缸6321d在垂直方向上，使支撐架6321a移動?？v向運送用移送部6321的各支撐架6321a，通過這些水平移動用單驅(qū)動缸6321c和垂直移動用雙驅(qū)動缸6321d，可在上述水平方向和垂直方向上移動。
橫向運送用移送部6322與縱向運送用移送部6321具有相同的結(jié)構(gòu)，其包括2個支撐架6322a和設置于各支撐架6322a上的多個旋轉(zhuǎn)滾柱6322b。橫向運送用移送部6322的各支撐架6322a，對應運送時基板的寬度，如圖4所示，設置于縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a的外側(cè)。在橫向運送用移送部6322的各支撐架6322a上，安裝有水平移動用單驅(qū)動缸(運送寬度改變裝置)6322c，該水平移動用單驅(qū)動缸6322c在水平方向上，使支撐架6322a向著與基板運送方向垂直的方向移動。
在縱向運送基板時，為了進行與基板的寬度相對應的調(diào)整，縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a通過水平移動用單驅(qū)動缸6321c沿水平方向移動，使旋轉(zhuǎn)滾柱6321b與基板側(cè)端部接觸，通過旋轉(zhuǎn)滾柱6321b的旋轉(zhuǎn)，將基板向基板運送方向下游側(cè)導引。
另外，在橫向運送基板時，首先，縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a，通過垂直移動用雙驅(qū)動缸6321d，退到不妨礙通過橫向運送用移送部6322的各支撐架6322a進行的基板運送的位置。即，變成橫向而寬度擴大的狀態(tài)的基板，在基板運送路徑631上運送時，縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a移動到不與基板接觸的位置、例如基板運送路徑631的上方。此時，垂直移動用雙驅(qū)動缸6321d使縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a向上方移動。
而當變?yōu)闄M向的基板被運送到基板運送路徑631上時，為了進行與基板的寬度相對應的調(diào)整，橫向運送用移送部6322的各支撐架6322a通過水平移動用單驅(qū)動缸6322c而在水平方向上移動，使旋轉(zhuǎn)滾柱6322b與基板側(cè)端部接觸，通過旋轉(zhuǎn)滾柱6322b的旋轉(zhuǎn)，將基板向基板運送方向下游側(cè)導引。
再有，在縱向運送基板時，縱向運送用移送部6321的各支撐架6321a，通過垂直移動用雙驅(qū)動缸6321d，下降到可以通過旋轉(zhuǎn)滾柱6321b保持裝載于基板運送路徑631上的狀態(tài)的基板的側(cè)端部的位置。
基板朝向改變裝置633如圖5所示，包括基板保4持部6331、旋轉(zhuǎn)馬達(旋轉(zhuǎn)裝置)6332與升降機構(gòu)6333。該基板保持部6331由多個長條狀構(gòu)件6331a、6331b構(gòu)成，該多個長條狀構(gòu)件6331a、6331b與基板的底部接觸，并保持基板。在該多個長條狀構(gòu)件6331a的頂面，設置多個進氣口6331c。圖中省略的泵通過進氣口6331c吸入外面的空氣，由此，可將裝載于長條狀構(gòu)件6331a上的狀態(tài)的基板吸附于長條狀構(gòu)件6331a上。這些長條狀構(gòu)件6331a的底部由沿著與它們相垂直的方向延伸的2個長條狀構(gòu)件6331b支撐。但是，這些長條狀構(gòu)件6331a、6331b的數(shù)量是沒有特別限定的。
裝載基板的上述長條狀構(gòu)件6331a如圖6所示，在處于與構(gòu)成基板運送路徑631的多個旋轉(zhuǎn)軸6311平行的狀態(tài)時，設定向長條狀構(gòu)件6331b的安裝位置，使得位于旋轉(zhuǎn)軸6311與旋轉(zhuǎn)軸6311之間(相鄰的滾輪6312的周面與周面之間)。另外，長條狀構(gòu)件6331a從圖6所示的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)90°時，它們的間隔可以按照容納在同一旋轉(zhuǎn)軸6311上設置的多個滾輪6312之間的方式設定，并且按照與支架6313b不干擾的方式設定(參照圖7)。
在2個長條狀構(gòu)件6331b處于與旋轉(zhuǎn)軸6311垂直的狀態(tài)時，如圖6所示，以容納在開口部6314內(nèi)的方式設定其長度以及2個長條狀構(gòu)件6331b之間的間隔。另外，2個長條狀構(gòu)件6331b，從圖6所示的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)90°時，它們之間的間隔按照可以收納于旋轉(zhuǎn)軸6311和旋轉(zhuǎn)軸6311之間(相鄰的滾輪6312的周面與周面之間)的方式設定(參照圖7)。
旋轉(zhuǎn)馬達6332由直接傳動馬達等構(gòu)成，其支撐基板保持部6331，沿水平方向旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)馬達6332的頂部安裝有基板保持部6331，當旋轉(zhuǎn)馬達6332旋轉(zhuǎn)時，基板保持部6331也與旋轉(zhuǎn)馬達6332一起旋轉(zhuǎn)。
升降機構(gòu)6333設置于基板運送路徑631的開口部6314內(nèi)，其底部與圖中省略的垂直移動用驅(qū)動缸連接。通過該垂直移動用驅(qū)動缸的驅(qū)動力，升降機構(gòu)6333在垂直方向上移動(上下移動)時，與升降機構(gòu)6333一起，上述旋轉(zhuǎn)馬達6332和基板保持部6331沿垂直方向移動。
下面參照圖6和圖7，對基板朝向改變裝置633的動作進行描述。如圖6所示，基板朝向改變裝置633，當基板在基板運送路徑631上被運送時，基板保持部6331的各長條狀構(gòu)件6331a，位于可容置于在基板運送路徑631的相鄰的旋轉(zhuǎn)軸6311和滾輪6312之間形成的第一空間內(nèi)的位置，通過旋轉(zhuǎn)馬達6332調(diào)整姿勢，使得長條狀構(gòu)件6331c進到可容置于基板運送路徑631的開口部6314內(nèi)的位置。此時，通過升降機構(gòu)6333，調(diào)整基板保持部6331的高度位置，使得長條狀構(gòu)件6331a的頂面位于滾輪6312的周面的頂部之下的位置。另外，基板朝向改變裝置633的長條狀構(gòu)件6331a處于填入到深缺口部6315a或淺缺口部6315b中的狀態(tài)。由此，在基板運送時，基板朝向改變裝置633處于后退到不與從基板運送路徑631上通過的基板接觸的位置的狀態(tài)。
如上所述，在容置于基板運送路徑631內(nèi)的狀態(tài)的基板朝向改變裝置633的上方，當在基板運送路徑631上運送基板時，基板朝向改變裝置633的升降機構(gòu)6333使基板保持部6331上升，使長條狀構(gòu)件6331b與基板接觸，通過來自進氣口6331c的進氣，將基板吸附于長條狀構(gòu)件6331b上。在將該基板吸附于長條狀構(gòu)件6331b的狀態(tài)下，旋轉(zhuǎn)馬達6332使基板保持部6331旋轉(zhuǎn)90°，處于圖7所示的狀態(tài)。由此，通過基板朝向改變裝置633，將基板的朝向從橫向變?yōu)榭v向，或從縱向變?yōu)闄M向。
在基板保持部6331通過上述旋轉(zhuǎn)馬達6332而旋轉(zhuǎn)動作后，基板保持部6331通過升降機構(gòu)6333而下降。如圖7所示，長條狀構(gòu)件6331a被收置于基板運送路徑631的旋轉(zhuǎn)軸6311上和滾輪6312的周面高度之間的第二空間內(nèi)。另外，長條狀構(gòu)件6331b被容置于基板運送路徑631的相鄰的旋轉(zhuǎn)軸6311和滾輪6312之間形成的第一空間內(nèi)。此時，通過升降機構(gòu)6333，調(diào)整基板保持部6331的高度位置，使得長條狀構(gòu)件6331a的頂面位于滾輪6312的周面的頂部之下的位置。另外，基板朝向改變裝置633的長條狀構(gòu)件6331b處于填入深缺口部6315a中的狀態(tài)。
在上述基板保持部6331的旋轉(zhuǎn)和升降動作后，由于基板朝向改變裝置633中的長條狀構(gòu)件6331a和6331b中的任一個位于構(gòu)成基板運送路徑631的滾輪6312的頂面之下的位置，故即使再次在基板運送路徑631上進行基板的運送，基板朝向改變裝置633的存在也不妨礙基板運送。
另外，如圖8和圖9所示，在基板運送路徑631的基板運送方向的兩側(cè)的終端部形成下述的結(jié)構(gòu)，即在沿著與基板運送方向垂直的方向延伸的支架6313a之上的位置，在旋轉(zhuǎn)軸6311的周面與滾輪6312的周面之間的空間中，進入基板運送機械手603、613的機械手手部603a、613a(臂部，即，裝載基板的部件)。由此，使基板運送機械手603、613的機械手手部603a、613a位于由滾輪6312運送來的基板的下方，當基板位于機械手手部603a、613a的上方時，通過使機械手手部603a、613a上升，將基板裝載于機械手手部603a、613a上。然后，基板通過基板運送機械手603、613，被運送到曝光裝置101、102等。
此外，在上述中，對于基板朝向改變裝置633，說明了以圖6所示的位置為初始位置，從該位置旋轉(zhuǎn)移動到圖7所示的位置而被容置的情況，但是，顯然，也可以把圖7所示的位置作為初始位置，從該位置旋轉(zhuǎn)移動到圖6所示的位置而被收容。另外，如果通過旋轉(zhuǎn)馬達6332的基板保持部6331的旋轉(zhuǎn)為以90°為單位的旋轉(zhuǎn)，則可將基板朝向改變裝置633容置于基板運送路徑631內(nèi)。
另外，本發(fā)明不限于上述實施形式，可進行各種變形。比如，在上述第一實施形式中，采用將曝光裝置用的2臺第一接合部60和第二接合部61通過1臺基板運送傳輸帶630連接的構(gòu)成，但是，如圖10所示的基板處理裝置1’那樣，也可以是第一接合部60和第二接合部61之間通過2臺基板運送傳輸帶630、630’連接的構(gòu)成。由此，可通過2臺基板運送傳輸帶630、630’，同時在上述2個曝光處理單元60、61之間雙向地運送基板，在不妨礙后續(xù)的基板運送的情況下，將基板從其中一個處理單元運送到另一處理單元之后，能快速地將基板從該另一處理單元返回到原來的處理單元。此時，最好基板運送傳輸帶630、630’完全重合設置，或至少有一部分重疊設置。
還有，在上述實施形式中，上述第一和第二實施形式的基板處理器1按照具有第一復合處理部1A和第二復合處理部1B的2臺復合處理部的方式構(gòu)成，但是，也可代替該方式，如圖11所示的第三實施形式的基板處理裝置1”那樣，按照下述方式構(gòu)成，該方式為僅由1臺復合處理部形成，曝光裝置用的接合部為第一接合部60和第二接合部61的2臺，這兩臺的第一接合部60和第二接合部61之間通過2臺基板運送傳輸帶630、630’連接。此時，如第一實施形式的基板處理裝置1那樣，在任何的復合處理部中，無法從抗蝕劑涂敷前的清洗處理進行抗蝕劑涂敷、顯影等處理，但是，通過設置向著曝光裝置101、102的第一接合部60和第二接合部61，可吸收曝光處理過程中的處理能力、與復合處理部1A的其它的處理單元進行的處理的處理能力的相對的差，可提高基板處理裝置1’整體的處理效率。
另外，在上述第三實施形式中，按照通過1臺基板運送傳輸帶630，連接第一接合部60和第二接合部61的方式構(gòu)成。此時，在將基板從第一接合部60運送到第二接合部61后，使基板運送傳輸帶630反向運送，將基板從第二接合部61返回到第一接合部60。由此，與具有2臺基板運送傳輸帶630、630’的情況相比較，雖然處理能力變差，但是結(jié)構(gòu)簡單，可實現(xiàn)第一接合部60和第二接合部61之間的雙向的基板運送。
此外，在上述實施形式中，采用在第一接合部60和第二接合部61之間設置基板運送傳輸帶630等的構(gòu)成，但是，也可采用這樣的構(gòu)成設置2臺第一和第二接合部60、61以外的其它的處理單元，在這些處理單元之間設置基板運送傳輸帶630等。
還有，也可在基板運送傳輸帶630或630’上設置基板對齊機構(gòu)，該基板對齊機構(gòu)將基板對齊，使得成為基板運送方向的基板的邊緣部與基板運送方向垂直的狀態(tài)。比如，設置有對基板運送路徑631上的基板從橫向按壓其兩側(cè)端部的多個部位的機構(gòu)。由此，以該基板的邊緣部處于與基板運送方向垂直的狀態(tài)使基板對齊。
再有，比如，也可使第一和第二接合部60、61中的至少一個的基板運送機械手具有作為基板對齊機構(gòu)的功能。此時，基板運送機械手按照下述方式構(gòu)成，即其包括基板朝向檢出部，該基板朝向檢出部由光傳感器和運算部構(gòu)成，該光傳感器分別設置于為了基板的交接而裝載基板的、前端部形成為四股(只要是多股即可)的機械手手部的前端部中的2個上，在從基板運送傳輸帶630或630’接收基板時，檢測出在前端部裝載基板的情況，該運算部根據(jù)通過設置于這些機械手手部的兩前端部的各光傳感器而檢測出基板的時間差，對基板運送方向的基板緣部的朝向進行運算；動作控制部，該動作控制部使機械手手部旋轉(zhuǎn)到與由該基板朝向檢出部檢測出的基板緣部的朝向相對應的方向、即成為基板緣部與連接機械手手部的兩前端部的直線平行的狀態(tài)，然后，將基板裝載于機械手手部。由此，可在將基板運送到曝光裝置101、102之前的階段，正確地修正在基板運送傳輸帶的運送中已產(chǎn)生的基板的位置誤差、朝向，然后，將該基板投入到成為運送目的地的曝光裝置101、102中。
另外，上述各實施形式中示出的基板處理裝置1、1’、1”的結(jié)構(gòu)和處理，只不過是一個實例，并不限于上述結(jié)構(gòu)和處理。
權利要求
1.一種基板處理裝置，包括復合處理部，該復合處理部具有對基板進行預定的一系列處理的多個處理單元，其特征在于，在上述復合處理部設置有基板運送機構(gòu)，該基板運送機構(gòu)在上述多個處理單元中的一個和相同的另一個處理單元之間運送上述基板，上述基板運送機構(gòu)以至少其一部分與上述相同的2個處理單元的一部分疊層配置的狀態(tài)設置。
2.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板運送機構(gòu)為跨接于上述相同的2個處理單元之間的傳輸帶方式，同時，在上述相同的2個處理單元的每一個上，設置有在各處理單元內(nèi)設置的各部之間進行上述基板的交接的基板運送機械手，該基板運送機械手在與上述基板運送機構(gòu)之間進行上述基板的交接。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述基板運送機構(gòu)中設置有基板朝向改變裝置，該基板朝向改變裝置使運送中的上述基板旋轉(zhuǎn)，改變上述基板的朝向。
4.根據(jù)權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板運送機構(gòu)具有基板移送部，其保持上述基板的側(cè)端部，沿水平方向移送上述基板；多個旋轉(zhuǎn)軸，其沿與上述基板的運送方向垂直的方向延伸；多個滾輪，其圍繞該旋轉(zhuǎn)軸而設置，在與上述基板的底部接觸的狀態(tài)下與該旋轉(zhuǎn)軸一起旋轉(zhuǎn)，對上述基板移送部的基板傳送進行導向；開口部，其設置于由這些旋轉(zhuǎn)軸和滾輪構(gòu)成的基板運送路徑上，上述基板朝向改變裝置具有基板保持部，其由與上述基板的底部接觸并保持上述基板的多個長條狀構(gòu)件構(gòu)成；旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其支撐該基板保持部，并使該基板保持部沿水平方向旋轉(zhuǎn)；升降機構(gòu)，其設置于上述開口部，使該旋轉(zhuǎn)機構(gòu)升降，在上述基板運送路徑上運送上述基板時，上述基板朝向改變裝置成為如下狀態(tài)，即其上述基板保持部的各長條狀構(gòu)件被容置于在上述基板運送路徑的各旋轉(zhuǎn)軸之間形成的第一空間、和在上述基板運送路徑的旋轉(zhuǎn)軸上和上述滾輪的周面之間存在的第二空間中的任意一個空間內(nèi)，在上述基板運送路徑上將上述基板運送到上述被容置的狀態(tài)的上述基板朝向改變裝置的上方時，該基板由通過上述升降機構(gòu)而上升的上述基板保持部保持，通過上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，該基板保持部以90°單位旋轉(zhuǎn)，該基板保持部的各長條狀構(gòu)件在該旋轉(zhuǎn)動作結(jié)束后，通過上述升降機構(gòu)而下降，而容置于上述第一空間或者第二空間的任一個內(nèi)。
5.根據(jù)權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板運送機構(gòu)具有運送寬度改變裝置，該運送寬度改變裝置對應于與上述基板運送方向垂直的方向上的上述基板的寬度，改變上述基板移送部的位置。
6.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板移送部，對應于與上述基板運送方向垂直的方向上的上述基板的寬度而設置有多個，并且具有切換機構(gòu)，該切換機構(gòu)對應于所運送的基板的寬度，切換上述基板的運送中使用的基板移送部。
7.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板運送機構(gòu)由第一運送機構(gòu)和第二運送機構(gòu)構(gòu)成，該第一運送機構(gòu)將上述基板從上述相同的2個處理單元中的一方向另一方運送，該第二運送機構(gòu)將基板從該另一方的處理單元運送到上述一方的處理單元。
8.根據(jù)權利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一運送機構(gòu)和上述第二運送機構(gòu)疊層配置。
9.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，設置有基板對齊裝置，該基板對齊裝置使上述基板運送方向上的上述基板的緣部處于與上述基板運送方向垂直的狀態(tài)而使上述基板對齊。
10.根據(jù)權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板運送機構(gòu)的至少一方的基板運送機械手具有臂部，其為了上述基板的交接而裝載上述基板；基板朝向檢出部，其在從上述基板運送機構(gòu)接收上述基板時，檢測出上述基板運送方向上的上述基板緣部的朝向；動作控制部，其使上述臂部向著與由上述基板朝向檢出部檢測出的上述基板的朝向相對應的方向旋轉(zhuǎn)后，使上述基板裝載于上述臂部上。
11.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，具有多個上述復合處理部，在一個復合處理部所具有的處理單元、和其它的復合處理部所具有的處理單元之間設置上述基板運送機構(gòu)。
12.一種基板處理裝置，包括復合處理部，該復合處理部具有對基板進行預定的包括抗蝕劑涂敷處理或顯影處理的一系列處理的多個處理單元，其特征在于，在上述復合處理部設置有第一接合部，該第一接合部在與對上述基板分別進行曝光處理的2個曝光裝置的一方之間進行上述基板的交接，同時，還具有第二接合部，其在上述復合處理部外設置，與上述2個曝光裝置的另一方之間進行上述基板的交接；基板運送機構(gòu)，其在上述第一接合部和第二接合部之間運送基板，上述基板運送機構(gòu)以至少其一部分與第一接合部以及第二接合部的一部分疊層配置的狀態(tài)設置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，在設置向已經(jīng)存在的復合處理部所新添加的處理單元運送基板的機構(gòu)時，可以盡可能地減少另外新需要的空間?；逄幚硌b置(1)具有對基板進行預定的一系列處理的復合處理部(1A、1B)，其以下述狀態(tài)設置，即在設置于復合處理部(1A)的曝光裝置用的第一接合部(60)和設置于復合處理部(1B)的曝光裝置用的第二接合部(61)之間設置運送基板的基板運送傳輸帶(630)，該基板運送傳輸帶(630)的至少一部分與第一接合部(60)以及第二接合部(61)的一部分疊層配置。
文檔編號H01L21/02GK1718521SQ200510082460
公開日2006年1月11日 申請日期2005年7月5日 優(yōu)先權日2004年7月6日
發(fā)明者谷口竹志 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社